基于光場(chǎng)相機(jī)與調(diào)頻激光的彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建探測(cè)裝置及重建方法
【專利摘要】基于光場(chǎng)相機(jī)與調(diào)頻激光的彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建探測(cè)裝置及重建方法，涉及彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建探測(cè)裝置和光學(xué)參數(shù)分布的重建方法。為了解決傳統(tǒng)接觸式測(cè)量的光學(xué)系數(shù)重建過(guò)程中存在的裝置復(fù)雜和無(wú)法區(qū)分各個(gè)方向的輻射強(qiáng)度信號(hào)的問(wèn)題。彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建探測(cè)裝置包括激光控制器、激光頭、至少一個(gè)光場(chǎng)相機(jī)和數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)；本發(fā)明利用光場(chǎng)相機(jī)獲取調(diào)頻激光作用下彌散介質(zhì)邊界各個(gè)方向上的輻射強(qiáng)度信息，通過(guò)模擬彌散介質(zhì)內(nèi)的紅外輻射傳輸過(guò)程，并結(jié)合最優(yōu)化方法，重建得到介質(zhì)內(nèi)部的吸收、散射系數(shù)分布圖像，從而探測(cè)得到彌散介質(zhì)的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。本發(fā)明適用于彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建領(lǐng)域。
【專利說(shuō)明】
基于光場(chǎng)相機(jī)與調(diào)頻激光的彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建探 測(cè)裝置及重建方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001] 本發(fā)明涉及彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建探測(cè)裝置和光學(xué)參數(shù)分布的重建方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 彌散介質(zhì)內(nèi)部光學(xué)參數(shù)分布的重建是通過(guò)分析介質(zhì)邊界的測(cè)量信號(hào)來(lái)反演內(nèi)部 光學(xué)參數(shù)場(chǎng)，由于介質(zhì)內(nèi)部的吸收、散射系數(shù)分布與介質(zhì)內(nèi)部的結(jié)構(gòu)相關(guān)，所以彌散介質(zhì)內(nèi) 部吸收、散射系數(shù)的重建技術(shù)有助于探測(cè)介質(zhì)內(nèi)部幾何結(jié)構(gòu)。作為一種有效的探測(cè)技術(shù)，彌 散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)場(chǎng)重建廣泛應(yīng)用于無(wú)損探測(cè)、光學(xué)成像、紅外遙感、信息處理和故障診斷等 領(lǐng)域。
[0003] 近紅外激光作用于彌散介質(zhì)，會(huì)得到與介質(zhì)內(nèi)部吸收、散射系數(shù)分布相關(guān)的輻射 信號(hào)，所以重建介質(zhì)內(nèi)部吸收、散射系數(shù)首先需要建立模擬激光在介質(zhì)內(nèi)的傳輸模型，以計(jì) 算介質(zhì)邊界的出射輻射信號(hào)。根據(jù)采用激光光源的不同，輻射傳輸模型可以分為穩(wěn)態(tài)(連續(xù) 激光）、時(shí)域(脈沖激光)和頻域(調(diào)頻激光)模型，在這三種模型中，采用調(diào)頻激光的頻域輻 射傳輸模型可以避免時(shí)域模型的技術(shù)限制，同時(shí)能夠提供比穩(wěn)態(tài)模型更多的測(cè)量信息，成 為在輻射反問(wèn)題中最具發(fā)展前景的計(jì)算模型。
