專利名稱：彈底及彈底槽痕跡檢測(cè)儀的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種槍彈痕跡檢測(cè)設(shè)備，尤其指彈底及彈底槽痕跡大小和相互位置關(guān)系的檢測(cè)儀器。
眾所周知，通常利用立體顯微鏡對(duì)彈殼、彈頭上的痕跡，進(jìn)行初步觀察，在初檢基礎(chǔ)上利用比較顯微鏡進(jìn)行彈殼、彈頭痕跡對(duì)比，確定所檢彈殼、彈頭是否同一支槍種的重要依據(jù)，這是槍彈痕跡檢驗(yàn)的一部分重要工作，但是，還有一部分工作是要檢測(cè)出彈殼底部擊針痕跡、排殼挺痕跡、彈底窩痕跡和與彈殼底呈垂直狀態(tài)的彈底槽上的抓子鉤痕跡之間的互相位置關(guān)系，這就是現(xiàn)有技術(shù)尚未解決的問(wèn)題。
鑒此，本實(shí)用新型的目的是提供一種彈底及彈底槽痕跡檢測(cè)儀，把彈殼底上的痕跡和彈殼側(cè)面的彈底槽上痕跡，在顯微放大的同時(shí)，直觀地反映在同一視場(chǎng)平面內(nèi)。
本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的一種彈底及彈底槽痕跡檢測(cè)儀包括左、右光源、左、右聚光鏡、施密特棱鏡、目鏡、反射鏡、照相鏡、照相機(jī)及支持架，其特征是在支持架上的鏡筒內(nèi)左下方設(shè)置一反射鏡組，該反射鏡組上方依次又設(shè)置左半物鏡、左變倍物鏡及可反射轉(zhuǎn)向的直角棱鏡；在支持架上的鏡筒內(nèi)右邊載物臺(tái)上方，依次設(shè)置右半物鏡、右變倍物鏡及立方棱鏡，并且直角棱鏡與立方棱鏡橫向相連通。
上述左、右半物鏡為同一個(gè)物鏡分成兩半構(gòu)成。
上述反射鏡組為反射面相對(duì)、且呈銳角的兩塊反射鏡組成。
由于采用上述方案可以在同一個(gè)視場(chǎng)平面內(nèi)觀察并能精確測(cè)量彈殼底和彈底槽兩痕跡大小和相互位置關(guān)系。
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明。


圖1本實(shí)用新型典型實(shí)施例的光學(xué)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中1、左、右光源，2、左、右聚光鏡，3、子彈殼(試樣)，4、反射鏡組，5、左、右半物鏡，6、左、右變倍物鏡，7、直角棱鏡，8、立方棱鏡，9、施密特棱鏡，10、目鏡，11、反射鏡，12、照相物鏡，13、照相機(jī)，14、支持架，141、載物臺(tái)，142、鏡筒，15、小物鏡。
左、右光源1和左、右聚光鏡2分別組合在支持架14左、右斜上方，分別發(fā)出兩束光聚焦后照射到子彈殼3(橫置在支持架14的載物臺(tái)141上)的彈底(子彈殼底部)痕跡及其垂直的側(cè)面彈底槽(子彈殼外圓柱抓子鉤)痕跡。
在連接支持架14上的一個(gè)豎直鏡筒142內(nèi)的左下方設(shè)置由兩面反射面相對(duì)、且相交成銳角的反射鏡組4，其中一反射鏡的反射面對(duì)著子彈殼3的底部，而另一反射鏡的反射面朝上(兩反射鏡角度可調(diào))，使照射到彈底(子彈殼3底部)的光線經(jīng)反射鏡組4豎直向上反射，使左邊物面展開與右邊物面平行。接著在上述豎直鏡筒142內(nèi)的反射鏡組4上方設(shè)置左半物鏡5(子彈殼3左上方)，依次向上還設(shè)置左變倍物鏡6、直角棱鏡7；該直角棱鏡7可反射轉(zhuǎn)向(即可繞豎直軸線轉(zhuǎn)動(dòng))，使光線經(jīng)直角棱鏡7后，進(jìn)入與橫向位置相通(同高度)的右邊的立方棱鏡8。
