可以通過內(nèi)窺鏡或腹腔鏡傳輸，使內(nèi)窺鏡利用OCT系統(tǒng)100成像。參考臂102的光學(xué)長度將與樣品臂104(包括探頭300)的光學(xué)總長度相匹配，以便在樣品臂和參考臂的反射光信號之間形成干涉。探頭遠(yuǎn)端306可直接接觸樣品130，或在探頭遠(yuǎn)端和樣品之間使用中繼光學(xué)設(shè)備。
[0059]圖4表示另外一個實(shí)施例，與基于探頭的系統(tǒng)相關(guān)。在該系統(tǒng)中，半反射鏡250用于探頭300遠(yuǎn)端306和樣品130之間，以提供光干涉。半反射鏡250可適當(dāng)?shù)匕惭b在遠(yuǎn)端306。因此，本實(shí)施例中如圖3所示的參考臂102被拆卸，以使OCT系統(tǒng)100更緊湊。
[0060]對于本文描述的分束器150或半反射鏡250，應(yīng)當(dāng)了解的是，可以根據(jù)預(yù)期應(yīng)用和系統(tǒng)參數(shù)，按照入射光百分比(例如，5/95，10/90，20/80等)對輸入光束進(jìn)行合適的光學(xué)分割或分離。因此，分束器150和本發(fā)明對光的分離不限于50/50的比例，這僅代表分束器的許多可能設(shè)計(jì)之一。技術(shù)人員應(yīng)該了解的是，光分離比率的確定取決于引導(dǎo)至各樣品臂和參考臂中的光量。理想的情況是樣品需要盡可能多的光強(qiáng)，同時使樣品的光強(qiáng)處于一個安全的限度。同時，參考臂需要足夠的光強(qiáng)以限制散粒噪聲的靈敏度。
[0061]盡管前面的描述和附圖代表本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案，但是需要了解的是，各種增補(bǔ)、修改和替換不能背離所附權(quán)利要求對本發(fā)明限定的精神和范圍。本領(lǐng)域技術(shù)人員特別需要了解的是，本發(fā)明可以以其它特定形式、結(jié)構(gòu)、配置、比例、尺寸以及與其它元件、材料和部件來實(shí)施，但不能背離其精神或本質(zhì)特征。因此，本發(fā)明披露的實(shí)施方式應(yīng)當(dāng)被完全地理解為說明性的，而非限制性的，本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求所限定，而并不局限于前述說明。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種并行成像光學(xué)相干斷層掃描系統(tǒng)包括: 一個光源； 一個接收來自光源的入射光的掃描器件。所述掃描器件可進(jìn)行移動掃描，包含多個將入射光分成多條光束的通光孔；和一個干涉儀，包括: 一個分束器，接收掃描器件的多條光束，并將各條光束分成參考光束和米樣光束； 一個參考臂，包括接收分束器分離的多條參考光束并將反射的參考光信號返回到分束器的參考反射鏡； 一個采樣臂，接收分束器分離的多條采樣光束，并同時將多條采樣光束掃描到樣品上; 分束器還接收從參考臂反射回的參考光信號和從樣品反射回的采樣光信號并將其合并，生成以反射的參考光信號和采樣光信號為基礎(chǔ)的干涉信號，以此構(gòu)成干涉圖；和 一個檢測臂，其所配置的檢測器可獲取分束器的干涉信號，并且將輸出信號轉(zhuǎn)換為樣品的數(shù)字化圖像。
2.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，還包括接收來自檢測器的輸出信號并將樣本的數(shù)字化圖像呈現(xiàn)在顯示器上的處理器。
3.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于處理器運(yùn)行信號處理軟件將輸出信號轉(zhuǎn)換成樣品的數(shù)字化圖像。
