一種斷短路兩端式真空吸引測(cè)試機(jī)構(gòu)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種測(cè)試治具的測(cè)試機(jī)構(gòu)，具體涉及一種斷短路兩端式真空吸引測(cè)試機(jī)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，傳統(tǒng)的測(cè)試方法是使用測(cè)試探針，但其具有:1)測(cè)試點(diǎn)壓傷的疑慮；2)治具成本過(guò)高的問(wèn)題；3)遇到細(xì)線(xiàn)路無(wú)法測(cè)試或?qū)ξ焕щy，需要用導(dǎo)電膠作兩段測(cè)試，工作效率較低。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，我們提出了一種可克服以上問(wèn)題且成本較低的斷短路兩端式真空吸引測(cè)試機(jī)構(gòu)。
[0004]為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下:
[0005]一種斷短路兩端式真空吸引測(cè)試機(jī)構(gòu)，其包括測(cè)試基座，所述測(cè)試基座的上表面上設(shè)有方形的第一測(cè)試區(qū)、與第一測(cè)試區(qū)中其一邊緣相抵靠的條形第二測(cè)試區(qū)、設(shè)于所述第一測(cè)試區(qū)和第二測(cè)試區(qū)上表面上的待測(cè)板、與所述待測(cè)板相鄰設(shè)置且均勻設(shè)于所述第一測(cè)試區(qū)上表面上的若干個(gè)數(shù)據(jù)傳輸端子和設(shè)于所述第二測(cè)試區(qū)下方的氣缸，所述氣缸拖動(dòng)第二測(cè)試區(qū)上下運(yùn)動(dòng)，所述第一測(cè)試區(qū)包括第一真空吸氣室和設(shè)于第一真空吸氣室頂端上的Pcb板或柔性線(xiàn)路板，所述第二測(cè)試區(qū)包括第二真空吸氣室和設(shè)于第二真空吸氣室頂端上的金屬或非金屬板，所述Pcb板或柔性線(xiàn)路板的周邊和金屬或非金屬板上均開(kāi)設(shè)有均勻的若干通孔，所述待測(cè)板上且位于所述第二測(cè)試區(qū)上方設(shè)有條形的待測(cè)物細(xì)出pin端子，所述待測(cè)板和Pcb板或柔性線(xiàn)路板上均設(shè)有相同的測(cè)試點(diǎn)，且與所述待測(cè)物細(xì)出pin端子物理性連接。
[0006]優(yōu)選的，所述待測(cè)板為柔性線(xiàn)路板或觸控面板或血糖裸片。
[0007]優(yōu)選的，所述測(cè)試點(diǎn)為金點(diǎn)、銀點(diǎn)、銅點(diǎn)、炭點(diǎn)或者非金屬導(dǎo)體。
[0008]優(yōu)選的，還包括與所述第一測(cè)試區(qū)的其他三個(gè)邊緣相鄰設(shè)置的待測(cè)板對(duì)位裝置，所述對(duì)位裝置包括設(shè)于第一測(cè)試區(qū)兩邊且與第二測(cè)試區(qū)相互垂直的垂直滑行軌道和設(shè)于所述垂直滑行軌道上的水平滑行軌道，所述水平滑行軌道上還均勻安裝有兩個(gè)CCD或電子顯微鏡，且所述(XD或電子顯微鏡可左右移動(dòng)。
[0009]優(yōu)選的，所述第二待測(cè)區(qū)為金屬或非金屬全短路區(qū)。
[0010]通過(guò)上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型的斷短路兩端式真空吸引測(cè)試機(jī)構(gòu)，測(cè)試點(diǎn)以軟性銀漿或PCb電路板銅點(diǎn)做為接觸點(diǎn)，平面對(duì)平面無(wú)壓傷問(wèn)題，而且分兩段式真空吸引方式可測(cè)一般點(diǎn)對(duì)點(diǎn)接觸測(cè)試，也可測(cè)細(xì)線(xiàn)路全短路量測(cè)斷路及阻值量測(cè)，具有測(cè)試速度快，細(xì)線(xiàn)路無(wú)對(duì)位上困擾，而且測(cè)試治具成本較傳統(tǒng)探針式低。
【附圖說(shuō)明】
[0011]為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0012]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例1所公開(kāi)的一種斷短路兩端式真空吸引測(cè)試機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例1所公開(kāi)的一種斷短路兩端式真空吸引測(cè)試機(jī)構(gòu)中第一測(cè)試區(qū)的分解示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0014]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0015]下面結(jié)合示意圖對(duì)本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。
[0016]實(shí)施例1.
