專利名稱：統(tǒng)計制程分析系統(tǒng)、計算機(jī)執(zhí)行的用于統(tǒng)計制程分析方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于制程控制，特別是有關(guān)于用以在制造環(huán)境中收集數(shù)據(jù)及進(jìn)行統(tǒng)計制程分析的系統(tǒng)與方法。
背景技術(shù)：
隨著半導(dǎo)體制造相關(guān)技術(shù)的成長，半導(dǎo)體產(chǎn)品制造的復(fù)雜度與日俱增。目前半導(dǎo)體產(chǎn)品制造，由于大小或排列等因素，對于錯誤的容許度非常小。然而，于復(fù)雜的制程中，常會因?yàn)椴涣嫉闹瞥虆?shù)而導(dǎo)致錯誤發(fā)生。由于半導(dǎo)體產(chǎn)品于剛開始生產(chǎn)時，并沒有先前制程數(shù)據(jù)可供參考，因此無法適切地設(shè)定制程或工具相關(guān)制程參數(shù)，因此半導(dǎo)體產(chǎn)品剛開始進(jìn)行生產(chǎn)時，特別容易發(fā)生前述的錯誤。
于一個半導(dǎo)體制造企業(yè)中，制造機(jī)臺可用以執(zhí)行諸如半導(dǎo)體晶圓制造、監(jiān)督制造作業(yè)以及于機(jī)臺中運(yùn)送晶圓或其他類似的工作。于機(jī)臺運(yùn)作時，許多參數(shù)會被持續(xù)監(jiān)測著。例如，晶圓可在一個反應(yīng)室(chamber)中被處理，而機(jī)臺會控制其中的參數(shù)，諸如壓力、溫度以及制造時間區(qū)間。在制造期間，為了持續(xù)監(jiān)測這些參數(shù)，會產(chǎn)生非常大量的數(shù)據(jù)，以及須花費(fèi)大量的時間從數(shù)據(jù)中偵測出一個缺陷。
在傳統(tǒng)的制造系統(tǒng)中，制造執(zhí)行系統(tǒng)接收該制程參數(shù)及制程數(shù)據(jù)，分析該制程參數(shù)和制程數(shù)據(jù)，并據(jù)以控制機(jī)臺的運(yùn)作。制造執(zhí)行系統(tǒng)是整個制造系統(tǒng)的心臟，其負(fù)責(zé)控制所有的制造設(shè)備的運(yùn)作。并且，制造執(zhí)行系統(tǒng)所附加的功能越來越復(fù)雜，使得其工作負(fù)荷越來越重。因此也很難將太多的系統(tǒng)資源保留作為進(jìn)行機(jī)臺的制程參數(shù)的運(yùn)算處理。所以，目前的制造執(zhí)行系統(tǒng)僅能處理少部分的機(jī)臺參數(shù)，故而也無法達(dá)到有效且即時的機(jī)臺參數(shù)控制。
因此，需要可以處理大量統(tǒng)計制程分析圖表的系統(tǒng)與方法。

發(fā)明內(nèi)容
為達(dá)成上述目的，本發(fā)明提供制程控制的系統(tǒng)與方法，特別是有關(guān)于用以在制造環(huán)境中收集數(shù)據(jù)及進(jìn)行統(tǒng)計制程分析的系統(tǒng)與方法。
本發(fā)明提供一種用于統(tǒng)計制程分析的系統(tǒng)，其包括儲存裝置、控制裝置、及偵測裝置。上述儲存裝置，其是用以儲存多個統(tǒng)計制程分析圖表，其中該統(tǒng)計制程分析圖表是包含在測試期間從一系統(tǒng)收集來的數(shù)據(jù)。該控制裝置，其是依據(jù)該統(tǒng)計制程分析圖表的特征，將該統(tǒng)計制程分析圖表區(qū)分為多個類型。該偵測裝置，其是用以決定上述類型中的統(tǒng)計制程分析圖表是否違背一預(yù)定規(guī)則。
本發(fā)明所述的用于統(tǒng)計制程分析的系統(tǒng)，該預(yù)定規(guī)則設(shè)定一選自一制程目標(biāo)及一規(guī)格限定的一制程常數(shù)的閥值。
本發(fā)明所述的用于統(tǒng)計制程分析的系統(tǒng)，該規(guī)格限定包含一規(guī)格上限及/或一規(guī)格下限。
本發(fā)明所述的用于統(tǒng)計制程分析的系統(tǒng)，該預(yù)定規(guī)則設(shè)定一Cp、K、Cpk統(tǒng)計參數(shù)的閥值。
本發(fā)明所述的用于統(tǒng)計制程分析的系統(tǒng)，該預(yù)定規(guī)則設(shè)定該統(tǒng)計制程分析圖表的一指標(biāo)變量，以作為一偵測目標(biāo)。
