對角度檢測產(chǎn)生影響。
[0068] 在絕對式編碼器30中，使發(fā)光機構(gòu)32 (出射面36)位于比受光機構(gòu)33 (受光區(qū)域 33a)更靠半徑方向Dr正側(cè)（在半徑方向Dr上觀察時的外側(cè)），據(jù)此使照射軸線Ar相對于 包含旋轉(zhuǎn)軸線方向Da和受光軸線方向Dp的面傾斜。為此，在絕對式編碼器30中，能夠以 簡單的結(jié)構(gòu)可靠地防止反射檢測光Lr到達受光區(qū)域33a。
[0069] 在絕對式編碼器30中，以防止內(nèi)端檢測光Le在受光區(qū)域33a的在半徑方向Dr上 觀察的外端位置反射的外端反射檢測光Lre在刻度盤31上再次反射而到達受光區(qū)域33a 的方式設定內(nèi)端入射角度Θ來設定發(fā)光機構(gòu)32和受光機構(gòu)33的位置關(guān)系。為此，在絕對 式編碼器30中，即使在受光機構(gòu)33的受光區(qū)域33a將檢測光L(反射檢測光Lr)反射，且 反射檢測光Lr在刻度盤31的背面31a(鍍鉻）上再次反射，無論反射檢測光Lr反射的位 置或行進方向如何，都可以可靠地防止上述反射檢測光Lr到達受光區(qū)域33a。
[0070] 在絕對式編碼器30中，基于發(fā)光機構(gòu)32的出射面36的位置、受光機構(gòu)33的受光 區(qū)域33a的寬度尺寸^和位置來設定照射軸線Ar相對于包含旋轉(zhuǎn)軸線方向Da和受光軸線 方向Dp的面的傾斜度。為此，在絕對式編碼器30中，基于射出檢測光L的部位和不想使反 射檢測光Lr到達的部位來設定照射軸線Ar的傾斜度，因而可以可靠地防止反射檢測光Lr 到達受光區(qū)域33a。
[0071] 在絕對式編碼器30中，以使照射軸線Ar相對于旋轉(zhuǎn)軸線方向Da傾斜的方式設定 發(fā)光機構(gòu)32和受光機構(gòu)33的位置關(guān)系，因而可防止上述成對的發(fā)光機構(gòu)32和受光機構(gòu) 33 (檢測機構(gòu)）在相對于刻度盤31的旋轉(zhuǎn)中心呈旋轉(zhuǎn)對稱的位置設置多個組的復雜性。為 此，在絕對式編碼器30中，可更加恰當?shù)貦z測角度。
[0072] 由于測量裝置10搭載有絕對式編碼器30,因而可獲得上述的各效果，并可由測量 單元更加恰當?shù)販y量方向。
[0073] 因此，在作為本發(fā)明的絕對式編碼器的一個實施例的絕對式編碼器30中，可抑制 制造成本的增加，并防止由受光區(qū)域33a和刻度盤31之間的檢測光L的反射所引起的角度 檢測精度的下降。
[0074](實施例2)
[0075] 接著，利用圖12來說明本發(fā)明的實施例2的絕對式編碼器30A和搭載有上述絕對 式編碼器30A的測量裝置10。圖12中為了容易地理解設定發(fā)光機構(gòu)32和受光機構(gòu)33相 對于刻度盤31 (其刻度區(qū)域35)的位置關(guān)系的形態(tài)而示意性地示出，不一定與實際的形態(tài) 及其他附圖一致。
[0076] 上述實施例2的絕對式編碼器30A為考慮到受光機構(gòu)33傾斜設置的情況而設定 照射軸線Ar相對于包含旋轉(zhuǎn)軸線方向Da和受光軸線方向Dp的面的傾斜度的例子。上述 實施例2的絕對式編碼器30A的基本結(jié)構(gòu)與上述的實施例1的絕對式編碼器30相同，因而 對于相同結(jié)構(gòu)的部分，標注相同的附圖標記，并省略其詳細說明。另外，實施例2的測量裝 置10除了搭載實施例2的絕對式編碼器30A之外，與實施例1相同，因而利用圖1，并省略 詳細說明。
[0077] 首先，為了設定上述傾斜度，如圖12所示，將受光機構(gòu)33(其受光區(qū)域33a)相對 于刻度盤31的傾斜角度、即受光機構(gòu)33 (受光區(qū)域33a)相對于作為刻度盤31延伸的方 向的半徑方向Dr的傾斜角度設為受光傾斜角度f。另外，將在受光區(qū)域33a反射之后在刻 度盤31的背面31a(鍍鉻）上反射的外端反射檢測光Lre相對于受光機構(gòu)33 (其受光區(qū) 域33a)延伸的方向所成的角度設為反射光傾斜角度α。將沿著受光機構(gòu)33 (其受光區(qū)域 33a)延伸的方向觀察時，受光區(qū)域33a的半徑方向Dr正側(cè)的端部（在半徑方向Dr上觀察 的外端位置）與外端反射檢測光Lre在刻度盤31的背面31a(鍍鉻）上反射而到達從受光 區(qū)域33a的內(nèi)端位置向半徑方向Dr內(nèi)側(cè)延長的面上時的位置的間隔設為外端反射檢測光 Lre的入射位置k'。另外，將在上述入射位置k'的半徑方向Dr上觀察的間隔設為入射位 置k。這里，由于受光機構(gòu)33 (受光區(qū)域33a)傾斜，因而將在旋轉(zhuǎn)軸線方向Da上觀察時，受 光區(qū)域33a的外端位置與作為反射面的刻度盤31的背面31a(鍍鉻）的間隔設為軸線方向 距離Hds。