[0017]如圖1、圖2所示，一種斷短路兩端式真空吸引測(cè)試機(jī)構(gòu)，其包括測(cè)試基座1，所述測(cè)試基座I的上表面上設(shè)有方形的第一測(cè)試區(qū)、與第一測(cè)試區(qū)中其一邊緣相抵靠的條形第二測(cè)試區(qū)、設(shè)于所述第一測(cè)試區(qū)和第二測(cè)試區(qū)上表面上的待測(cè)板2、與所述待測(cè)板2相鄰設(shè)置且均勻設(shè)于所述第一測(cè)試區(qū)上表面上的若干個(gè)數(shù)據(jù)傳輸端子3和設(shè)于所述第二測(cè)試區(qū)下方的氣缸4，所述氣缸4拖動(dòng)第二測(cè)試區(qū)上下運(yùn)動(dòng)，達(dá)到測(cè)試斷短路，阻抗的測(cè)試要求，數(shù)據(jù)傳輸端子3與測(cè)試機(jī)相配合，所述第一測(cè)試區(qū)包括第一真空吸氣室5和設(shè)于第一真空吸氣室5頂端上的pcb板或柔性線(xiàn)路板6，所述第二測(cè)試區(qū)包括第二真空吸氣室7和設(shè)于第二真空吸氣室7頂端上的金屬或非金屬板8，所述pcb板或柔性線(xiàn)路板6的周邊和金屬或非金屬板8上均開(kāi)設(shè)有均勻的若干通孔a，所述待測(cè)板2上且位于所述第二測(cè)試區(qū)上方設(shè)有條形的待測(cè)物細(xì)出pin端子9，所述待測(cè)板2和pcb板或柔性線(xiàn)路板6上均設(shè)有相同的測(cè)試點(diǎn)b，且與所述待測(cè)物細(xì)出pin端子9物理性連接。該斷短路兩端式真空吸引測(cè)試機(jī)構(gòu)，可測(cè)一般點(diǎn)對(duì)點(diǎn)接觸測(cè)試，也可測(cè)細(xì)線(xiàn)路全短路量測(cè)斷路及阻值量測(cè)。
[0018]繼續(xù)如圖1、圖2所示，所述待測(cè)板2為柔性線(xiàn)路板或觸控面板或血糖裸片。
[0019]繼續(xù)如圖2所示，所述測(cè)試點(diǎn)b為金點(diǎn)、銀點(diǎn)、銅點(diǎn)、炭點(diǎn)或者非金屬導(dǎo)體，平面對(duì)平面無(wú)壓傷問(wèn)題。
[0020]繼續(xù)如圖1、圖2所示，還包括與所述第一測(cè)試區(qū)的其他三個(gè)邊緣相鄰設(shè)置的待測(cè)板對(duì)位裝置，所述對(duì)位裝置包括設(shè)于第一測(cè)試區(qū)兩邊且與第二測(cè)試區(qū)相互垂直的垂直滑行軌道10和設(shè)于所述垂直滑行軌道10上的水平滑行軌道11，所述水平滑行軌道11上還均勻安裝有兩個(gè)C⑶或電子顯微鏡，且所述CXD或電子顯微鏡可左右移動(dòng)12。
[0021]繼續(xù)如圖1、圖2所示，所述第二待測(cè)區(qū)為金屬或非金屬全短路區(qū)。
[0022]一種斷短路兩端式真空吸引測(cè)試方法，其采用如上任一斷短路兩端式真空吸引測(cè)試機(jī)構(gòu)，所述測(cè)試方法具體步驟如下:
[0023]A.將待測(cè)板即柔性線(xiàn)路板或觸控面板置放于已鋪設(shè)相對(duì)應(yīng)測(cè)試點(diǎn)的pcb板或柔性線(xiàn)路板上，先進(jìn)行測(cè)試點(diǎn)(如圖2中XL X2.X3…Yl.Y2.Y3…)對(duì)位(可通過(guò)上方CXD或電子顯微鏡確認(rèn)對(duì)位是否正確)；
[0024]B.對(duì)位正確后，第一待測(cè)區(qū)和第二待測(cè)區(qū)會(huì)依實(shí)際測(cè)試需求先后分段，讓待測(cè)物的測(cè)試點(diǎn)經(jīng)由pcb板或柔性線(xiàn)路板上的測(cè)試點(diǎn)重合并緊密吸附后(第二待測(cè)區(qū)金屬或非金屬全短路裝置會(huì)依測(cè)試需要，自行判斷是否吸真空及整體下降)，再由測(cè)試主機(jī)測(cè)試所有線(xiàn)間的絕緣，可測(cè)出是否有短路或微短路狀況(如圖2中XL X2.X3…Yl.Y2.Y3…)；
[0025]C.以上動(dòng)作完成后，第二待測(cè)區(qū)金屬或非金屬全短路裝置會(huì)通過(guò)氣缸的動(dòng)作把第二測(cè)試區(qū)第一待測(cè)區(qū)保持水平狀態(tài)，再由抽真空方式將待測(cè)物緊緊吸附，讓待測(cè)物的測(cè)試點(diǎn)經(jīng)由pcb板或柔性線(xiàn)路板區(qū)和金屬或非金屬全短路區(qū)通過(guò)open/short測(cè)試機(jī)進(jìn)行每條線(xiàn)路頭尾:a.電阻值量測(cè)，b.斷線(xiàn)與否的量測(cè)動(dòng)作。
[0026]經(jīng)由B 和 C 可測(cè)試待測(cè)物 Open/Short/Resistance/Insulat1n。
