一種基于仿生射流減阻原理的漩渦發(fā)生體的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及的是一種流量計(jì)，具體地說是流量計(jì)里的漩渦發(fā)生體。
【背景技術(shù)】
[0002]旋渦發(fā)生體是渦街流量計(jì)中的重要部件，其主要作用是在三維的流場中促使旋渦在管道的軸向發(fā)生同步脫落并與測量元件組合完成對(duì)流量信號(hào)的測量，目前市場上的漩渦發(fā)生體按外形可分為圓柱、梯形柱、三角柱、T形柱、矩形柱發(fā)生體等，按結(jié)構(gòu)可分為單發(fā)生體或雙(多)發(fā)生體。這些渦旋發(fā)生體大都存在渦街強(qiáng)度與流體阻力相矛盾的特點(diǎn)，需要進(jìn)一步改進(jìn)，研制出渦街強(qiáng)度大、漩渦信號(hào)穩(wěn)定性好而且阻力小的渦旋發(fā)生體。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的在于提供對(duì)被測量流體產(chǎn)生的阻力更小的一種基于仿生射流減阻原理的漩渦發(fā)生體。
[0004]本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的:
[0005]本實(shí)用新型一種基于仿生射流減阻原理的漩渦發(fā)生體，其特征是:包括設(shè)置在主管道里的發(fā)生體本體，發(fā)生體本體包括半圓柱體和帶凹面的三角柱形體，半圓柱體的弧面一側(cè)為迎流面，弧面中部設(shè)置大V型槽，大V型槽的兩側(cè)分別設(shè)置小V型槽，大V型槽與小V型槽的開口角度相同，大V型槽的開口深度大于小V型槽的開口深度，三角柱形體設(shè)置在半圓柱體的平面一側(cè)，三角柱形體的凹面背向半圓柱體設(shè)置，半圓柱體和三角柱形體之間設(shè)置狹縫。
[0006]本實(shí)用新型還可以包括:
[0007]1、大V型槽與小V型槽之間開設(shè)有第一類射流孔，相鄰的小V型槽和小V型槽之間開設(shè)有第二類射流孔，半圓柱體的平面與其相鄰的小V型槽之間開設(shè)有第三類射流孔。
[0008]2、第一類射流孔入口的面積大于第二類射流孔和第三類射流孔入口的面積。
[0009]本實(shí)用新型的優(yōu)勢在于:本實(shí)用新型相對(duì)于現(xiàn)有的漩渦發(fā)生體具有更低的迎面阻力，可以產(chǎn)生更高的旋渦發(fā)生頻率，且使漩渦分離更穩(wěn)定。
【附圖說明】
[0010]圖1為本實(shí)用新型的正面示意圖；
[0011]圖2為本實(shí)用新型的側(cè)面示意圖；
[0012]圖3為本實(shí)用新型在流道中工作的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0013]下面結(jié)合附圖舉例對(duì)本實(shí)用新型做更詳細(xì)地描述:
[0014]結(jié)合圖1?3，渦旋發(fā)生體，發(fā)生體由半圓柱形和帶凹面的三角柱型共同組成，在半圓柱上的兩側(cè)開有多個(gè)小的V型槽，小V型槽的數(shù)量可以根據(jù)具體尺寸的不同而發(fā)生改變，并在半圓柱中間開有一個(gè)大的槽用以加開射流孔，射流孔的大小和數(shù)量可以根據(jù)發(fā)生體的尺寸做具體調(diào)整。當(dāng)流體進(jìn)入大V型槽時(shí)，流體從大的V型槽面進(jìn)入射流孔，并從小的V型槽面流出。后面為帶凹面的三角柱型，半圓柱和三角柱形中間帶有狹縫。
[0015]流體進(jìn)入射流孔，減小渦旋發(fā)生體對(duì)流體的阻力，在流體從射流孔射出時(shí)，流速加快，與從柱形邊緣流過的流體共同作用，激發(fā)渦街的形成，從而使渦街的強(qiáng)度得到加強(qiáng)。
[0016]圖3中，流體由箭頭方向流入主流道，在經(jīng)過旋渦發(fā)生體時(shí)，一部分流體受到半圓柱體的阻力作用，從主體側(cè)向流過，依據(jù)非光滑表面減阻原理，小V型槽可起到對(duì)漩渦發(fā)生體的部分減阻作用，另一部分流體進(jìn)入大V型槽，從大V型槽中開有的射流孔通過，一方面降低了流體阻力，同時(shí)，兩股流體在半圓柱尾部聚合，從射流孔中流出的高速液體對(duì)渦街的形成起到引導(dǎo)作用，使渦街強(qiáng)度得到加強(qiáng)，渦街穩(wěn)定性也變的更好。以上渦旋發(fā)生體的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，一方面降低了流量計(jì)對(duì)流體的阻力，另一方面使流量計(jì)的測量精度和測量范圍得到
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種基于仿生射流減阻原理的漩渦發(fā)生體，其特征是:包括設(shè)置在主管道里的發(fā)生體本體，發(fā)生體本體包括半圓柱體和帶凹面的三角柱形體，半圓柱體的弧面一側(cè)為迎流面，弧面中部設(shè)置大V型槽，大V型槽的兩側(cè)分別設(shè)置小V型槽，大V型槽與小V型槽的開口角度相同，大V型槽的開口深度大于小V型槽的開口深度，三角柱形體設(shè)置在半圓柱體的平面一側(cè)，三角柱形體的凹面背向半圓柱體設(shè)置，半圓柱體和三角柱形體之間設(shè)置狹縫。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于仿生射流減阻原理的漩渦發(fā)生體，其特征是??大V型槽與小V型槽之間開設(shè)有第一類射流孔，相鄰的小V型槽和小V型槽之間開設(shè)有第二類射流孔，半圓柱體的平面與其相鄰的小V型槽之間開設(shè)有第三類射流孔。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種基于仿生射流減阻原理的漩渦發(fā)生體，其特征是:第一類射流孔入口的面積大于第二類射流孔和第三類射流孔入口的面積。
【專利摘要】本實(shí)用新型的目的在于提供一種基于仿生射流減阻原理的漩渦發(fā)生體，包括設(shè)置在主管道里的發(fā)生體本體，發(fā)生體本體包括半圓柱體和帶凹面的三角柱形體，半圓柱體的弧面一側(cè)為迎流面，弧面中部設(shè)置大V型槽，大V型槽的兩側(cè)分別設(shè)置小V型槽，大V型槽與小V型槽的開口角度相同，大V型槽的開口深度大于小V型槽的開口深度，三角柱形體設(shè)置在半圓柱體的平面一側(cè)，三角柱形體的凹面背向半圓柱體設(shè)置，半圓柱體和三角柱形體之間設(shè)置狹縫。本實(shí)用新型相對(duì)于現(xiàn)有的漩渦發(fā)生體具有更低的迎面阻力，可以產(chǎn)生更高的旋渦發(fā)生頻率，且使漩渦分離更穩(wěn)定。
【IPC分類】G01F1/32
【公開號(hào)】CN204854831
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520601633
【發(fā)明人】徐賀, 李培鵬, 于洪鵬, 宗寶超, 馬耀文, 王鵬, 黃鑫亮
【申請(qǐng)人】哈爾濱工程大學(xué)
【公開日】2015年12月9日
【申請(qǐng)日】2015年8月11日