[0078] 內(nèi)端入射角度Θ與實施例1相同，可如下表示。
[0079] Θ =tan1 (DLS/HLS)
[0080] 另外，如下所述，設定入射位置k'和入射位置k，并設定以下的條件。
[0081]
[0082]
[0083]
[0084] 為此，在絕對式編碼器30A中，以滿足上述條件的方式設定內(nèi)端入射角度Θ以及 發(fā)光機構(gòu)32和受光機構(gòu)33相對于刻度盤31 (其刻度區(qū)域35)的位置關(guān)系，據(jù)此可以可靠 地防止外端反射檢測光Lre到達受光區(qū)域33a。因此，在絕對式編碼器30Α中，即使在受光 機構(gòu)33的受光區(qū)域33a將檢測光L(反射檢測光Lr)反射，且上述反射檢測光Lr在刻度盤 31的背面31a(鍍鉻）上再次反射，無論上述反射檢測光Lr反射的位置或行進方向如何，都 可以可靠地防止上述反射檢測光Lr到達受光區(qū)域33a。
[0085] 實施例2的絕對式編碼器30A的結(jié)構(gòu)與實施例1的絕對式編碼器30的結(jié)構(gòu)基本 上相同，因而可獲得與實施例1基本上相同的效果。
[0086] 除此之外，在實施例2的絕對式編碼器30A中，假設受光機構(gòu)33 (其受光區(qū)域33a) 設置成相對于刻度盤31延伸的方向（存在的方向）傾斜受光傾斜角度Φ的情況來設定照 射軸線Ar相對于包含旋轉(zhuǎn)軸線方向Da和受光軸線方向Dp的面的傾斜度。為此，在絕對式 編碼器30A中，例如，考慮到受光機構(gòu)33 (其受光區(qū)域33a)的組裝公差或制造公差來設定 受光傾斜角度*P，據(jù)此無需嚴格地管理制造工序的精度，就可以防止反射檢測光Lr到達受 光區(qū)域33a。由此，在絕對式編碼器30A中，可抑制制造成本的增加，并可以防止反射檢測光 Lr到達受光區(qū)域33a。
[0087] 由于測量裝置10 (參照圖1)搭載有絕對式編碼器30A，因而可獲得上述的各效果， 并可由測量單元更恰當?shù)販y量方向。
[0088] 因此，在本發(fā)明的實施例2的絕對式編碼器30A中，可抑制制造成本的增加，并可 以防止由受光區(qū)域33a與刻度盤31之間的檢測光L的反射所引起的角度檢測精度的下降。
[0089] 此外，在實施例2中，示出在實施例1的絕對式編碼器30中受光機構(gòu)33 (其受光 區(qū)域33a)傾斜地設置的情況。然而，也可以在下述的實施例3至實施例7的絕對式編碼器 (30B至30F)中傾斜地設置受光機構(gòu)33 (其受光區(qū)域33a)，并不局限于上述的實施例2的 結(jié)構(gòu)。
[0090](實施例3)
[0091] 接著，利用圖13來說明本發(fā)明的實施例3的絕對式編碼器30B和搭載有上述絕對 式編碼器30B的測量裝置10。在圖13中，為了容易地理解設定發(fā)光機構(gòu)32B和受光機構(gòu) 33相對于刻度盤31 (其刻度區(qū)域35)的位置關(guān)系的狀態(tài)而示意性地示出，不一定與實際的 形態(tài)及其他附圖一致。
[0092] 上述實施例3的絕對式編碼器30B為發(fā)光機構(gòu)32B的結(jié)構(gòu)與實施例1的絕對式編 碼器30不同的例子。由于上述實施例3的絕對式編碼器30B的基本結(jié)構(gòu)與上述的實施例1 的絕對式編碼器30相同，因而對于相同的部件，標注同一附圖標記，并省略其詳細說明。另 外，實施例3的測量裝置10除了搭載實施例3的絕對式編碼器30B之外，與實施例1相同， 因而利用圖1，并省略詳細說明。