[0027]以上所述的僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本實(shí)用新型創(chuàng)造構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種斷短路兩端式真空吸引測(cè)試機(jī)構(gòu)，其特征在于，其包括測(cè)試基座，所述測(cè)試基座的上表面上設(shè)有方形的第一測(cè)試區(qū)、與第一測(cè)試區(qū)中其一邊緣相抵靠的條形第二測(cè)試區(qū)、設(shè)于所述第一測(cè)試區(qū)和第二測(cè)試區(qū)上表面上的待測(cè)板、與所述待測(cè)板相鄰設(shè)置且均勻設(shè)于所述第一測(cè)試區(qū)上表面上的若干個(gè)數(shù)據(jù)傳輸端子和設(shè)于所述第二測(cè)試區(qū)下方的氣缸，所述氣缸拖動(dòng)第二測(cè)試區(qū)上下運(yùn)動(dòng)，所述第一測(cè)試區(qū)包括第一真空吸氣室和設(shè)于第一真空吸氣室頂端上的PCb板或柔性線(xiàn)路板，所述第二測(cè)試區(qū)包括第二真空吸氣室和設(shè)于第二真空吸氣室頂端上的金屬或非金屬板，所述PCb板或柔性線(xiàn)路板的周邊和金屬或非金屬板上均開(kāi)設(shè)有均勻的若干通氣孔，所述待測(cè)板上且位于所述第二測(cè)試區(qū)上方設(shè)有條形的待測(cè)物細(xì)出pin端子，所述待測(cè)板和pcb板或柔性線(xiàn)路板上均設(shè)有相同的測(cè)試點(diǎn)，且與所述待測(cè)物細(xì)出pin端子物理性連接。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種斷短路兩端式真空吸引測(cè)試機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述待測(cè)板為柔性線(xiàn)路板或觸控面板或血糖裸片。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種斷短路兩端式真空吸引測(cè)試機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述測(cè)試點(diǎn)為金點(diǎn)、銀點(diǎn)、銅點(diǎn)、炭點(diǎn)或者非金屬導(dǎo)體。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種斷短路兩端式真空吸引測(cè)試機(jī)構(gòu)，其特征在于，還包括與所述第一測(cè)試區(qū)的其他三個(gè)邊緣相鄰設(shè)置的待測(cè)板對(duì)位裝置，所述對(duì)位裝置包括設(shè)于第一測(cè)試區(qū)兩邊且與第二測(cè)試區(qū)相互垂直的垂直滑行軌道和設(shè)于所述垂直滑行軌道上的水平滑行軌道，所述水平滑行軌道上還均勻安裝有兩個(gè)CCD或電子顯微鏡，且所述CCD或電子顯微鏡可左右移動(dòng)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種斷短路兩端式真空吸引測(cè)試機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述第二待測(cè)區(qū)為金屬或非金屬全短路區(qū)。
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種斷短路兩端式真空吸引測(cè)試機(jī)構(gòu)，其主要包括測(cè)試基座，所述測(cè)試基座的上表面上設(shè)有方形的第一測(cè)試區(qū)、與第一測(cè)試區(qū)中其一邊緣相抵靠的條形第二測(cè)試區(qū)、設(shè)于所述第一測(cè)試區(qū)和第二測(cè)試區(qū)上表面上的待測(cè)板、與所述待測(cè)板相鄰設(shè)置且均勻設(shè)于所述第一測(cè)試區(qū)上表面上的若干個(gè)數(shù)據(jù)傳輸端子和設(shè)于所述第二測(cè)試區(qū)下方的氣缸，該氣缸拖動(dòng)第二測(cè)試區(qū)上下運(yùn)動(dòng)，達(dá)到測(cè)試斷短路，阻抗的測(cè)試要求。通過(guò)本實(shí)用新型的一種斷短路兩端式真空吸引測(cè)試機(jī)構(gòu)及其方法，克服了測(cè)試點(diǎn)壓傷、治具成本過(guò)高以及細(xì)線(xiàn)路對(duì)位困難等，具有治具成本低，測(cè)試速度快的優(yōu)點(diǎn)。
【IPC分類(lèi)】G01R27/02, G01R31/02, G01R1/04
【公開(kāi)號(hào)】CN204807591
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520528093
【發(fā)明人】柴英豪, 林明輝
【申請(qǐng)人】柴英豪
【公開(kāi)日】2015年11月25日
【申請(qǐng)日】2015年7月21日