本發(fā)明所述的用于統(tǒng)計制程分析的系統(tǒng)，該指標(biāo)變量是取自該統(tǒng)計制程分析圖表中載入時間最晚的數(shù)據(jù)、該統(tǒng)計制程分析圖表中一預(yù)定筆數(shù)的數(shù)據(jù)、及/或該統(tǒng)計制程分析圖表中一預(yù)定期間內(nèi)載入的數(shù)據(jù)。
本發(fā)明并提供一種計算機(jī)執(zhí)行的用于統(tǒng)計制程分析的方法。該方法首先提供多個統(tǒng)計制程分析圖表，其中該統(tǒng)計制程分析圖表是包含在測試期間從一系統(tǒng)收集來的數(shù)據(jù)。依據(jù)該統(tǒng)計制程分析圖表的特征，將該統(tǒng)計制程分析圖表區(qū)分為多個類型。并決定上述類型中的統(tǒng)計制程分析圖表是否違背一預(yù)定規(guī)則。
本發(fā)明所述的計算機(jī)執(zhí)行的用于統(tǒng)計制程分析的方法，進(jìn)一步包含通過一制程常數(shù)定義該預(yù)定規(guī)則，其中該制程常數(shù)包含制程目標(biāo)、規(guī)格上限、及規(guī)格下限。
本發(fā)明所述的計算機(jī)執(zhí)行的用于統(tǒng)計制程分析的方法，進(jìn)一步通過設(shè)定Cp、K、Cpk統(tǒng)計參數(shù)的閥值來定義該預(yù)定規(guī)則。
本發(fā)明所述的計算機(jī)執(zhí)行的用于統(tǒng)計制程分析的方法，進(jìn)一步包含設(shè)定該統(tǒng)計制程分析圖表的一指標(biāo)變量，以作為一偵測目標(biāo)。
上述用于統(tǒng)計制程分析的方法是可以通過將儲存于計算機(jī)可讀取儲存介質(zhì)的計算機(jī)程序載入計算機(jī)系統(tǒng)中而實(shí)現(xiàn)。
本發(fā)明所述統(tǒng)計制程分析系統(tǒng)、計算機(jī)執(zhí)行的用于統(tǒng)計制程分析方法，可在制造環(huán)境中對大量數(shù)據(jù)進(jìn)行收集、分析和判斷，以實(shí)現(xiàn)對制程快速、有效的控制。


圖1顯示依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的具有統(tǒng)計制程分析的制造系統(tǒng)的示意圖；圖2顯示依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于統(tǒng)計制程分析的方法的流程圖；圖3a至圖3e顯示依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的制程參數(shù)控制系統(tǒng)的示意圖；圖4顯示依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用以控制機(jī)臺制程參數(shù)的方法的流程圖；圖5顯示依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的儲存介質(zhì)示意圖。
具體實(shí)施例方式
為了讓本發(fā)明的目的、特征及優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉較佳實(shí)施例，并配合所附圖示圖1至圖5，做詳細(xì)的說明。本發(fā)明說明書提供不同的實(shí)施例來說明本發(fā)明不同實(shí)施方式的技術(shù)特征。其中，實(shí)施例中的各元件的配置是說明之用，并非用以限制本發(fā)明。且實(shí)施例中圖式標(biāo)號的部分重復(fù)，是了簡化說明，并非意指不同實(shí)施例之間的關(guān)聯(lián)性。