4.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于所述掃描器件的通光孔是按一定形狀排列的針孔。
5.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于所述光源產(chǎn)生由掃描器件接收的多波長寬帶光。
6.如權(quán)利要求5所述的系統(tǒng)，其特征在于所述光源選自鹵素?zé)?、氙弧燈、超輻射發(fā)光二極管(SLD)、超連續(xù)譜光源、寬帶激光器、波長可調(diào)光源和飛秒激光器等。
7.如權(quán)利要求5所述的系統(tǒng)，其特征在于所述光源是按照掃描模式操作的波長可調(diào)光源。
8.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，還包括耦合到參考反射鏡的振蕩器，使參考反射鏡產(chǎn)生振蕩。
9.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于所述檢測器是從電荷耦合器件(CCD)相機(jī)、互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)相機(jī)以及InGaAs相機(jī)組中選取的圖像傳感器。
10.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于所述參考臂和參考反射鏡被省略，并且還包括在分束器和樣品之間的干涉儀樣品臂中配置的半反射鏡。
11.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于多條采樣光束通過光纖束組成的探頭傳輸至樣品。
12.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于所述掃描器件包括進(jìn)行旋轉(zhuǎn)掃描的旋轉(zhuǎn)盤。
13.一種并行成像光學(xué)相干斷層掃描系統(tǒng)包括: 一個光源； 一個接收來自光源的入射光的掃描器件，所述掃描器件包括: 一個包含微透鏡陣列的采集盤；和 一個孔盤，包括孔徑陣列，并與采集盤安裝在同一旋轉(zhuǎn)軸上，通過微透鏡和孔徑陣列傳輸入射光，并將入射光分成多條光束； 一個干涉儀，包括: 一個分束器，接收孔盤的多條光束，并將各條光束分成參考光束和米樣光束； 一個參考臂，包括接收分束器分離的多條參考光束并將反射的參考光信號返回到分束器的參考反射鏡； 一個采樣臂，接收分束器分離的多條采樣光束，并同時將多條采樣光束掃描到樣品上; 分束器還接收從參考臂反射回的參考光信號和從樣品反射回的采樣光信號并將其合并，生成以反射的參考光信號和采樣光信號為基礎(chǔ)的干涉信號，以此構(gòu)成干涉圖；和 一個檢測臂，其所配置的檢測器可獲取分束器的干涉信號，并且將輸出信號轉(zhuǎn)換為樣品的數(shù)字化圖像。
14.如權(quán)利要求13所述的系統(tǒng)，其特征在于所述微透鏡陣列包含多個微透鏡，所述孔徑陣列包含多個通光孔，各顯微透鏡收集部分入射光并將部分入射光聚焦到孔盤上軸向共同配準(zhǔn)的通光孔。
15.如權(quán)利要求14所述的系統(tǒng)，其特征在于所述采集盤上的微透鏡陣列按一定形狀排列，所述孔徑陣列按互補(bǔ)形狀排列。
16.如權(quán)利要求15所述的系統(tǒng)，其特征在于所述微透鏡和孔徑陣列的形狀為螺旋形組列。
17.如權(quán)利要求13所述的系統(tǒng)，其特征在于所述孔盤的孔徑陣列的通光孔為針孔形。
18.如權(quán)利要求13所述的系統(tǒng)，還包括接收來自檢測器的輸出信號并將樣本的數(shù)字化圖像呈現(xiàn)在顯示器上的處理器。
19.如權(quán)利要求13所述系統(tǒng)，其特征在于所述光源產(chǎn)生由掃描器件接收的多波長寬帶光。
