分離峰的基線調(diào)整方法和具有基線調(diào)整功能的色譜工作站的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及測試測量技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種分離峰的基線調(diào)整方法和一種具有基線調(diào)整功能的色譜工作站。
【背景技術(shù)】
[0002]目前業(yè)界的色譜儀都提供有色譜工作站，色譜工作站相當于一個上位機，一方面完成對下位機(即色譜儀)的控制，另一方面對下位機采集到的色譜數(shù)據(jù)進行分析處理，以達到對待測樣品的定量分析。
[0003]對待測樣品的定量分析主要依賴于樣品對應(yīng)譜峰的峰面積或者峰高。譜峰的峰面積是指譜峰與基線所圍成的面積，譜峰的峰高是指譜峰頂點到基線的距離。所以基線的位置將直接影響譜峰的峰面積及峰高，進而影響對待測樣品定量分析的準確性，準確確定基線至關(guān)重要。
[0004]按照分離度來劃分，譜峰通常包括分離峰和融合峰這兩種類型，分離峰是指兩峰之間的分離度大于1.5的譜峰，分離峰為單一譜峰；融合峰是指峰與峰之間的分離度小于1.5的譜峰，融合峰包括兩個或兩個以上的譜峰。分離度是指兩個相鄰的譜峰的分離程度，是化學(xué)分析領(lǐng)域?qū)Ｓ忻~，也稱分辨率。按照基線位置來劃分，譜峰通常包括正峰和負峰這兩種類型，正峰的頂點在基線以上，負峰的頂點在基線以下。
[0005]對于分離峰，如圖1 (a)所示，為正分離峰(即分離峰為正峰)的譜圖示意圖；如圖1 (b)所示，為負分離峰(即分離峰為負峰)的譜圖示意圖，譜峰與基線所圍成區(qū)域的面積就是分離峰的峰面積?，F(xiàn)有的色譜工作站一般在完成譜峰識別后自動確定基線，如圖1 (a)和圖1 (b)所示，連接分離峰的起點A和落點(又稱終點)B直接形成基線，圖1 (a)和圖1(b)所示的分離峰與基線不存在貫穿。如果出現(xiàn)基線貫穿，工作站不進行自動調(diào)整，需要實驗員手動調(diào)整。如圖2 (a)和圖2 (b)所示，為分離峰與基線貫穿時的示意圖?；€貫穿時，正分離峰譜圖的某些數(shù)據(jù)點的位置低于預(yù)備基線的位置，負分離峰譜圖的某些數(shù)據(jù)點的位置高于預(yù)備基線的位置，在譜圖上，基線與分離峰具有除起點A和落點B以外的其他交點，如圖2 (a)和圖2 (b)中的交點Cl、C2，交點Cl、C2稱之為貫穿點。
[0006]上述方法至少存在下述缺陷:
[0007]1、色譜工作站自動確定基線后，如果出現(xiàn)基線貫穿而不進行調(diào)整，那么計算出的譜峰的峰面積及峰高不準確，進而影響對待測樣品定量分析的準確性。
[0008]2、如果出現(xiàn)基線貫穿后，由實驗員手動進行基線調(diào)整，一方面，增加一個手動步驟，費時費力，給實驗員的定量分析帶來一定的麻煩；另一方面，手動確定譜峰的起點和落點的位置不準確，肯定會存在一定程度的誤差，最終還會影響到定量分析的準確性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種分離峰的基線調(diào)整方法和一種具有基線調(diào)整功能的色譜工作站，能夠減小對待測樣品的分離峰進行定量分析時的誤差，提高定量分析的準確性；同時，解決手動調(diào)節(jié)基線費時費力的問題。
[0010]本發(fā)明提供了一種分離峰的基線調(diào)整方法，包括如下步驟:
[0011]步驟al，連接分離峰的起點和落點，形成預(yù)備基線；
[0012]步驟a2，判斷所述分離峰與最新形成的預(yù)備基線之間是否存在基線貫穿，若是，則執(zhí)行步驟a3，若否，則執(zhí)行步驟a4 ；
[0013]步驟a3，查找分離峰上的貫穿點，當存在一個貫穿點時，從分離峰的第一端點開始，在分離峰上逐點向分離峰的頂點靠近作為實驗點，連接所述實驗點與分離峰的第二端點形成新的預(yù)備基線，直到不存在基線貫穿，執(zhí)行步驟a4;其中，所述第一端點為起點，所述第二端點為落點；或者所述第一端點為落點，所述第二端點為起點；
