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偏轉(zhuǎn)板位移測量裝置的制造方法

文檔序號:8253766閱讀:252來源:國知局
偏轉(zhuǎn)板位移測量裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于液壓控制領(lǐng)域,特別是偏轉(zhuǎn)板射流式伺服閥技術(shù)領(lǐng)域,具體地是指一種偏轉(zhuǎn)板位移測量裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]伺服閥是伺服系統(tǒng)的核心精密控制元件。偏轉(zhuǎn)板射流式兩級伺服閥廣泛應(yīng)用于航空航天領(lǐng)域,其中偏轉(zhuǎn)板射流式前置級是整閥的關(guān)鍵組件,其性能決定了整閥的性能。因此,偏轉(zhuǎn)板的精確位移,對于前置級特性乃至整閥特性的研究具有重要意義。
[0003]偏轉(zhuǎn)板射流式伺服閥前置級是偏轉(zhuǎn)板射流放大器,包括彈簧管、偏轉(zhuǎn)板、射流盤坐寸O
[0004]文獻“Two-StageServovalve Development Using a First Fluidic Amplifier,Richard Deadwyler, HDL-TM-80-21:26_28”介紹了偏轉(zhuǎn)板射流放大器的工作原理,通過偏轉(zhuǎn)板的機械偏轉(zhuǎn),使得接受器端口形成壓差,控制接受器端口獲得能量的比例來進行力的控制。但是該文獻并沒有涉及到解決偏轉(zhuǎn)板位移測量實際技術(shù)問題的具體技術(shù)方案。
[0005]偏轉(zhuǎn)板的幾何尺寸精度達到微米級,而其偏轉(zhuǎn)分辨率為亞微米級,對其位移的測量為精密測量;同時其受力時位移變化非常敏感,采用接觸式測量方法會對偏轉(zhuǎn)板產(chǎn)生不必要的外力,干擾測量結(jié)果;再者,偏轉(zhuǎn)板裝配完成后處于封閉結(jié)構(gòu)中,直接測量位移較為困難,如果破壞外部結(jié)構(gòu)則會影響磁回路,改變伺服閥的特性,導(dǎo)致測量結(jié)果偏離。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]現(xiàn)有的偏轉(zhuǎn)板裝配完成后處于封閉結(jié)構(gòu)中,難以直接測量偏轉(zhuǎn)板位移,而且,直接測量偏轉(zhuǎn)板位移易對偏轉(zhuǎn)板產(chǎn)生不必要的外力,干擾測量結(jié)果。為了解決上述問題,本發(fā)明提供了一種偏轉(zhuǎn)板位移測量裝置,避免對偏轉(zhuǎn)板的位移產(chǎn)生干擾,實現(xiàn)偏轉(zhuǎn)板位移的精密測量。
[0007]本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:偏轉(zhuǎn)板位移測量裝置,包括非接觸式測量設(shè)備、偏轉(zhuǎn)板射流式伺服閥和測桿延伸段。
[0008]優(yōu)選地,測桿延伸段在偏轉(zhuǎn)板射流式伺服閥整體的外部,與測桿相連接。
[0009]優(yōu)選地,非接觸式測量設(shè)備與測桿延伸段在同一高度。
[0010]優(yōu)選地,測桿延伸段具有可測量的端面。
[0011]優(yōu)選地,測桿延伸段與測桿連接方式為焊接或粘接。
[0012]本發(fā)明中測桿延伸段的位移與偏轉(zhuǎn)板的位移之間存在固定的換算關(guān)系:S卩,測桿延伸段與偏轉(zhuǎn)板同處于剛性的測桿軸線上,測桿延伸段位移與偏轉(zhuǎn)板位移的比例等于測桿延伸段到旋轉(zhuǎn)中心距離與偏轉(zhuǎn)板到旋轉(zhuǎn)中心距離的比例。
[0013]本發(fā)明的有益效果為:
[0014](I)偏轉(zhuǎn)板位移測量裝置增加測桿延伸段,通過測量測桿延伸段的位移計算偏轉(zhuǎn)板的位移,避免了直接測量對伺服閥磁回路的影響;
[0015](2)偏轉(zhuǎn)板位移測量裝置增加測桿延伸段,測桿延伸段在偏轉(zhuǎn)板射流式伺服閥的外部,對測桿延伸段的位移測量,能夠避免對偏轉(zhuǎn)板施加外力而影響偏轉(zhuǎn)板的位移特性;