圖1顯示依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的具有統(tǒng)計制程分析的制造系統(tǒng)的示意圖。制造系統(tǒng)10執(zhí)行晶圓制造程序，其包括處理機(jī)臺11、檢測機(jī)臺13、統(tǒng)計制程分析服務(wù)器17、以及數(shù)據(jù)庫15及19。其中，處理機(jī)臺11執(zhí)行制造程序以處理至少一晶圓。檢測機(jī)臺13用以針對經(jīng)過處理機(jī)臺11處理過的晶圓的特性，進(jìn)行檢測。上述晶圓特性是可以為薄膜厚度、疊對誤差(overlay error)、以及其他和晶圓處理及晶圓品質(zhì)相關(guān)的特性。上述檢測的進(jìn)行，是可以為線上檢測或離線檢測。檢測所得的測量值151則儲存于數(shù)據(jù)庫15中。數(shù)據(jù)庫15也儲存了關(guān)于處理機(jī)臺11運(yùn)作相關(guān)的運(yùn)作數(shù)據(jù)152。統(tǒng)計制程分析服務(wù)器17是與數(shù)據(jù)庫15連結(jié)，其從數(shù)據(jù)庫15中擷取測量值151和運(yùn)作數(shù)據(jù)152，并將測量值151和運(yùn)作數(shù)據(jù)152轉(zhuǎn)換為統(tǒng)計制程分析圖表191。統(tǒng)計制程分析圖表191是儲存于數(shù)據(jù)庫19中。統(tǒng)計制程分析服務(wù)器17可以處理從多個檢測機(jī)臺取得的不同種類的測量數(shù)據(jù)。統(tǒng)計制程分析圖表191進(jìn)一步依據(jù)其特征，被區(qū)分為多個類型。統(tǒng)計制程分析服務(wù)器17依據(jù)預(yù)設(shè)的規(guī)則193，處理每一類型的統(tǒng)計制程分析圖表，并依據(jù)該處理的結(jié)果，產(chǎn)生報表195。報表195中記錄了違背該預(yù)定規(guī)則193的統(tǒng)計制程分析圖表。報表195可以透過網(wǎng)絡(luò)16，傳送給使用者18(其包括使用者181、183、及185)。網(wǎng)絡(luò)16可以為因特網(wǎng)或區(qū)域網(wǎng)絡(luò)等。
圖2顯示依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于統(tǒng)計制程分析的方法的流程圖。圖2所示的方法是可以實(shí)施于圖1所示的制程參數(shù)控制服務(wù)器17中。
依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例，該方法首先從數(shù)據(jù)庫15中擷取測量值151，用以產(chǎn)生統(tǒng)計制程分析圖表，其中該統(tǒng)計制程分析圖表包含在測試期間從一系統(tǒng)收集來的數(shù)據(jù)，如步驟S21所示。繼之，依據(jù)該統(tǒng)計制程分析圖表的特征，將該統(tǒng)計制程分析圖表區(qū)分為多個類型，如步驟S23所示。若有需要可以針對統(tǒng)計制程分析圖表進(jìn)行進(jìn)一步的處理。決定上述類型中的統(tǒng)計制程分析圖表是否違背一預(yù)定規(guī)則，如步驟S25所示。當(dāng)統(tǒng)計制程分析圖表違背該預(yù)定規(guī)則時，則產(chǎn)生一警報信息，如步驟S27所示。該警報信息是可以透過電子郵件或其他方式傳送，如步驟S29所示。該警報信息可以為異常狀況報告或其他種類的信息。
上述預(yù)定規(guī)則是可以依據(jù)實(shí)際需要訂定。并且，每一類型的統(tǒng)計制程分析圖表是可以適用不同的預(yù)定規(guī)則。其是可以通過一制程常數(shù)及/或統(tǒng)計參數(shù)來定義該預(yù)定規(guī)則，其中該制程常數(shù)包含制程目標(biāo)、規(guī)格上限、及一規(guī)格下限?？梢詫⒔y(tǒng)計制程分析圖表進(jìn)行處理，再進(jìn)行與上述預(yù)定規(guī)則的比對步驟。例如，可以將統(tǒng)計制程分析圖表中的數(shù)據(jù)施以微分處理、積分處理、或過濾處理，以形成另一型態(tài)的圖表。與該預(yù)定規(guī)則比對的步驟是著重于該統(tǒng)計制程分析圖表的一指標(biāo)變量，以作為一偵測目標(biāo)。該指標(biāo)變量是可以取自該統(tǒng)計制程分析圖表中載入時間最晚的數(shù)據(jù)、該統(tǒng)計制程分析圖表中一預(yù)定筆數(shù)的數(shù)據(jù)、及/或該統(tǒng)計制程分析圖表中一預(yù)定期間內(nèi)載入的數(shù)據(jù)。
