基于半實(shí)物仿真的雷達(dá)對(duì)抗裝備效能評(píng)估方法
【專利摘要】本發(fā)明提出一種基于半實(shí)物仿真的雷達(dá)對(duì)抗裝備效能評(píng)估方法,利用實(shí)驗(yàn)室內(nèi)的電磁環(huán)境模擬以及對(duì)抗對(duì)象模擬的半實(shí)物環(huán)境,根據(jù)不同對(duì)抗裝備的應(yīng)用條件與性能要求,設(shè)置與之對(duì)應(yīng)的對(duì)抗場(chǎng)景,開展實(shí)時(shí)、射頻級(jí)的半實(shí)物仿真試驗(yàn),根據(jù)記錄信息,利用多維度效能表征模型,獲得對(duì)抗效能評(píng)估結(jié)果。本發(fā)明應(yīng)用于當(dāng)前雷達(dá)電子對(duì)抗裝備研制中的性能檢測(cè)與評(píng)估設(shè)計(jì)環(huán)節(jié),在實(shí)驗(yàn)室條件下檢測(cè)了電子對(duì)抗設(shè)備在不同復(fù)雜度信號(hào)環(huán)境中的電子偵察與電子干擾能力。對(duì)研究雷達(dá)電子對(duì)抗裝備的電磁信號(hào)環(huán)境適應(yīng)性,針對(duì)不同雷達(dá)威脅對(duì)象的電子干擾有效性,以及對(duì)抗技術(shù)研究具有促進(jìn)作用。
【專利說明】基于半實(shí)物仿真的雷達(dá)對(duì)抗裝備效能評(píng)估方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于雷達(dá)對(duì)抗效能評(píng)估【技術(shù)領(lǐng)域】,具體為一種基于半實(shí)物仿真的雷達(dá)對(duì)抗裝備效能評(píng)估方法。
【背景技術(shù)】
[0002]雷達(dá)對(duì)抗效能是指雷達(dá)對(duì)抗裝備與雷達(dá)進(jìn)行對(duì)抗的能力,包括偵察能力、干擾能力以及系統(tǒng)對(duì)電磁信號(hào)環(huán)境的反應(yīng)能力等。對(duì)雷達(dá)對(duì)抗效能的評(píng)估,就是檢驗(yàn)雷達(dá)對(duì)抗裝備在規(guī)定的環(huán)境中,執(zhí)行規(guī)定任務(wù)的能力,即能否達(dá)到預(yù)期的偵察、干擾效果以及能達(dá)到的程度。
[0003]雷達(dá)對(duì)抗裝備作戰(zhàn)效能的最終檢驗(yàn)方式,是在實(shí)際演練中的應(yīng)用。但在日常系統(tǒng)集成與裝備研制過程中,只能采用仿真的方式來實(shí)現(xiàn)。目前這種仿真評(píng)估以純軟件計(jì)算機(jī)仿真為主,在裝備驗(yàn)收階段則大多采用輻射式試驗(yàn)靶場(chǎng)試驗(yàn)。純軟件計(jì)算機(jī)仿真通過建立各種理論模型,在分布式軟件仿真系統(tǒng)中針對(duì)對(duì)抗過程進(jìn)行模擬,獲得評(píng)估結(jié)果;輻射式試驗(yàn)靶場(chǎng),則是在開放空間中,配置雷達(dá)威脅對(duì)象和對(duì)抗裝備,通過分析雷達(dá)和對(duì)抗設(shè)備在試驗(yàn)中的性能變化,獲得對(duì)抗效能結(jié)果。但純軟件計(jì)算機(jī)仿真具有運(yùn)行速度慢、與真實(shí)設(shè)備結(jié)合不緊密、難以仿真對(duì)抗裝備間實(shí)時(shí)博弈過程的困難;輻射式外場(chǎng)試驗(yàn)則存在組織試驗(yàn)不易、經(jīng)費(fèi)要求高、屬于裝備最后檢驗(yàn)等不利之處。