[0004] 傳統(tǒng)彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建過(guò)程中，輻射信號(hào)的測(cè)量主要以接觸式的光纖 測(cè)量為主，種接觸式測(cè)量方法需要多光纖通道和光開(kāi)關(guān)來(lái)實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)信號(hào)測(cè)量，裝置復(fù)雜;接 觸式的光纖測(cè)量過(guò)程中，進(jìn)行每次測(cè)量時(shí)都需要設(shè)置多光纖通道，導(dǎo)致該方法的測(cè)量效率 較低，并且利用該方法進(jìn)行光學(xué)系數(shù)重建時(shí)，在測(cè)量次數(shù)較少的情況下，存在病態(tài)特性和吸 收、散射系數(shù)之間的串?dāng)_問(wèn)題，所以需要進(jìn)行多次測(cè)量克服這種問(wèn)題，使得利用光纖進(jìn)行彌 散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建方法的測(cè)量效率較低；同時(shí)，利用光纖進(jìn)行彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù) 分布的重建方法所得的信號(hào)為輻射熱流密度，無(wú)法區(qū)分各個(gè)方向的輻射強(qiáng)度信號(hào)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明為了解決傳統(tǒng)接觸式測(cè)量的光學(xué)系數(shù)重建過(guò)程中存在的裝置復(fù)雜和無(wú)法 區(qū)分各個(gè)方向的輻射強(qiáng)度信號(hào)的問(wèn)題。進(jìn)而提出一種基于光場(chǎng)相機(jī)與調(diào)頻激光的彌散介質(zhì) 光學(xué)參數(shù)分布的重建探測(cè)裝置和基于光場(chǎng)相機(jī)與調(diào)頻激光的彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重 建方法。
[0006] 1、基于光場(chǎng)相機(jī)與調(diào)頻激光的彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建探測(cè)裝置，包括:激 光控制器、激光頭、至少一個(gè)光場(chǎng)相機(jī)和數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)；
[0007]激光控制器的一端(激光控制信號(hào)輸出端)連接激光頭的激光控制信號(hào)輸出端，激 光控制器的另一端連接數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng);激光頭正對(duì)彌散介質(zhì);光場(chǎng)相機(jī)分布在彌散介 質(zhì)的周圍，光場(chǎng)相機(jī)的信號(hào)輸出端連接數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)的輸入端;數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)對(duì) 獲得的輻射場(chǎng)信號(hào)進(jìn)行處理，并計(jì)算得到得到彌散介質(zhì)的光學(xué)參數(shù)場(chǎng)的分布。
[0008] 2、利用所述的基于光場(chǎng)相機(jī)與調(diào)頻激光的彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建探測(cè)裝 置進(jìn)行彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建方法，所述方法包括以下步驟：
[0009] 步驟一:開(kāi)啟激光控制器，使激光頭發(fā)射出的調(diào)頻激光入射到彌散介質(zhì)上，然后將 彌散介質(zhì)旋轉(zhuǎn)η次，并利用激光照射彌散介質(zhì)，n>0;
[0010] 激光頭每發(fā)射一次激光則利用光場(chǎng)相機(jī)采集一次彌散介質(zhì)透射或反射出的輻射 場(chǎng)信號(hào)，然后將獲得的所有輻射場(chǎng)信號(hào)發(fā)送至數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)中，數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)分 別對(duì)其獲得的輻射場(chǎng)信號(hào)進(jìn)行處理，獲得彌散介質(zhì)邊界的出射光譜輻射強(qiáng)度值/=作為測(cè) 量信號(hào)，S代表光源照射序號(hào)，d代表探測(cè)點(diǎn)位置序號(hào)；