圖3a至圖3e顯示依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的統(tǒng)計制程分析圖表。如圖3a至圖3e所示，其包含5個取自不同數(shù)據(jù)來源的數(shù)據(jù)的統(tǒng)計制程分析圖表。其中，圖3a至圖3c分別包含取自不同的步進(jìn)機(jī)聚焦監(jiān)視器的數(shù)據(jù)。其中，圖3d及圖3e則分別包含取自一離線顆粒檢測器和一厚度校正檢測器的數(shù)據(jù)。具有類似特性的統(tǒng)計制程分析圖表被歸為同一類型。依據(jù)本實(shí)施例，圖3a至圖3e因?yàn)槠渌臄?shù)據(jù)是取自類似的數(shù)據(jù)來源，所以被歸為同一類型。
多條不同的預(yù)設(shè)規(guī)則被用以檢驗(yàn)圖3a至圖3e中的統(tǒng)計制程分析圖表，以檢查其中是否包含“不正?！钡臄?shù)據(jù)。這些預(yù)定規(guī)則可以通過一制程常數(shù)及/或統(tǒng)計參數(shù)來定義之。其中該制程常數(shù)包含制程目標(biāo)、規(guī)格上限、規(guī)格下限、及/或其他相關(guān)的制程常數(shù)。該統(tǒng)計參數(shù)則可以為Cp、K、Cpk，或其他用以設(shè)定制程能力的統(tǒng)計參數(shù)。其中 Cp=USL-LSL6s]]>K=|y--T|(USL-LSL)/2]]>Cpk＝(1-k)×Cp其中，上述USL表示規(guī)格上限(upper specification limit)，而LSL表示規(guī)格下限(lower specification limit)，上述Cp表示制程精密度(Caoability of Precision)，Cpk表示綜合制程能力指數(shù)，K表示制程能力指數(shù)。
上述Cp、K、Cpk等統(tǒng)計參數(shù)是顯示于圖4中的表中。將該統(tǒng)計制程分析圖表的一指標(biāo)變量指定作為一偵測目標(biāo)。該指標(biāo)變量可以著重于不同時間范圍的數(shù)據(jù)記錄。例如，該指標(biāo)變量可以依據(jù)該統(tǒng)計制程分析圖表中載入時間最晚的數(shù)據(jù)、該統(tǒng)計制程分析圖表中一預(yù)定筆數(shù)的數(shù)據(jù)、或該統(tǒng)計制程分析圖表中一預(yù)定期間內(nèi)載入的數(shù)據(jù)設(shè)定之。該指標(biāo)變量可以為通過不同計算方式，依據(jù)上述數(shù)據(jù)記錄得出的一計算結(jié)果，例如差值、標(biāo)準(zhǔn)差、Cp、K、Cpk及其他統(tǒng)計方法得出的計算結(jié)果。
該方法并分別建立規(guī)則來檢查長期間和短期間的數(shù)據(jù)記錄。例如，設(shè)定兩種規(guī)則用以檢查3周內(nèi)的數(shù)據(jù)記錄(在此稱之為長期間的數(shù)據(jù)記錄)，另設(shè)定兩種規(guī)則用以檢查3天內(nèi)的數(shù)據(jù)記錄(在此稱之為短期間的數(shù)據(jù)記錄)。參見圖3a至圖3e，長期間規(guī)則是用以檢查在8/21～9/11之間的數(shù)據(jù)記錄，短期間規(guī)則是用以檢查在9/12～9/14之間的數(shù)據(jù)記錄，其檢查的結(jié)果是于圖4的表中顯示。
長期間規(guī)則之一是，當(dāng)長期間的數(shù)據(jù)記錄所計算出的Cp較預(yù)設(shè)的長期間Cp低時，則該統(tǒng)計制程分析圖表是被視為“長期間Cp值低”，其表示對應(yīng)的制造程序可能在制程準(zhǔn)確度方面有問題。另一長期間規(guī)則是，當(dāng)長期間的數(shù)據(jù)記錄所計算出的Cpk較預(yù)設(shè)的長期間Cpk低時，則該統(tǒng)計制程分析圖表是被視為“長期間Cpk值低”，其表示對應(yīng)的制造程序可能在制程穩(wěn)定度方面有問題。