[0093] 首先，說明絕對式編碼器30B的發(fā)光機構(gòu)32B的結(jié)構(gòu)。如圖13所示，發(fā)光機構(gòu)32B 具有發(fā)光部38和反射部39。上述發(fā)光部38為了朝向刻度盤31的刻度區(qū)域35射出檢測 光L而朝向反射部39射出檢測光L，發(fā)光面（出射面）在發(fā)光機構(gòu)32B中作為射出檢測光 L的出射面36來發(fā)揮作用。在實施例3中，發(fā)光部38利用發(fā)光二極管構(gòu)成。
[0094] 反射部39朝向刻度盤31的刻度區(qū)域35反射從發(fā)光部38 (其出射面36)射出的 檢測光L。在實施例3中，上述反射部39使用平板狀的反射鏡構(gòu)成。為此，發(fā)光機構(gòu)32B從 發(fā)光部38 (出射面36)射出檢測光L，并在反射部39 (反射面）反射上述檢測光L，據(jù)此利 用檢測光L照射刻度盤31的刻度區(qū)域35。
[0095] 接著，說明絕對式編碼器30B中的照射軸線Ar相對于包含旋轉(zhuǎn)軸線方向Da和受 光軸線方向Dp的面的傾斜度的設定。在上述絕對式編碼器30B中，發(fā)光機構(gòu)32B由發(fā)光部 38和反射部39構(gòu)成，因而使用軸線方向距離HMS和軸線方向距離Η?Μ來替代軸線方向距離 (參照圖11)。上述軸線方向距離HMS表示在旋轉(zhuǎn)軸線方向Da上觀察時，反射部39的旋 轉(zhuǎn)軸線方向Da負側(cè)的端部（上旋轉(zhuǎn)軸線方向Da上觀察的下端位置）與受光機構(gòu)33的受 光區(qū)域33a的旋轉(zhuǎn)軸線方向Da正側(cè)的端部（在旋轉(zhuǎn)軸線方向Da上觀察的上端位置）的間 隔。另外，軸線方向距離!^表示在旋轉(zhuǎn)軸線方向Da上觀察時反射部39的旋轉(zhuǎn)軸線方向Da 負側(cè)的端部（在旋轉(zhuǎn)軸線方向Da上觀察的下端位置）與發(fā)光部38的出射面36的旋轉(zhuǎn)軸 線方向Da正側(cè)的端部（在旋轉(zhuǎn)軸線方向Da上觀察的上端位置）的間隔。
[0096] 內(nèi)端入射角度Θ可如下表示。
[0097] Θ = tan1 {DLS/(HLM+HMS)}
[0098] 另外，如下所述，設定入射位置k，并且設定以下的條件。
[0099] Dls/ (Hlm+Hms) - k/ (2 X Hds)
[0100] ffs<k= (2XDlsXHds)/(H lm+Hms)
[0101] 為此，在絕對式編碼器30B中，以滿足上述條件的方式設定內(nèi)端入射角度Θ以及 發(fā)光機構(gòu)32B(發(fā)光部38和反射部39)和受光機構(gòu)33相對于刻度盤31 (其刻度區(qū)域35)的 位置關(guān)系，據(jù)此可以可靠地防止外端反射檢測光Lre到達受光區(qū)域33a。因此，在絕對式編 碼器30B中，即使在受光機構(gòu)33的受光區(qū)域33a將檢測光L(反射檢測光Lr)反射，并且上 述反射檢測光Lr在刻度盤31的背面31a(鍍鉻）上再次反射，無論上述反射檢測光Lr反 射的位置或行進方向如何，都可以可靠地防止上述反射檢測光Lr到達受光區(qū)域33a。
[0102] 實施例3的絕對式編碼器30B的結(jié)構(gòu)與實施例1的絕對式編碼器30的結(jié)構(gòu)基本 上相同，因而可獲得與實施例1基本上相同的效果。
[0103] 除此之外，在實施例3的絕對式編碼器30B中，使發(fā)光機構(gòu)32B從發(fā)光部38 (出射 面36)射出檢測光L，并在反射部39反射，據(jù)此利用檢測光L照射刻度盤31的刻度區(qū)域35。 在上述絕對式編碼器30B中，即使在這樣構(gòu)成發(fā)光機構(gòu)32B的情況下，也能夠以簡單的結(jié)構(gòu) 可靠地防止反射檢測光Lr到達受光區(qū)域33a。
[0104] 另外，在絕對式編碼器30B中，使發(fā)光機構(gòu)32B位于比受光機構(gòu)33更靠半徑方向 Dr正側(cè)（在半徑方向Dr上觀察時的外側(cè)），據(jù)此使照射軸線Ar相對于包含旋轉(zhuǎn)軸線方向 Da和受光軸線方向Dp的面傾斜。為此，在絕對式編碼器30B中，使發(fā)光機構(gòu)32B從發(fā)光部 38 (其出射面36)射出檢測光L，并在反射部39反射，據(jù)此可容易地形成為用檢測光L照射 刻度盤31的刻