[0011]步驟二:假設(shè)彌散介質(zhì)的光學(xué)參數(shù)場(chǎng)為μ13，將μ13帶入頻域輻射傳輸方程，計(jì)算得到 介質(zhì)邊界的透反射輻射強(qiáng)度信號(hào)與步驟一中的測(cè)量信號(hào)<1/構(gòu)成目標(biāo)函數(shù)F(J);
[0012] 步驟三:根據(jù)共輒梯度法更新彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)場(chǎng)的分布值:yk=yk4+Ay，
[0013] k = l,2,···;
[0014] 步驟四：根據(jù)第k步迭代得到的光學(xué)參數(shù)分布μ15，通過(guò)頻域輻射傳輸方程計(jì)算介質(zhì) 邊界的輻射強(qiáng)度信號(hào)計(jì)算目標(biāo)函數(shù)F(y k)，如果目標(biāo)函數(shù)值小于極少值ε，執(zhí)行步驟六； 否則，執(zhí)行步驟五；
[0015] 步驟五:如果迭代次數(shù)k達(dá)到最大迭代次數(shù)Κ，使當(dāng)前的光學(xué)參數(shù)場(chǎng)分布作為初值， 重新開(kāi)始迭代，即令Jiyk，即將值賦予μ* 3,執(zhí)行步驟二;否則，執(zhí)行步驟三；
[0016] 步驟六:將當(dāng)前迭代得到的光學(xué)參數(shù)場(chǎng)作為重建結(jié)果，結(jié)束反演過(guò)程。
[0017]本發(fā)明具有以下效果：
[0018] 在目前的彌散介質(zhì)吸收、散射系數(shù)分布同時(shí)重建研究中，輻射信號(hào)的測(cè)量主要以 接觸式的光纖測(cè)量為主，通過(guò)光場(chǎng)相機(jī)測(cè)量光場(chǎng)信號(hào)的技術(shù)尚未得到應(yīng)用。本發(fā)明利用光 場(chǎng)成像技術(shù)進(jìn)行彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布重建，與傳統(tǒng)成像技術(shù)相比，獲取的信息多出了兩 個(gè)自由度，因而在信息重建中能獲得更加豐富的信息，而且具有系統(tǒng)簡(jiǎn)單、硬件設(shè)備成本 低、結(jié)構(gòu)緊湊，成像效果好，數(shù)據(jù)處理方便等優(yōu)點(diǎn)。
[0019] 本發(fā)明所述的基于光場(chǎng)相機(jī)與調(diào)頻激光的彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建方法能 夠分辨出不同方向的輻射強(qiáng)度。
[0020] 本發(fā)明的方法無(wú)需每次測(cè)量時(shí)都設(shè)置過(guò)多的光纖，且測(cè)量過(guò)程簡(jiǎn)單；與傳統(tǒng)接觸 式測(cè)量相比，本發(fā)明的測(cè)量效率能夠成倍提升。而且本發(fā)明在測(cè)量較少的情況下也能夠有 效的克服光學(xué)系數(shù)重建中的病態(tài)特性和吸收、散射系數(shù)之間的串?dāng)_問(wèn)題。
【附圖說(shuō)明】
[0021 ]圖1本發(fā)明重建探測(cè)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022] 圖2為基于光場(chǎng)相機(jī)與調(diào)頻激光的彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建方法的流程圖。
【具體實(shí)施方式】
【具體實(shí)施方式】 [0023] 一:結(jié)合圖1說(shuō)明本實(shí)施方式，
[0024] 基于光場(chǎng)相機(jī)與調(diào)頻激光的彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建探測(cè)裝置，包括:激光 控制器1、激光頭2、至少一個(gè)光場(chǎng)相機(jī)4和數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)5;