短期間規(guī)則之一是，當(dāng)短期間的數(shù)據(jù)記錄所計算出的K值較預(yù)設(shè)的短期間K值低，且當(dāng)短期間的數(shù)據(jù)記錄所計算出的短期Cp值較預(yù)設(shè)的短期間Cp值低時，則該統(tǒng)計制程分析圖表是被視為“基準(zhǔn)線改變”，若沒有被判定為“基準(zhǔn)線改變”，則進(jìn)一步?jīng)Q定在該統(tǒng)計制程分析圖表中最后一筆數(shù)據(jù)記錄是否超過一預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)。當(dāng)該統(tǒng)計制程分析圖表中最后一筆數(shù)據(jù)記錄超過一預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)時，該統(tǒng)計制程分析圖表被判定為具有“升高趨勢”。當(dāng)該統(tǒng)計制程分析圖表中最后一筆數(shù)據(jù)記錄較該預(yù)定標(biāo)準(zhǔn)低時，該統(tǒng)計制程分析圖表被判定為具有“降低趨勢”。
參見圖4，統(tǒng)計制程分析圖表31(C1)通過上述檢查，而統(tǒng)計制程分析圖表32(2)和33(C3)則分別被判定為“Cpk值低”和“降低趨勢”。
如圖5所示，上述統(tǒng)計制程分析的方法是能通過一計算機(jī)程序，存于一儲存介質(zhì)中，且當(dāng)該計算機(jī)程序載入服務(wù)器執(zhí)行時，可以實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的統(tǒng)計制程分析的方法。計算機(jī)程序包括數(shù)據(jù)接收模塊51、數(shù)據(jù)分類模塊53、規(guī)則檢查模塊55、及警報產(chǎn)生模塊57。
其中數(shù)據(jù)接收模塊51接收多個統(tǒng)計制程分析圖表，其中該統(tǒng)計制程分析圖表是包含在測試期間從一系統(tǒng)收集來的數(shù)據(jù)。該數(shù)據(jù)分類模塊53依據(jù)該統(tǒng)計制程分析圖表的特征，將該統(tǒng)計制程分析圖表區(qū)分為多個類型。規(guī)則檢查模塊55決定上述類型中的統(tǒng)計制程分析圖表是否違背一預(yù)定規(guī)則。警報產(chǎn)生模塊57依據(jù)該規(guī)則檢查的結(jié)果，發(fā)出一警報信號，當(dāng)上述類型中的統(tǒng)計制程分析圖表違背該預(yù)定規(guī)則，發(fā)出警報信息。
雖然本發(fā)明已通過較佳實(shí)施例說明如上，但該較佳實(shí)施例并非用以限定本發(fā)明。本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，應(yīng)有能力對該較佳實(shí)施例做出各種更改和補(bǔ)充，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍以權(quán)利要求書的范圍為準(zhǔn)。
附圖中符號的簡單說明如下制造系統(tǒng)10處理機(jī)臺11檢測機(jī)臺13統(tǒng)計制程分析服務(wù)器17數(shù)據(jù)庫15數(shù)據(jù)庫19測量值151運(yùn)作數(shù)據(jù)152統(tǒng)計制程分析圖表191
規(guī)則193報表195網(wǎng)絡(luò)16使用者18、181、183、185數(shù)據(jù)接收模塊51數(shù)據(jù)分類模塊53規(guī)則檢查模塊55警報產(chǎn)生模決5權(quán)利要求
1.一種用于統(tǒng)計制程分析的系統(tǒng)，其特征在于，所述用于統(tǒng)計制程分析的系統(tǒng)包括一儲存裝置，其是用以儲存多個統(tǒng)計制程分析圖表，其中該統(tǒng)計制程分析圖表是包含在測試期間從一系統(tǒng)收集來的數(shù)據(jù)；一控制裝置，其是依據(jù)該統(tǒng)計制程分析圖表的特征，將該統(tǒng)計制程分析圖表區(qū)分為多個類型；以及一偵測裝置，其是用以決定上述類型中的統(tǒng)計制程分析圖表是否違背一預(yù)定規(guī)則。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于統(tǒng)計制程分析的系統(tǒng)，其特征在于，該預(yù)定規(guī)則設(shè)定一選自一制程目標(biāo)及一規(guī)格限定的一制程常數(shù)的閥值。