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]本發(fā)明的目的是以減少外場(chǎng)試驗(yàn)次數(shù)、提升外場(chǎng)試驗(yàn)成功率以及評(píng)估逼真度為目的,在實(shí)驗(yàn)室條件下,利用半實(shí)物仿真驗(yàn)證結(jié)果,構(gòu)建針對(duì)雷達(dá)電子對(duì)抗裝備效能評(píng)估的方法與準(zhǔn)則。在一定條件下,達(dá)到在裝備研制階段就可以方便、快速地對(duì)真實(shí)裝備的對(duì)抗效能進(jìn)行檢測(cè)與評(píng)估。
[0005]本發(fā)明的技術(shù)方案為:
[0006]所述一種基于半實(shí)物仿真的雷達(dá)對(duì)抗裝備效能評(píng)估方法,其特征在于:包括以下步驟:
[0007]步驟1:根據(jù)雷達(dá)對(duì)抗裝備的任務(wù)背景、對(duì)抗中面臨的電磁信號(hào)環(huán)境、擬對(duì)抗的雷達(dá)威脅對(duì)象,在半實(shí)物仿真環(huán)境中設(shè)置對(duì)抗場(chǎng)景,設(shè)置參數(shù)包括搭載各類電磁信號(hào)源的平臺(tái)數(shù)量及平臺(tái)運(yùn)動(dòng)軌跡、雷達(dá)對(duì)抗裝備需要評(píng)估的參數(shù);
[0008]步驟2:在半實(shí)物仿真環(huán)境中通過電磁信號(hào)環(huán)境模擬器設(shè)置并模擬電磁信號(hào)環(huán)境,需要設(shè)置的參數(shù)包括各個(gè)輻射源的頻率及變化特性、脈寬、重頻及變化特性、脈內(nèi)與脈間調(diào)制特性;
[0009]步驟3:根據(jù)擬對(duì)抗的雷達(dá)威脅對(duì)象的參數(shù)及工作模式,得到對(duì)應(yīng)的信號(hào)處理流程及抗干擾措施;在威脅對(duì)象模擬器中按照擬對(duì)抗的雷達(dá)威脅對(duì)象的不同工作模式,設(shè)置信號(hào)參數(shù)、選取信號(hào)處理模塊及抗干擾處理模塊,在半實(shí)物平臺(tái)上實(shí)現(xiàn)對(duì)威脅雷達(dá)對(duì)象的信號(hào)及數(shù)據(jù)處理過程的實(shí)時(shí)、射頻級(jí)模擬;
[0010]步驟4:通過射頻電纜將雷達(dá)對(duì)抗裝備與半實(shí)物仿真平臺(tái)相聯(lián),按照設(shè)定的對(duì)抗場(chǎng)景及時(shí)序,運(yùn)行威脅對(duì)象模擬器和電磁信號(hào)環(huán)境模擬器以及對(duì)抗裝備,模擬完整對(duì)抗過程,同時(shí)半實(shí)物仿真平臺(tái)記錄數(shù)據(jù)及各類信息;
[0011]步驟5:由對(duì)抗場(chǎng)景的設(shè)置參數(shù)、半實(shí)物仿真平臺(tái)記錄數(shù)據(jù)及信息,建立雷達(dá)對(duì)抗裝備的多維度效能表征模型,進(jìn)一步得到所仿真的電磁信號(hào)環(huán)境復(fù)雜度以及雷達(dá)對(duì)抗裝備在該環(huán)境復(fù)雜度下的電子對(duì)抗效能評(píng)估值。
[0012]有益效果