[0025] 激光控制器1的一端(激光控制信號(hào)輸出端)連接激光頭2的激光控制信號(hào)輸出端， 激光控制器1的另一端連接數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)5;激光頭2正對(duì)彌散介質(zhì)3;光場(chǎng)相機(jī)4分布在 彌散介質(zhì)3的周圍，光場(chǎng)相機(jī)4的信號(hào)輸出端連接數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)5的輸入端;數(shù)據(jù)采集處 理系統(tǒng)5對(duì)獲得的輻射場(chǎng)信號(hào)進(jìn)行處理，并計(jì)算得到得到彌散介質(zhì)的光學(xué)參數(shù)場(chǎng)的分布。
【具體實(shí)施方式】 [0026] 二:結(jié)合圖1和圖2說(shuō)明本實(shí)施方式，
[0027] 利用基于光場(chǎng)相機(jī)與調(diào)頻激光的彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建探測(cè)裝置進(jìn)行彌 散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建方法，包括以下步驟：
[0028]步驟一:開(kāi)啟激光控制器1，使激光頭2發(fā)射出的調(diào)頻激光入射到彌散介質(zhì)3上，然 后將彌散介質(zhì)3旋轉(zhuǎn)η次，并利用激光照射彌散介質(zhì)3，n>0;
[0029] 激光頭2每發(fā)射一次激光則利用光場(chǎng)相機(jī)4采集一次彌散介質(zhì)透射或反射出的輻 射場(chǎng)信號(hào)，然后將獲得的所有輻射場(chǎng)信號(hào)發(fā)送至數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)5中，數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng) 5分別對(duì)其獲得的輻射場(chǎng)信號(hào)進(jìn)行處理，獲得彌散介質(zhì)邊界的出射光譜輻射強(qiáng)度值作為 測(cè)量信號(hào)，s代表光源照射序號(hào)，d代表探測(cè)點(diǎn)位置序號(hào)；
[0030] 步驟二:假設(shè)彌散介質(zhì)的光學(xué)參數(shù)場(chǎng)為J，將J帶入頻域輻射傳輸方程，計(jì)算得到 介質(zhì)邊界的透反射輻射強(qiáng)度信號(hào)/&，與步驟一中的測(cè)量信號(hào)構(gòu)成目標(biāo)函數(shù)Fb，；
[0031] 步驟三:根據(jù)共輒梯度法更新彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)場(chǎng)的分布值: 2,…；
[0032] 步驟四：根據(jù)第k步迭代得到的光學(xué)參數(shù)分布μ15，通過(guò)頻域輻射傳輸方程計(jì)算介質(zhì) 邊界的輻射強(qiáng)度信號(hào)/&，計(jì)算目標(biāo)函數(shù)F(y k)，如果目標(biāo)函數(shù)值小于極少值ε，執(zhí)行步驟六； 否則，執(zhí)行步驟五；
[0033]步驟五:如果迭代次數(shù)k達(dá)到最大迭代次數(shù)Κ，使當(dāng)前的光學(xué)參數(shù)場(chǎng)分布作為初值， 重新開(kāi)始迭代，即令'ιμ15，即將值賦予μ*3,執(zhí)行步驟二;否則，執(zhí)行步驟三；
[0034]步驟六:將當(dāng)前迭代得到的光學(xué)參數(shù)場(chǎng)作為重建結(jié)果，結(jié)束反演過(guò)程。
[0035]【具體實(shí)施方式】三：
[0036] 本實(shí)施方式所述的光學(xué)參數(shù)場(chǎng)μ包括彌散介質(zhì)的吸收系數(shù)ya和散射系數(shù)ys，彌散介 質(zhì)的吸收系數(shù)和散射系數(shù)y s的分布圖像是同時(shí)重建的。
[0037] 其它步驟及參數(shù)與【具體實(shí)施方式】二相同。
[0038]【具體實(shí)施方式】四：
[0039] 本實(shí)施方式所述步驟二和步驟四中所述的頻域輻射傳輸方程通過(guò)離散坐標(biāo)法求 解，
[0040] 頻域輻射傳輸方程的表達(dá)式如下：
[0042]其中，i表示虛數(shù)單位，ω為調(diào)制頻率，c為彌散介質(zhì)中的光速，Ω為輻射傳輸方向， ▽表示梯度;ya、ys分別為ya、ys中的元素;r為空間位置，I(r, Ω，ω )為在t時(shí)亥I」、位置為r、調(diào) 頻為ω的輻射強(qiáng)度，Ω 7為輻射入射方向，Ω 7表示立體角；Φ ( Ω、Ω )為彌散介質(zhì)3的散射 相函數(shù);(1Ω'表示微分。