[0016](3)偏轉(zhuǎn)板位移測量裝置增加測桿延伸段,通過測量測桿延伸段的位移計算偏轉(zhuǎn)板的位移,能夠?qū)崿F(xiàn)偏轉(zhuǎn)板的精確測量。
【附圖說明】
[0017]圖1是偏轉(zhuǎn)板位移測量裝置的示意圖;
[0018]圖2是測桿延伸段的示意圖。
[0019]如圖1至2所示,非接觸式測量設(shè)備1,測桿延伸段2,偏轉(zhuǎn)板3,測桿4。
【具體實施方式】
[0020]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的【具體實施方式】作進一步詳細(xì)的說明。
[0021]如圖1、2所示,測桿4上連接一段測桿延伸段2,使其延伸出偏轉(zhuǎn)板射流式伺服閥整體的外部。被測偏轉(zhuǎn)板射流式伺服閥安裝在測試臺上,非接觸式測量設(shè)備I采用激光位移傳感器。激光傳感器與測桿延伸段2處于同一高度。偏轉(zhuǎn)板3與測桿4垂直連接,偏轉(zhuǎn)板3的移動方向與測桿4移動方向相同,彈簧管圍繞測桿旋轉(zhuǎn)。當(dāng)伺服閥銜鐵組件轉(zhuǎn)過一個角度時,激光位移傳感器在不接觸伺服閥部件的情況下可以測量出此時測桿延伸段2的位移,根據(jù)測桿延伸段2的位移與偏轉(zhuǎn)板3的位移之問的比例關(guān)系,可以計算出偏轉(zhuǎn)板3的位移。由于激光測試不會對測桿4施加外力,因此可以避免對測桿4及偏轉(zhuǎn)板3的位移產(chǎn)生干擾。
[0022]上面結(jié)合附圖對本發(fā)明的實施方式作了詳細(xì)說明,但是本發(fā)明并不限于上述實施方式,在本領(lǐng)域普通技術(shù)人員所具備的知識范圍內(nèi),只要采用了本發(fā)明的構(gòu)思和技術(shù)方案進行了非實質(zhì)性改進,或者未經(jīng)改進,將本發(fā)明的構(gòu)思和技術(shù)方案直接應(yīng)用于其他伺服閥的,均在本發(fā)明的保護范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種偏轉(zhuǎn)板位移測量裝置,包括非接觸式測量設(shè)備、偏轉(zhuǎn)板射流式伺服閥,其特征在于:所述測量裝置還包括測桿延伸段。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏轉(zhuǎn)板位移測量裝置,其特征在于:所述測桿延伸段在偏轉(zhuǎn)板射流式伺服閥整體的外部,與測桿相連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的偏轉(zhuǎn)板位移測量裝置,其特征在于:所述測桿延伸段與測桿連接方式為焊接或粘接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的偏轉(zhuǎn)板位移測量裝置,其特征在于:所述測桿延伸段與非接觸式測量設(shè)備在同一高度。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的偏轉(zhuǎn)板位移測量裝置,其特征在于:所述測桿延伸段具有可測量的端面。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種偏轉(zhuǎn)板位移測量裝置,該裝置屬于液壓控制領(lǐng)域,用于偏轉(zhuǎn)板射流式伺服閥的偏轉(zhuǎn)板位移測量。該偏轉(zhuǎn)板位移測量裝置,包括非接觸式測量設(shè)備(1)、偏轉(zhuǎn)板射流式伺服閥測桿延伸段(2)。測桿延伸段(2)在偏轉(zhuǎn)板射流式伺服閥整體的外部,與測桿相連接。測桿延伸段(2)與測桿的連接方式為焊接或粘接。采用本技術(shù)方案后,可以避免對測桿和偏轉(zhuǎn)板(3)的位移產(chǎn)生干擾,實現(xiàn)偏轉(zhuǎn)板位移的精密測量。
【IPC分類】G01B11-02
【公開號】CN104567686
【申請?zhí)枴緾N201310488933
【發(fā)明人】張恒軒, 楊文祥, 張俊杰, 劉茂林, 韓現(xiàn)會
【申請人】北京精密機電控制設(shè)備研究所, 北京實驗工廠, 中國運載火箭技術(shù)研究院
【公開日】2015年4月29日
【申請日】2013年10月18日
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