在上述豎直鏡筒142內(nèi)的右下方設(shè)置右半物鏡5(子彈殼3上方)，使照射到彈底槽(子彈殼3外圓柱抓子鉤)痕跡的光線反射到右半物鏡5、依次向上還設(shè)置右變倍物鏡6、立方棱鏡8及小物鏡15；該右半物鏡5與左半物鏡5系采用同一個(gè)物鏡分成兩半部而制成，保持左、右兩光路的物方視場(chǎng)中心重合。
通過(guò)直角棱鏡7和立方棱鏡8，把左、右兩條光路的物鏡對(duì)兩平行物面的緣合成，實(shí)現(xiàn)了物面展開成像在一個(gè)像平面上。
此外，在上述豎直鏡筒142內(nèi)的頂部設(shè)置施密特棱鏡9、目鏡10，作目視觀察；還設(shè)有反射鏡11(平行的雙反射鏡)、照相物鏡12及照相機(jī)13，作精確測(cè)量(大小和位置)。
本實(shí)施例的光學(xué)系統(tǒng)原理及其操作將子彈殼3橫放置在載物臺(tái)141上，一路由左光源1發(fā)出的一束光，經(jīng)左聚光鏡2聚焦后照射到子彈殼3底部的痕跡上，經(jīng)反射鏡組4、左半物鏡5、左變倍物鏡6、直角棱鏡7至立方棱鏡8；另一路由右邊光源1，經(jīng)右聚光鏡2照射到子彈殼測(cè)面彈底槽的痕跡上，經(jīng)右半物鏡5、右變倍物鏡6、立方棱鏡8雙路合像經(jīng)小物鏡15、施密特棱鏡9成像在目鏡10焦面上，用目鏡10觀察，在視場(chǎng)內(nèi)即可看出清晰的像。
當(dāng)移去施密特棱鏡9，由立方棱鏡8、小物鏡15射出的光，經(jīng)反射鏡11、照相物鏡12，成像在照像機(jī)13底片上；若需要很多人觀察研究分析，可卸去照像機(jī)13、裝上攝像機(jī)，通過(guò)監(jiān)視器便可觀察到清晰的圖像。
權(quán)利要求1.一種彈底及彈底槽痕跡檢測(cè)儀包括左、右光源、左、右聚光鏡、施密特棱鏡、目鏡、反射鏡、照相鏡、照相機(jī)及支持架，其特征是在支持架上的鏡筒內(nèi)左下方設(shè)置一反射鏡組，該反射鏡組上方依次又設(shè)置左半物鏡、左變倍物鏡及可反射轉(zhuǎn)向的直角棱鏡；在支持架上的鏡筒內(nèi)右邊載物臺(tái)上方，依次設(shè)置右半物鏡、右變倍物鏡及立方棱鏡，并且直角棱鏡與立方棱鏡橫向相連通。
2.按權(quán)利要求1所述的彈底及彈底槽痕跡檢測(cè)儀，其特征是上述左、右半物鏡為同一個(gè)物鏡分成兩半構(gòu)成。
3.按權(quán)利要求1所述的彈底及彈底槽痕跡檢測(cè)儀，其特征是上述反射鏡組為反射面相對(duì)、且呈銳角的兩塊反射鏡組成。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種槍彈痕跡檢測(cè)設(shè)備，尤其指彈底及彈底槽痕跡大小和相互位置關(guān)系的檢測(cè)儀器。在鏡筒內(nèi)左下方設(shè)置一反射鏡組，該反射鏡組上方依次又設(shè)置左半物鏡、左變倍物鏡及可反射轉(zhuǎn)向的直角棱鏡；在鏡筒內(nèi)右邊載物臺(tái)上方依次設(shè)置右半物鏡、右變倍物鏡及立方棱鏡，并且直角棱鏡與立方棱鏡橫向相連通。從而，可在同一視場(chǎng)平面內(nèi)觀察和測(cè)量到彈殼底和彈底槽兩痕跡大小和相互位置關(guān)系。
文檔編號(hào)G01B9/00GK2200814SQ94215419
公開日1995年6月14日 申請(qǐng)日期1994年6月30日 優(yōu)先權(quán)日1994年6月30日
發(fā)明者解云, 劉清泉, 班茂森, 杜娟, 王重康 申請(qǐng)人:公安部第二研究所, 蕪湖光學(xué)儀器廠