[0043]其它步驟及參數(shù)與【具體實(shí)施方式】二或三相同。
【具體實(shí)施方式】 [0044] 五：
[0045]本實(shí)施方式所述步驟四中目標(biāo)函數(shù)方程的表達(dá)式如下：
[0047] 其中，！Κμ)為正則化項(xiàng)，由廣義馬克爾夫隨機(jī)場(chǎng)模型構(gòu)建得到，用以克服反問(wèn)題的 病態(tài)特性。
[0048] 其它步驟及參數(shù)與【具體實(shí)施方式】二至四之一相同。
【具體實(shí)施方式】 [0049] 六：
[0050]本實(shí)施方式所述步驟三采用的共輒梯度法具體描述如下：
[0051]
[0052] 其中，ak為第k次迭代的步長(zhǎng)，可由一維搜索得到;dk為第k次迭代的下降方向，由當(dāng) 前目標(biāo)函數(shù)梯度和上一次迭代的下降方向決定：
[0053] dk =-VF + ^ld!iA
[0054] 其中，VP為目標(biāo)函數(shù)關(guān)于待重建參數(shù)的梯度，妒為第k次迭代的共輒系數(shù)。
[0055] 其它步驟及參數(shù)與【具體實(shí)施方式】二至五之一相同。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 基于光場(chǎng)相機(jī)與調(diào)頻激光的彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建探測(cè)裝置，其特征在于所 述裝置包括:激光控制器(1)、激光頭(2)、至少一個(gè)光場(chǎng)相機(jī)(4)和數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)(5); 激光控制器（1)的一端連接激光頭（2)的激光控制信號(hào)輸出端，激光控制器（1)的另一 端連接數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)(5);激光頭(2)正對(duì)彌散介質(zhì)（3);光場(chǎng)相機(jī)(4)分布在彌散介質(zhì) (3)的周圍，光場(chǎng)相機(jī)(4)的信號(hào)輸出端連接數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)(5)的輸入端;數(shù)據(jù)采集處理 系統(tǒng)(5)對(duì)獲得的輻射場(chǎng)信號(hào)進(jìn)行處理，并計(jì)算得到得到彌散介質(zhì)的光學(xué)參數(shù)場(chǎng)的分布。2. 利用權(quán)利要求1所述的裝置進(jìn)行彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建方法，其特征在于所 述方法包括以下步驟： 步驟一:開(kāi)啟激光控制器（1)，使激光頭（2)發(fā)射出的調(diào)頻激光入射到彌散介質(zhì)（3)上， 然后將彌散介質(zhì)(3)旋轉(zhuǎn)η次，并利用激光照射彌散介質(zhì)(3)，n>0; 激光頭（2)每發(fā)射一次激光則利用光場(chǎng)相機(jī)(4)采集一次彌散介質(zhì)透射或反射出的輻 射場(chǎng)信號(hào)，然后將獲得的所有輻射場(chǎng)信號(hào)發(fā)送至數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng)(5)中，數(shù)據(jù)采集處理系 統(tǒng)(5)分別對(duì)其獲得的輻射場(chǎng)信號(hào)進(jìn)行處理，獲得彌散介質(zhì)邊界的出射光譜輻射強(qiáng)度值/? 作為測(cè)量信號(hào)，s代表光源照射序號(hào)，d代表探測(cè)點(diǎn)位置序號(hào)； 步驟二:假設(shè)彌散介質(zhì)的光學(xué)參數(shù)場(chǎng)為J，將J帶入頻域輻射傳輸方程，計(jì)算得到介質(zhì) 邊界的透反射輻射強(qiáng)度信號(hào)/&，與步驟一中的測(cè)量信號(hào)構(gòu)成目標(biāo)函數(shù)F(J); 步驟三:根據(jù)共輒梯度法更新彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)場(chǎng)的分布值:Pk = Pk+1+ ΑμΛ=1，2,…； 