[0013]本發(fā)明應(yīng)用于當(dāng)前雷達(dá)電子對(duì)抗裝備研制中的性能檢測(cè)與評(píng)估設(shè)計(jì)環(huán)節(jié),在實(shí)驗(yàn)室條件下檢測(cè)了電子對(duì)抗設(shè)備在不同復(fù)雜度信號(hào)環(huán)境中的電子偵察與電子干擾能力。對(duì)研宄雷達(dá)電子對(duì)抗裝備的電磁信號(hào)環(huán)境適應(yīng)性,針對(duì)不同雷達(dá)威脅對(duì)象的電子干擾有效性,以及對(duì)抗技術(shù)研宄具有促進(jìn)作用。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0014]圖1:半實(shí)物仿真平臺(tái)及試驗(yàn)框圖。
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面結(jié)合具體實(shí)施例描述本發(fā)明:
[0016]本實(shí)施例利用實(shí)驗(yàn)室內(nèi)的電磁環(huán)境模擬以及對(duì)抗對(duì)象模擬的半實(shí)物環(huán)境,根據(jù)不同對(duì)抗裝備的應(yīng)用條件與性能要求,設(shè)置與之對(duì)應(yīng)的對(duì)抗場(chǎng)景,開展實(shí)時(shí)、射頻級(jí)的半實(shí)物仿真試驗(yàn),根據(jù)記錄信息,利用多維度效能表征模型,獲得對(duì)抗效能評(píng)估結(jié)果。
[0017]參照附圖1,本實(shí)施例的具體步驟為:
[0018]步驟1:根據(jù)雷達(dá)對(duì)抗裝備的任務(wù)背景、對(duì)抗中面臨的電磁信號(hào)環(huán)境、擬對(duì)抗的雷達(dá)威脅對(duì)象,在半實(shí)物仿真環(huán)境中設(shè)置對(duì)抗場(chǎng)景,設(shè)置參數(shù)包括搭載各類電磁信號(hào)源的平臺(tái)數(shù)量及平臺(tái)運(yùn)動(dòng)軌跡、雷達(dá)對(duì)抗裝備需要評(píng)估的參數(shù)。本實(shí)施例中采用的參數(shù)為:輻射源個(gè)數(shù)為10個(gè),分布10個(gè)固定平臺(tái)。
[0019]步驟2:在半實(shí)物仿真環(huán)境中通過電磁信號(hào)環(huán)境模擬器設(shè)置并模擬電磁信號(hào)環(huán)境,需要設(shè)置的參數(shù)包括各個(gè)輻射源的頻率及變化特性、脈寬、重頻及變化特性、脈內(nèi)與脈間調(diào)制特性。本實(shí)施例中各輻射源均工作在X波段,輻射源發(fā)射頻率固定,各輻射源的中心頻點(diǎn)不同;脈寬固定,重頻有抖動(dòng)與固定兩種模式;天線掃描周期不同,天線波束寬度相同。
[0020]步驟3:根據(jù)擬對(duì)抗的雷達(dá)威脅對(duì)象的參數(shù)及工作模式,得到對(duì)應(yīng)的信號(hào)處理流程及抗干擾措施;在威脅對(duì)象模擬器中按照擬對(duì)抗的雷達(dá)威脅對(duì)象的不同工作模式,設(shè)置信號(hào)參數(shù)、選取信號(hào)處理模塊及抗干擾處理模塊,在半實(shí)物平臺(tái)上實(shí)現(xiàn)對(duì)威脅雷達(dá)對(duì)象的信號(hào)及數(shù)據(jù)處理過程的實(shí)時(shí)、射頻級(jí)模擬。
[0021]步驟4:通過射頻電纜將雷達(dá)對(duì)抗裝備與半實(shí)物仿真平臺(tái)相聯(lián),按照設(shè)定的對(duì)抗場(chǎng)景及時(shí)序,運(yùn)行威脅對(duì)象模擬器和電磁信號(hào)環(huán)境模擬器以及對(duì)抗裝備,控制電磁信號(hào)模擬器按照時(shí)序及天線調(diào)制,發(fā)射出一定幅度的脈沖信號(hào),由雷達(dá)對(duì)抗裝備接收并處理,模擬完整對(duì)抗過程,同時(shí)半實(shí)物仿真平臺(tái)記錄數(shù)據(jù)及各類信息;