[0014]步驟a4，將最新形成的預(yù)備基線作為調(diào)整后的實際基線。
[0015]作為一個舉例說明，本發(fā)明所述第一端點為所述起點，所述實驗點為實驗起點；所述步驟a3包括:查找分離峰上的貫穿點，當存在一個貫穿點且所述貫穿點的位置在所述起點與所述頂點之間時，從所述起點開始，在分離峰上逐點向所述頂點遞增作為實驗起點，連接所述實驗起點與落點形成新的預(yù)備基線，直到不存在基線貫穿，執(zhí)行步驟a4。
[0016]作為一個舉例說明，本發(fā)明所述第一端點為所述落點，所述實驗點為實驗落點；所述步驟a3包括:查找分離峰上的貫穿點，當存在一個貫穿點且所述貫穿點的位置在所述落點與所述頂點之間時，從所述落點開始，在分離峰上逐點向所述頂點遞減作為實驗落點，連接所述起點與實驗落點形成新的預(yù)備基線，直到不存在基線貫穿，執(zhí)行步驟a4。
[0017]作為一個舉例說明，本發(fā)明所述步驟a3還包括:查找分離峰上的貫穿點，當存在兩個貫穿點，且一個貫穿點的位置在所述起點與所述頂點之間，另一個貫穿點的位置在所述落點與所述頂點之間時，獲取分離峰上所述起點到所述頂點之間的第一極值點和所述落點到所述頂點之間的第二極值點；連接第一極值點和第二極值點，形成新的預(yù)備基線，并返回步驟a2。
[0018]作為一個舉例說明，本發(fā)明所述分離峰為正峰時，所述第一極值點為分離峰上所述起點到所述頂點之間的最低點，所述第二極值點為分離峰上所述落點到所述頂點之間的最低點。
[0019]作為一個舉例說明，本發(fā)明所述分離峰為負峰時，所述第一極值點為分離峰上所述起點到所述頂點之間的最高點，所述第二極值點為分離峰上所述落點到所述頂點之間的最聞點。
[0020]相應(yīng)的，本發(fā)明還提供了一種具有基線調(diào)整功能的色譜工作站，包括:
[0021]初始基線單元，用于連接分離峰的起點和落點，形成預(yù)備基線；
[0022]貫穿判斷單元，用于判斷所述分離峰與最新形成的預(yù)備基線之間是否存在基線貫穿，若是，則觸發(fā)基線更新單元，若否，則觸發(fā)基線調(diào)整單元；
[0023]基線更新單元，用于查找分離峰上的貫穿點，當存在一個貫穿點時，從分離峰的第一端點開始，在分離峰上逐點向分離峰的頂點靠近作為實驗點，連接所述實驗點與分離峰的第二端點形成新的預(yù)備基線，直到不存在基線貫穿，觸發(fā)基線調(diào)整單元；其中，所述第一端點為起點，所述第二端點為落點；或者所述第一端點為落點，所述第二端點為起點；
[0024]基線調(diào)整單元，用于將最新形成的預(yù)備基線作為調(diào)整后的實際基線。
[0025]作為一個舉例說明，本發(fā)明所述第一端點為所述起點，所述實驗點為實驗起點；所述基線更新單元用于查找分離峰上的貫穿點，當存在一個貫穿點且所述貫穿點的位置在所述起點與所述頂點之間時，從所述起點開始，在分離峰上逐點向所述頂點遞增作為實驗起點，連接所述實驗起點與落點形成新的預(yù)備基線，直到不存在基線貫穿，觸發(fā)基線調(diào)整單
J Li ο
[0026]作為一個舉例說明，本發(fā)明所述第一端點為所述落點，所述實驗點為實驗落點；所述基線更新單元用于查找分離峰上的貫穿點，當存在一個貫穿點且所述貫穿點的位置在所述落點與所述頂點之間時，從所述落點開始，在分離峰上逐點向所述頂點遞減作為實驗落點，連接所述起點與實驗落點形成新的預(yù)備基線，直到不存在基線貫穿，觸發(fā)基線調(diào)整單
J Li ο
[0027]作為一個舉例說明，本發(fā)明所述基線更新單元還用于查找分離峰上的貫穿點，當存在兩個貫穿點，且一個貫穿點的位置在所述起點與所述頂點之間，另一個貫穿點的位置在所述落點與所述頂點之間時，獲取分離峰上所述起點到所述頂點之間的第一極值點和所述落點到所述頂點之間的第二極值點；以及連接第一極值點和第二極值點，形成新的預(yù)備基線，并觸發(fā)貫穿判斷單元。
[0028]作為一個舉例說明，本發(fā)明所述分離峰為正峰時，所述第一極值點為分離峰上所述起點到所述頂點