步驟四：根據(jù)第k步迭代得到的光學(xué)參數(shù)分布yk，通過(guò)頻域輻射傳輸方程計(jì)算介質(zhì)邊界 的輻射強(qiáng)度信號(hào) ，計(jì)算目標(biāo)函數(shù)F(yk)，如果目標(biāo)函數(shù)值小于極少值ε，執(zhí)行步驟六;否則， 執(zhí)行步驟五； 步驟五:如果迭代次數(shù)k達(dá)到最大迭代次數(shù)K，使當(dāng)前的光學(xué)參數(shù)場(chǎng)分布作為初值，重新 開(kāi)始迭代，即令J=Pk，即將以喻值賦予Λ執(zhí)行步驟二;否則，執(zhí)行步驟三； 步驟六:將當(dāng)前迭代得到的光學(xué)參數(shù)場(chǎng)作為重建結(jié)果，結(jié)束反演過(guò)程。3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建方法，其特征在于所述的光學(xué) 參數(shù)場(chǎng)μ包括彌散介質(zhì)的吸收系數(shù)和散射系數(shù)y s，彌散介質(zhì)的吸收系數(shù)和散射系數(shù)以5的 分布圖像是同時(shí)重建的。4. 根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建方法，其特征在于步驟二和 步驟四中所述的頻域輻射傳輸方程通過(guò)離散坐標(biāo)法求解， 頻域輻射傳輸方程的表達(dá)式如下：其中，i表示虛數(shù)單位，ω為調(diào)制頻率，C為彌散介質(zhì)中的光速，Ω為輻射傳輸方向，▽表 示梯度;ya、ys分別為ya、ys中的元素;r為空間位置，I(r, Ω，ω )為在t時(shí)亥I」、位置為r、調(diào)頻為 ω的福射強(qiáng)度，Ω '為福射入射方向，Ω '表不立體角；φ ( Ω '，Ω )為彌散介質(zhì)（3)的散射相 函數(shù);(1Ω '表不微分。5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建方法，其特征在于步驟四中目 標(biāo)函數(shù)方程的表達(dá)式如下：其中，Φ(μ)為正則化項(xiàng)，由廣義馬克爾夫隨機(jī)場(chǎng)模型構(gòu)建得到。6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建方法，其特征在于步驟三采用 的共軛梯度法具體描沭如下：其中，ak為第k次迭代的步長(zhǎng);dk為第k次迭代的下降方向，由當(dāng)前目標(biāo)函數(shù)梯度和上一 次迭代的下降方向決定：其中，VF為目標(biāo)函數(shù)關(guān)于待重建參數(shù)的梯度，櫨為第k次迭代的共輒系數(shù)。7. 根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建方法，其特征在于步驟四中 目標(biāo)函數(shù)方程的表達(dá)式如下：其中，s和d分別代表光源和探測(cè)點(diǎn)的數(shù)量，Φ(μ)為正則化項(xiàng)，由廣義馬克爾夫隨機(jī)場(chǎng)模 型構(gòu)建得到。8. 根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建方法，其特征在于步驟三采 用的共輒梯度法具體描述如下：其中，ak為第k次迭代的步長(zhǎng);dk為第k次迭代的下降方向，由當(dāng)前目標(biāo)函數(shù)梯度和上一 次佚代的下隆方向決宙：其中，VF為目標(biāo)函數(shù)關(guān)于待重建參數(shù)的梯度，櫨為第k次迭代的共輒系數(shù)。9. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的彌散介質(zhì)光學(xué)參數(shù)分布的重建方法，其特征在于步驟三采用 的共輒梯度法具體描述如下：其中，ak為第k次迭代的步長(zhǎng);dk為第k次迭代的下降方向，由當(dāng)前目標(biāo)函數(shù)梯度和上一 次迭代的下降方向決定：其中，VF為目標(biāo)函數(shù)關(guān)于待重建參數(shù)的梯度，櫨為第k次迭代的共輒系數(shù)。
【文檔編號(hào)】G01N21/17GK106018286SQ201610330924
【公開(kāi)日】2016年10月12日
【申請(qǐng)日】2016年5月18日
【發(fā)明人】齊宏, 喬要賓, 阮世庭, 阮立明, 談和平, 周鶩, 蔡小舒
【申請(qǐng)人】哈爾濱工業(yè)大學(xué)