[0022]步驟5:由對(duì)抗場(chǎng)景的設(shè)置參數(shù)、半實(shí)物仿真平臺(tái)記錄數(shù)據(jù)及信息,建立雷達(dá)對(duì)抗裝備的多維度效能表征模型,進(jìn)一步得到所仿真的電磁信號(hào)環(huán)境復(fù)雜度以及雷達(dá)對(duì)抗裝備在該環(huán)境復(fù)雜度下的電子對(duì)抗效能評(píng)估值。
【權(quán)利要求】
1.一種基于半實(shí)物仿真的雷達(dá)對(duì)抗裝備效能評(píng)估方法,其特征在于:包括以下步驟:步驟1:根據(jù)雷達(dá)對(duì)抗裝備的任務(wù)背景、對(duì)抗中面臨的電磁信號(hào)環(huán)境、擬對(duì)抗的雷達(dá)威脅對(duì)象,在半實(shí)物仿真環(huán)境中設(shè)置對(duì)抗場(chǎng)景,設(shè)置參數(shù)包括搭載各類電磁信號(hào)源的平臺(tái)數(shù)量及平臺(tái)運(yùn)動(dòng)軌跡、雷達(dá)對(duì)抗裝備需要評(píng)估的參數(shù); 步驟2:在半實(shí)物仿真環(huán)境中通過電磁信號(hào)環(huán)境模擬器設(shè)置并模擬電磁信號(hào)環(huán)境,需要設(shè)置的參數(shù)包括各個(gè)輻射源的頻率及變化特性、脈寬、重頻及變化特性、脈內(nèi)與脈間調(diào)制特性; 步驟3:根據(jù)擬對(duì)抗的雷達(dá)威脅對(duì)象的參數(shù)及工作模式,得到對(duì)應(yīng)的信號(hào)處理流程及抗干擾措施;在威脅對(duì)象模擬器中按照擬對(duì)抗的雷達(dá)威脅對(duì)象的不同工作模式,設(shè)置信號(hào)參數(shù)、選取信號(hào)處理模塊及抗干擾處理模塊,在半實(shí)物平臺(tái)上實(shí)現(xiàn)對(duì)威脅雷達(dá)對(duì)象的信號(hào)及數(shù)據(jù)處理過程的實(shí)時(shí)、射頻級(jí)模擬; 步驟4:通過射頻電纜將雷達(dá)對(duì)抗裝備與半實(shí)物仿真平臺(tái)相聯(lián),按照設(shè)定的對(duì)抗場(chǎng)景及時(shí)序,運(yùn)行威脅對(duì)象模擬器和電磁信號(hào)環(huán)境模擬器以及對(duì)抗裝備,模擬完整對(duì)抗過程,同時(shí)半實(shí)物仿真平臺(tái)記錄數(shù)據(jù)及各類信息; 步驟5:由對(duì)抗場(chǎng)景的設(shè)置參數(shù)、半實(shí)物仿真平臺(tái)記錄數(shù)據(jù)及信息,建立雷達(dá)對(duì)抗裝備的多維度效能表征模型,進(jìn)一步得到所仿真的電磁信號(hào)環(huán)境復(fù)雜度以及雷達(dá)對(duì)抗裝備在該環(huán)境復(fù)雜度下的電子對(duì)抗效能評(píng)估值。
【文檔編號(hào)】G05B23/02GK104503425SQ201410681652
【公開日】2015年4月8日 申請(qǐng)日期:2014年11月24日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月24日
【發(fā)明者】方劍, 李其勤, 朱萸 申請(qǐng)人:中國電子科技集團(tuán)公司第二十九研究所