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于統(tǒng)計制程分析的系統(tǒng)，其特征在于，該規(guī)格限定包含一規(guī)格上限及/或一規(guī)格下限。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于統(tǒng)計制程分析的系統(tǒng)，其特征在于，該預(yù)定規(guī)則設(shè)定一Cp、K、Cpk統(tǒng)計參數(shù)的閥值。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于統(tǒng)計制程分析的系統(tǒng)，其特征在于，該預(yù)定規(guī)則設(shè)定該統(tǒng)計制程分析圖表的一指標(biāo)變量，以作為一偵測目標(biāo)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于統(tǒng)計制程分析的系統(tǒng)，其特征在于，該指標(biāo)變量是取自該統(tǒng)計制程分析圖表中載入時間最晚的數(shù)據(jù)、該統(tǒng)計制程分析圖表中一預(yù)定筆數(shù)的數(shù)據(jù)、及/或該統(tǒng)計制程分析圖表中一預(yù)定期間內(nèi)載入的數(shù)據(jù)。
7.一種計算機(jī)執(zhí)行的用于統(tǒng)計制程分析的方法，其特征在于，所述計算機(jī)執(zhí)行的用于統(tǒng)計制程分析的方法包括提供多個統(tǒng)計制程分析圖表，其中該統(tǒng)計制程分析圖表是包含在測試期間從一系統(tǒng)收集來的數(shù)據(jù)；依據(jù)該統(tǒng)計制程分析圖表的特征，將該統(tǒng)計制程分析圖表區(qū)分為多個類型；以及決定上述類型中的統(tǒng)計制程分析圖表是否違背一預(yù)定規(guī)則。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的計算機(jī)執(zhí)行的用于統(tǒng)計制程分析的方法，其特征在于，進(jìn)一步包含通過一制程常數(shù)定義該預(yù)定規(guī)則，其中該制程常數(shù)包含制程目標(biāo)、規(guī)格上限、及規(guī)格下限。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的計算機(jī)執(zhí)行的用于統(tǒng)計制程分析的方法，其特征在于，進(jìn)一步通過設(shè)定Cp、K、Cpk統(tǒng)計參數(shù)的閥值來定義該預(yù)定規(guī)則。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的計算機(jī)執(zhí)行的用于統(tǒng)計制程分析的方法，其特征在于，進(jìn)一步包含設(shè)定該統(tǒng)計制程分析圖表的一指標(biāo)變量，以作為一偵測目標(biāo)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種統(tǒng)計制程分析系統(tǒng)、計算機(jī)執(zhí)行的用于統(tǒng)計制程分析方法，所述用于統(tǒng)計制程分析的系統(tǒng)，其包括一儲存裝置、一控制裝置、及一偵測裝置。該儲存裝置，其是用以儲存多個統(tǒng)計制程分析圖表，其中該統(tǒng)計制程分析圖表是包含在測試期間從一系統(tǒng)收集來的數(shù)據(jù)。該控制裝置，其是依據(jù)該統(tǒng)計制程分析圖表的特征，將該統(tǒng)計制程分析圖表區(qū)分為多個類型。該偵測裝置，其是用以決定上述類型中的統(tǒng)計制程分析圖表是否違背一預(yù)定規(guī)則。本發(fā)明可在制造環(huán)境中對大量數(shù)據(jù)進(jìn)行收集、分析和判斷，以實(shí)現(xiàn)對制程快速、有效的控制。
文檔編號G05B19/418GK1790312SQ200510115878
公開日2006年6月21日 申請日期2005年11月10日 優(yōu)先權(quán)日2004年11月17日
發(fā)明者黃明彰, 陳明發(fā) 申請人:臺灣積體電路制造股份有限公司