20.如權(quán)利要求19所述的系統(tǒng)，其特征在于所述光源選自鹵素?zé)?、氙弧燈、超輻射發(fā)光二極管(SLD)、超連續(xù)譜光源、寬帶激光器、波長可調(diào)光源和飛秒激光器。
21.如權(quán)利要求19所述的系統(tǒng)，其特征在于所述光源是按照掃描模式操作的波長可調(diào)光源。
22.如權(quán)利要求13所述系統(tǒng)，還包括耦合到參考反射鏡上的振蕩器，并且使參考反射鏡產(chǎn)生振蕩。
23.如權(quán)利要求13所述系統(tǒng)，其特征在于所述檢測器是從電荷耦合器件(CCD)相機(jī)、互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)相機(jī)以及InGaAs相機(jī)組中選取的圖像傳感器。
24.如權(quán)利要求13所述的系統(tǒng)，其特征在于所述參考臂和參考反射鏡被省略，并且還包括在分束器和樣品之間的干涉儀的樣品臂中的半反射鏡。
25.如權(quán)利要求13所述的系統(tǒng)，其特征在于所述多條采樣光束通過光纖束組成的探針傳輸至樣品。
26.一種使用并行成像光學(xué)相干斷層分析系統(tǒng)進(jìn)行樣品成像的方法，所述方法包括: 提供光學(xué)相干斷層掃描系統(tǒng)，此系統(tǒng)由光源、掃描器件和干涉儀組成，而干涉儀由限定第一條光路的參考臂和限定第二條光路的樣品臂組成； 用光源照射掃描器件； 移動掃描器件進(jìn)行掃描； 通過掃描器件的多個通光孔傳輸光，形成多條光束進(jìn)行移動掃描； 將多條光束分成參考光束和采樣光束； 將多條參考光束傳輸?shù)絽⒖急郏藚⒖急叟渲靡粋€反射參考光信號的反射鏡； 將多條采樣光束傳輸?shù)綐悠繁郏? 將多條采樣光束掃描到樣品表面上； 將從參考臂反射回的參考光信號和從樣品反射回的采樣光信號合并，生成以反射的參考光信號和采樣光信號為基礎(chǔ)的干涉信號，以此構(gòu)成干涉圖； 使用檢測器檢測干涉儀檢測臂中的干涉信號；和 檢測器生成構(gòu)成干涉圖的輸出信號，轉(zhuǎn)換成樣品的數(shù)字化圖像。
27.如權(quán)利要求26所述方法，還包括將檢測器的輸出信號轉(zhuǎn)換成樣品的數(shù)字化圖像的計(jì)算機(jī)處理器。
28.如權(quán)利要求26所述方法，還包括振蕩參考臂的反射鏡。
29.如權(quán)利要求26所述方法，其特征在于所述掃描器件包括孔盤，所述通光孔設(shè)置在所述孔盤中。
30.如權(quán)利要求26所述方法，還包含: 照射具有互補(bǔ)通光孔的孔盤之前，使用光源照射由微透鏡陣列組成的采集盤；和 通過微透鏡陣列將光傳輸?shù)綆Щパa(bǔ)通光孔的孔盤上。
31.如權(quán)利要求29所述方法，還包括在兩種照射步驟中，同步旋轉(zhuǎn)采集盤和孔盤。
32.如權(quán)利要求26所述方法，其特征在于所述光源產(chǎn)生的光為寬帶光。
【專利摘要】并行成像光學(xué)相干斷層掃描系統(tǒng)。在一個實(shí)施方案中，該系統(tǒng)包括光源、移動掃描器件、包含參考臂和樣品臂的干涉儀。掃描器件包括由光源發(fā)出的入射光照射的多個通光孔。掃描器件產(chǎn)生多條發(fā)送到干涉儀的光束。各條光束均被分離成多條參考光束和采樣光束。采樣光束被掃描到樣品上，通過樣品臂反射采樣光信號，采樣光信號與參考臂的反射參考光信號結(jié)合。干涉圖形的形成由圖像傳感器檢測和處理，產(chǎn)生所述樣品的數(shù)字圖像。在一些實(shí)施例中，掃描器件可以包含微透鏡陣列。同時還提供了相關(guān)的掃描方法。
【IPC分類】G01B9-02
【公開號】CN104870930
【申請?zhí)枴緾N201380063585
【發(fā)明人】周超
【申請人】周超
【公開日】2015年8月26日
【申請日】2013年12月6日
【公告號】WO2014089504A1