專利名稱:I型凹面光柵分度誤差的檢驗方法
本發(fā)明涉及一種Ⅰ型凹面光柵分度誤差檢驗方法，適用于檢驗凹面光柵的分度精度。
現(xiàn)有的檢驗凹面光柵分度誤差的方法是采用波面比較干涉儀，此方法能半定量地測量衍射波面的質(zhì)量，而無法判定影響衍射波面質(zhì)量的Ⅰ型凹面光柵分度誤差的性質(zhì)和大小。并且采用此方法檢驗不同的Ⅰ型凹面光柵時，參考鏡需調(diào)換。
本發(fā)明的任務(wù)是要提供一種新型的Ⅰ型凹面光柵分度誤差的檢驗方法。它能夠定量地檢驗Ⅰ型凹面光柵的分度誤差。并且由于采用了通過檢查凹面光柵本身正負(fù)級光譜的衍射光束形成的干涉條紋，以確定凹面光柵的分度精度，所以不存在更換參考鏡問題。圖1是本發(fā)明的原理圖。
本發(fā)明的任務(wù)是以如下方式完成的參見圖1從He-Ne激光器(1)射出的光束，經(jīng)凹面反射鏡(4)擴束，并經(jīng)凹面反射鏡(5)準(zhǔn)直之后變?yōu)槠叫泄馐?7)和(7′)，光束(7)直接射入凹面光柵(2)，調(diào)節(jié)凹面光柵(2)，使凹面光柵(2)的+M級光譜沿凹面光柵的表面中心處的法線方向衍射;平行光束(7′)經(jīng)由平面反射鏡(3)反射后，進入凹面光柵(2)，調(diào)節(jié)平面反射鏡(3)，使凹面光柵(2)的-M級光譜也沿光柵表面中心處的法線方向衍射，+M級與-M級衍射光束在空間相會之后產(chǎn)生干涉條紋，干涉條紋的變形量△N(條紋數(shù))與凹面光柵的分度誤差△之間的關(guān)系如A式所示
△N＝ (2△)/(d) ·m (A)d-光柵的刻線間隔m-光譜級數(shù)本發(fā)明制作方便，操作容易，測量精度高，成本較低。
以下將結(jié)合附圖對發(fā)明作進一步的詳細描述。
參照圖1一個有中心孔(8)的凹面反射鏡(5)與另一個凹面反射鏡(4)凹面相對地被固定，兩凹面反射鏡的焦點連線應(yīng)與來自激光器(1)的光束(9)的中心線重合，且兩凹面反射鏡的焦點要重合，這樣，來自激光器(1)的平行光束(9)通過凹面反射鏡(5)的中心孔(8)射向凹面反射鏡(4)，經(jīng)凹面反射鏡(4)反射到凹面反射鏡(5)，由凹面反射鏡(5)射出的光束(7)、(7′)即為平行光束。在平行光束(7)的前方裝有被測工作臺，被測的Ⅰ型凹面光柵(2)放置在被測工作臺上，此工作臺能三維轉(zhuǎn)動，以便調(diào)整入射光束(7)入射到Ⅰ型凹面光柵的角度，使Ⅰ型凹面光柵(2)的+M級光譜沿它的表面中心處的法線方向衍射;在平行光束(7′)的前方裝有平面反射鏡(3)，此平面反射鏡(3)可作三維轉(zhuǎn)動，用以調(diào)整入射光束(7′)，使之經(jīng)此平面反射鏡而入射到Ⅰ型凹面光柵后，-M級光譜沿凹面光柵(2)表面中心處的法線方向衍射。這樣，在+M級與-M級衍射光束的相會處(6)即有干涉條紋產(chǎn)生。在滿足上述條件下，干涉條紋的變形量△N(條紋數(shù))與凹面光柵的分度誤差△之間的關(guān)系如A式所示。由A式可知，同一塊Ⅰ型凹面光柵采用不同級的光譜檢驗時，干涉條紋變形量也不同(級數(shù)越大，干涉條紋變形量越大)。表1是對3塊Ⅰ型凹面光柵采用不同光譜級數(shù)的測定記錄。
表1
勘誤表
權(quán)利要求
1.一種I型凹面光柵分度誤差檢驗方法，其特征在于該方法由凹面反射鏡(4)、(5)和平面反射鏡(3)構(gòu)成。
2.如權(quán)利要求
1所述的Ⅰ型凹面光柵分度誤差檢驗方法，其特征在于凹面反射鏡(4)的焦點與凹面反射鏡(5)的焦點重合。
3.如權(quán)利要求
1所述的Ⅰ型凹面光柵分度誤差檢驗方法，其特征在于平面反射鏡(3)可以三維轉(zhuǎn)動。
4.如權(quán)利要求
1或2所述的Ⅰ型凹面光柵分度誤差檢驗方法，其特征在于被測工作臺可以三維轉(zhuǎn)動。
5.如權(quán)利要求
3所述的Ⅰ型凹面光柵分度誤差檢驗方法，其特征在于被測工作臺可以三維轉(zhuǎn)動。
專利摘要
本發(fā)明公開了一種能定量檢驗I型凹面光柵分度誤差的方法。它通過檢驗I型凹面光柵正負(fù)極光譜的衍射光束形成的干涉條紋，確定I型凹面光柵分度誤差。
文檔編號G01M11/02GK86107454SQ86107454
公開日1988年5月18日 申請日期1986年11月7日
發(fā)明者吳振華 申請人:北京光學(xué)儀器廠導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan