旋鈕帽蓋及具有該旋鈕帽蓋的電子裝置制造方法
【專利摘要】一種旋鈕帽蓋及具有該旋鈕帽蓋的電子裝置。旋鈕帽蓋包括一帽蓋本體及一集塵結(jié)構(gòu)。帽蓋本體包含一操作端及一卡合端。集塵結(jié)構(gòu)設(shè)置于卡合端。集塵結(jié)構(gòu)包括一由卡合端的周緣向外延伸形成的底盤、一由底盤的周緣向操作端方向延伸形成的擋壁及一形成于擋壁與帽蓋本體的外表面間的集塵溝。電子裝置包括一殼體、一旋鈕帽蓋及一電路組件。殼體具有一穿孔。電路組件具有一設(shè)置有一旋鈕單元的電路基板。旋鈕帽蓋套設(shè)于旋鈕單元上，且旋鈕帽蓋穿過穿孔，而旋鈕帽蓋的外表面與穿孔間形成有一間隙。集塵溝鄰近于間隙，可承接由間隙進入的細小物體，借以可有效阻擋這些細小物體進入電路組件，可避免這些細小物體造成電路組件毀壞、降低電子裝置使用壽命的問題。
【專利說明】旋鈕帽蓋及具有該旋鈕帽蓋的電子裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種旋鈕帽蓋及具有旋鈕帽蓋的電子裝置，特別涉及一種具有集塵結(jié)構(gòu)的旋鈕帽蓋及具有該旋鈕帽蓋的電子裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]常見設(shè)置于電子裝置上的旋鈕，通常是由一旋鈕帽蓋套設(shè)于可變電阻上所組成。而且，為了使旋鈕可以順暢地旋轉(zhuǎn)，旋鈕帽蓋與電子裝置的殼體間，常設(shè)計有一預(yù)定的間隙，以確保旋鈕帽蓋于旋轉(zhuǎn)過程中不受殼體的干涉。然而，在實際應(yīng)用中，當電子裝置處于相對較差的作業(yè)環(huán)境中時，環(huán)境中的細小物體，例如粉塵、灰塵、木屑或是懸浮粒子等，將容易由該預(yù)定的間隙進入電子裝置中，進而堆積于電子裝置內(nèi)部的電路板上，可能造成電路板的電子元件的使用壽命減少，甚至是短路而毀壞等問題，如此將大幅降低該電子裝置的使用壽命，而間接使得成本上升。因此，本實用新型發(fā)明人乃潛心研究并配合學(xué)理的運用，而提出一種設(shè)計合理且有效改善上述問題的本實用新型。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型的目的在于提供一種旋鈕帽蓋及具有該旋鈕帽蓋的電子裝置，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中，灰塵或是其他細小物體，會經(jīng)由旋鈕帽蓋與殼體的穿孔間的間隙進入電子裝置內(nèi)，進而堆積在電路板上，可能造成電子元件短路、毀壞或是使得電路板毀壞等，進而造成電子裝置壽命減少的問題。
[0004]本實用新型的主要目的在于提供一種旋鈕帽蓋，其包括:一帽蓋本體及一集塵結(jié)構(gòu)。帽蓋本體包含一操作端及—合端。集塵結(jié)構(gòu)設(shè)置于卡合端。集塵結(jié)構(gòu)包括一由卡合端的周緣向外延伸形成的底盤、一由底盤的周緣向操作端方向延伸形成的擋壁及一形成于擋壁與帽蓋本體的外表面間的集塵溝。
[0005]根據(jù)本實用新型的一實施方式，帽蓋本體穿設(shè)于一殼體的一穿孔時，帽蓋本體的外表面與穿孔間形成有一間隙，集塵溝對應(yīng)位于間隙下方。
[0006]根據(jù)另一實施方式，集塵溝的寬度大于或等于間隙寬度。
[0007]根據(jù)另一實施方式，擋壁位于殼體的下方，且當帽蓋本體受拉力而向上移動時，擋壁抵頂于殼體的內(nèi)側(cè)。
[0008]根據(jù)另一實施方式，集塵結(jié)構(gòu)還包括一緩降壁，緩降壁由帽蓋本體的卡合端，向外向下延伸形成，而底盤是由緩降壁的周緣向外延伸形成。
[0009]根據(jù)另一實施方式，緩降壁包含一由卡合端向下向外延伸形成的傾斜部，及一由傾斜部向下延伸形成的垂直部。
[0010]根據(jù)另一實施方式，帽蓋本體穿設(shè)于一殼體的一穿孔時，帽蓋本體的外表面與穿孔間形成有一間隙，緩降壁的傾斜部對應(yīng)位于間隙下方，以導(dǎo)引由間隙進入的細小物體進入集塵溝。
[0011]本實用新型的另一目的在于提供一種電子裝置，其包括:一殼體、一旋鈕帽蓋及一電路組件。殼體具有一穿孔。旋鈕帽蓋包含:一帽蓋本體及一集塵結(jié)構(gòu)。帽蓋本體包含一操作端及—合端。集塵結(jié)構(gòu)設(shè)置于卡合端，集塵結(jié)構(gòu)包括一由卡合端的周緣向外延伸形成的底盤、一由底盤的周緣向操作端方向延伸形成的擋壁及一形成于擋壁與帽蓋本體的外表面間的集塵溝。電路組件具有一設(shè)置有一旋鈕單元的電路基板。其中，旋鈕帽蓋套設(shè)于旋鈕單元上，且旋鈕帽蓋穿過穿孔，而旋鈕帽蓋的外表面與穿孔間形成有一間隙，集塵溝對應(yīng)鄰近于間隙，以承接由間隙進入的細小物體。
[0012]根據(jù)另一實施方式，殼體鄰近于穿孔的周緣處，具有一環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)，集塵結(jié)構(gòu)對應(yīng)位于環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)下方，當帽蓋本體受拉力而向上移動時，擋壁抵頂于環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)。
[0013]根據(jù)另一實施方式，集塵結(jié)構(gòu)還包括一緩降壁，緩降壁由帽蓋本體的卡合端，向外向下延伸形成，而底盤是由緩降壁的周緣向外延伸形成。
[0014]根據(jù)另一實施方式，緩降壁包含一由卡合端向下向外延伸形成的傾斜部，及一由傾斜部向下延伸形成的垂直部，以導(dǎo)引由間隙進入的細小物體進入集塵溝。
[0015]根據(jù)另一實施方式，環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)對應(yīng)于擋壁具有一第一承抵部，而對應(yīng)于傾斜部具有一第二承抵部，當帽蓋本體受拉力而向上移動時，擋壁對應(yīng)抵頂于第一承抵部，而傾斜部對應(yīng)抵頂于第二承抵部。
[0016]根據(jù)另一實施方式，環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)由穿孔的側(cè)壁依序沿垂直方向及水平方向延伸形成，且環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)的內(nèi)側(cè)表面與集塵結(jié)構(gòu)的緩降壁間，形成有一彎曲通道。
[0017]本實用新型的有益效果在于:通過旋鈕帽蓋的集塵溝，可以有效攔截并收集由旋轉(zhuǎn)帽蓋與殼體的穿孔間的間隙進入的環(huán)境中的細小物體，例如灰塵、木屑等，以避免這些細小物體進入電子裝置內(nèi)部，而可能造成電路板、電子元件等毀壞，進而造成電子裝置壽命減少的問題。
[0018]為使能更進一步了解本實用新型的特征及技術(shù)內(nèi)容，請參閱以下有關(guān)本實用新型的詳細說明與附圖，然而所附附圖僅提供參考與說明用，并非用來對本實用新型加以限制。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0019]圖1為本實用新型的旋鈕帽蓋的立體示意圖。
[0020]圖2為本實用新型的旋鈕帽蓋的剖面示意圖。
[0021]圖3為本實用新型的旋鈕帽蓋穿設(shè)于殼體的穿孔的剖面示意圖。
[0022]圖4為圖3中的圈選處A的局部放大示意圖。
[0023]圖5為本實用新型的具有旋鈕帽蓋的電子裝置的分解圖。
[0024]圖6為本實用新型的具有旋鈕帽蓋的電子裝置的組裝示意圖。
[0025]圖7為本實用新型的具有旋鈕帽蓋的電子裝置的剖面示意圖。
[0026]圖8為圖7中的圈選處B的局部放大示意圖。
[0027]其中，附圖標記說明如下:
[0028]旋鈕帽蓋I
[0029]電子裝置2
[0030]帽蓋本體10
[0031]操作端101
[0032]卡合端102
[0033]集塵結(jié)構(gòu)20
[0034]底盤21
[0035]擋壁22
[0036]集塵溝23
[0037]緩降壁24
[0038]傾斜部241
[0039]垂直部242
[0040]殼體30
[0041]穿孔301
[0042]穿孔302
[0043]環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu) 31
[0044]第一承抵部311
[0045]第二承抵部312
[0046]電路組件40
[0047]旋鈕單元41
[0048]電子單元42
[0049]彎曲通道C
[0050]間隙S

【具體實施方式】
[0051 ] 以下借由特定的具體實例說明本實用新型的旋鈕帽蓋及具有該旋鈕帽蓋的電子裝置的實施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可由本說明書所公開的內(nèi)容輕易地了解本實用新型的其他優(yōu)點與功效。本實用新型亦可借由其他不同的具體實例加以施行或應(yīng)用，本說明書中的各項細節(jié)亦可基于不同觀點與應(yīng)用，在不悖離本實用新型的精神下進行各種修飾與變更。并且，本實用新型的附圖僅為簡單說明，并非依實際尺寸描繪，亦即未反應(yīng)出相關(guān)構(gòu)成的實際尺寸，先予說明。以下的實施方式進一步詳細說明本實用新型的觀點，但并非以任何觀點限制本實用新型。
[0052]第一實施例
[0053]請一并參閱圖1及圖2，其為本實用新型的旋鈕帽蓋的實施例的示意圖。如圖所示，旋鈕帽蓋I包含一帽蓋本體10及一集塵結(jié)構(gòu)20。帽蓋本體10包含有一操作端101及一卡合端102。操作端101用以供使用者握持，以旋轉(zhuǎn)帽蓋本體10，實際實施中，操作端101可依需求加設(shè)防滑結(jié)構(gòu)(圖未標示)或是相關(guān)指示結(jié)構(gòu)(圖未標示)，于此不加限制。
[0054]集塵結(jié)構(gòu)20設(shè)置于卡合端102，且集塵結(jié)構(gòu)20包含:一底盤21、一擋壁22及一集塵溝23。底盤21是由帽蓋本體10的卡合端102向外延伸形成，擋壁22則由底盤21的周緣向上延伸形成，而擋壁22與帽蓋本體10間，以此形成集塵溝23。于本實施例附圖中，擋壁22是以垂直的壁面為例，但不局限于此，其外觀可依據(jù)需求加以變更設(shè)計，例如擋壁22的頂端可以是向卡合端102延伸形成的倒鉤狀(圖未示)，又或者，擋壁22可以是向遠離或接近帽蓋本體10的方向傾斜。其中，關(guān)于集塵溝23的外觀、寬度及深度等，于此不多加限制，可依實際需求加以設(shè)計。
[0055]另外，較佳地，集塵結(jié)構(gòu)20還可以包含有一由卡合端102向外向下延伸所形成的緩降壁24，而底盤21則可以是由緩降壁24向外延伸所形成的。緩降壁24可以包含有一由卡合端102向外延伸形成的傾斜部241及一由該傾斜部241向下延伸形成的垂直部242。或者，帽蓋本體10的卡合端102可以是向下向外延伸形成傾斜部241，而傾斜部241再向下延伸形成垂直部242，垂直部242則再向外延伸形成底盤21，最后底盤21的周緣再向操作端101方向向上延伸形成擋壁22，并以此形成集塵溝23。換言之，帽蓋本體10、緩降壁24、底盤21及擋壁22可以是一體成型的設(shè)置。
[0056]如圖3、4所示，旋鈕帽蓋I穿設(shè)于一殼體30的穿孔301中，而帽蓋本體10的外表面與穿孔301間，具有一間隙S，以使旋鈕帽蓋I可自由地于穿孔301中受控制地旋轉(zhuǎn)作動。其中，旋鈕帽蓋I的集塵結(jié)構(gòu)20即對應(yīng)位于間隙S下方，舉例來說，可以是如同附圖中所繪示，緩降壁24對應(yīng)位于間隙S的下方，當然，緩降壁24的外觀形式并不局限于附圖中所繪示的形式，可依據(jù)實際需求加以設(shè)計，例如，垂直部242可以是并非垂直設(shè)置于底盤21上，而可以是向遠離帽蓋本體10的外表面的方向傾斜的結(jié)構(gòu)。
[0057]當細小物體(例如粉塵、木屑、灰塵等)由間隙S進入時，這些細小物體將可沿著緩降壁24的傾斜部241及垂直部242的導(dǎo)引，集中落入集塵溝23中，而不會落入旋鈕帽蓋I下方的電路板(圖未標示)上，借以可有效避免電路板受這些細小物體的影響，而造成損毀或是使用壽命減少的問題。其中，緩降壁24的傾斜部241的傾斜度，可以是趨于平緩，讓由間隙S進入的細小物體，可以先行堆積于傾斜部241，而堆積至一定量后，才向下落入至集塵溝23中。換言之，于實際應(yīng)用中，可以通過調(diào)整傾斜部241的斜率，以使傾斜部241作為阻擋細小物體進入電路板的第一道防線，或者是使傾斜部241作為導(dǎo)引細小物體進入集塵溝23的導(dǎo)引壁。
[0058]另外，值得一提的是，當帽蓋本體10的操作端101受力拉動時，緩降壁24的傾斜部241將可抵頂于穿孔301的側(cè)壁，而使得旋鈕帽蓋I不被拔離穿孔301 ;換言之，本實施例所載的緩降壁24不但可以達到協(xié)助導(dǎo)引由間隙S進入的細小物體落入集塵溝23的功效夕卜，還可同時達到防止旋鈕帽蓋I被拔離穿孔301的功效。
[0059]特別說明的是，于本實施例附圖中，是以集塵結(jié)構(gòu)具有緩降壁為例，但實際應(yīng)用不局限于此，集塵結(jié)構(gòu)亦可以是不具有緩降壁(圖未示)的設(shè)計；而，不具有緩降壁的集塵結(jié)構(gòu)，當旋鈕帽蓋穿設(shè)于穿孔中時，集塵溝可以是直接對應(yīng)位于間隙的下方，以使由間隙進入的細小物體可直接落入集塵溝中；且較佳地集塵溝的寬度可以是大于間隙的寬度，而使擋壁位于殼體下方，借以當帽蓋本體的操作端受拉力時，擋壁可抵頂于殼體的內(nèi)表面，而使旋鈕帽蓋免于被拔離穿孔。
[0060]綜合上述，本實施例的旋鈕帽蓋，通過集塵結(jié)構(gòu)的集塵溝，而可有效地阻擋并收集，由旋鈕帽蓋與穿孔的間隙進入的細小物體，以此可有效保護位于旋鈕帽蓋下方的電路板，免于受細小物體的污染而影響其運作；且本實施例還通過集塵結(jié)構(gòu)的緩降壁的結(jié)構(gòu)設(shè)計，以有效地導(dǎo)引由間隙進入的細小物體，移動至集塵溝中，并且緩降壁的傾斜部還可提供用以細小物體堆積的區(qū)域。換言之，本實施例的緩降壁的傾斜部，不但可以導(dǎo)引細小物體進入集塵溝外，還可用以堆積細小物體。
[0061]又，本實施例的集塵結(jié)構(gòu)位于殼體下方，而非對應(yīng)位于穿孔的下方，借以當旋鈕帽蓋的操作端受拉力時，通過集塵結(jié)構(gòu)的擋壁或是緩降壁與殼體的相互抵頂，而可使旋鈕帽蓋免于被拔離穿孔。換言之，本實施例所舉的旋鈕帽蓋通過集塵結(jié)構(gòu)不但可有效阻擋并收集由間隙進入的細小物體外，還可有效防止旋鈕帽蓋被拔離于殼體的穿孔。
[0062]第二實施例
[0063]請一并參閱圖5至圖8，其為本實用新型的具有旋鈕帽蓋的電子裝置的實施例示意圖。如圖5、6所不，電子裝置2包含:一殼體30、一旋鈕帽蓋I及一電路組件40。殼體30具有至少一個穿孔；于本實施例附圖中，是以兩個穿孔301、302為例(穿孔301用以提供旋鈕帽蓋I設(shè)置，穿孔302用以提供其他電子元件設(shè)置)，但不局限于此。其中，殼體30鄰近于穿孔301的周緣，還可以包含有一環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)31，用以遮蔽部分的穿孔301的周緣。旋鈕帽蓋I具有一帽蓋本體10及一集塵結(jié)構(gòu)20。關(guān)于旋鈕帽蓋I的詳細結(jié)構(gòu)及其連接關(guān)系，與上述實施例相同，于此不多加贅述。電路組件40具有一旋鈕單元41及至少一個電子單元42 ;本實施例中，旋鈕單元41是以可旋轉(zhuǎn)的可變電阻為例，但實際應(yīng)用不局限于此；電子單元42是以顯示單元為例，亦不局限于此。其中，關(guān)于電子單元42與穿孔302的形式及其相互關(guān)系，并非本實用新型的技術(shù)重點，于此不多加著墨。
[0064]如圖7、8所示，其顯示旋鈕帽蓋I套設(shè)于旋鈕單元41，且穿過穿孔301的側(cè)面剖視圖。環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)31可以是殼體30表面由穿孔301的側(cè)壁延伸形成，而與帽蓋本體10的外表面，形成有一間隙S ;帽蓋本體10的集塵結(jié)構(gòu)20則位于環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)31的下方。
[0065]更詳細地說，環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)31可以是由穿孔301的側(cè)壁，先向垂直方向(平行于穿孔301的中心線)延伸后，再向水平方向(朝向穿孔301的中心)延伸形成的，以此可使環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)31的內(nèi)側(cè)表面與集塵結(jié)構(gòu)20的緩降壁24間，形成有一彎曲通道C。其中，環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)31向垂直方向延伸的側(cè)壁，可以是對應(yīng)位于集塵溝23的上方；而且，環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)31向水平方向延伸的側(cè)壁，則可以是對應(yīng)位于傾斜部241的上方，亦即，環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)31的內(nèi)側(cè)壁可以是對應(yīng)于集塵結(jié)構(gòu)20的形狀外觀。較佳地，集塵溝23的寬度可以是大于或等于環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)31向垂直方向延伸的側(cè)壁與緩降壁24的垂直部242的間隔距離，借以集塵溝23可有效地承接由彎曲通道C落下的細小物體。
[0066]具體來說，細小物體多是受重力作用，而由間隙S進入電子裝置2內(nèi)，其穿過間隙S，以進入彎曲通道C后，將因為彎曲通道C的水平及垂直方向組成的彎曲結(jié)構(gòu)，而不易持續(xù)地向下移動，亦即大部分的細小物體，由間隙S進入彎曲通道C后，將直接堆積于緩降壁24的傾斜部241上；而，少部分的細小物體，將沿著傾斜部241向下移動，并受限于環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)31向垂直方向延伸的側(cè)壁與緩降壁24的垂直部242，而集中落入集塵溝23中，亦即部分的未堆積于傾斜部241的細小物體，將受環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)31向垂直方向延伸的側(cè)壁及垂直部242的導(dǎo)引，而落入集塵溝23中。換言之，本實施例通過環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)31配合集塵結(jié)構(gòu)20，以形成彎曲通道C，以此阻擋并收集由間隙S進入的細小物體，以有效大幅降低細小物體進入電路組件40中的機率，進而可有效解決電路組件40因細小物體的進入后，而可能發(fā)生的毀壞或是使用壽命減少的問題。
[0067]另外，值得一提的是，環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)31由穿孔301向垂直方向延伸并向水平方向延伸后，于其側(cè)壁同時形成有一第一承抵部311及一第二承抵部312 ;其中，第一承抵部311即對應(yīng)于集塵結(jié)構(gòu)20的擋壁22，而第二承抵部312則對應(yīng)于集塵結(jié)構(gòu)20的緩降壁24 ;借以，當帽蓋本體10的操作端101受拉力時，集塵結(jié)構(gòu)20的緩降壁24及擋壁22可對應(yīng)抵頂于第一承抵部311及第二承抵部312，以有效避免帽蓋本體10被拔離穿孔301。
[0068]綜合上述，本實施例所舉的電子裝置，其通過設(shè)置于穿孔周緣的環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)與旋鈕帽蓋的集塵結(jié)構(gòu)，對應(yīng)形成彎曲通道，以此使由間隙進入的細小物體，不易持續(xù)向下移動，而多是堆積于緩降壁的傾斜部或是集塵溝中，以防止細小物體進入電路組件，而可能造成電路組件毀壞的問題；且通過與集塵結(jié)構(gòu)相對應(yīng)的外型的環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)的第一承抵部及第二承抵部，以此可有效避免旋鈕帽蓋被拔離穿孔。
[0069]以上所述僅為本實用新型的較佳可行實施例，非因此局限本實用新型，故凡運用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所做的等效技術(shù)變化，均包含于本實用新型的權(quán)利要求書范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種旋鈕帽蓋，其特征在于，所述旋鈕帽蓋包括: 一帽蓋本體，所述帽蓋本體包含一操作端及一卡合端；以及 一集塵結(jié)構(gòu)，所述集塵結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述卡合端，所述集塵結(jié)構(gòu)包括一由所述卡合端的周緣向外延伸形成的底盤、一由所述底盤的周緣向所述操作端方向延伸形成的擋壁及一形成于所述擋壁與所述帽蓋本體的外表面間的集塵溝。
2.如權(quán)利要求1所述的旋鈕帽蓋，其特征在于，所述帽蓋本體穿設(shè)于一殼體的一穿孔時，所述帽蓋本體的外表面與所述穿孔間形成有一間隙，所述集塵溝對應(yīng)位于所述間隙下方。
3.如權(quán)利要求2所述的旋鈕帽蓋，其特征在于，所述集塵溝的寬度大于或等于所述間隙寬度。
4.如權(quán)利要求3所述的旋鈕帽蓋，其特征在于，所述擋壁位于所述殼體的下方，且當所述帽蓋本體受拉力而向上移動時，所述擋壁抵頂于所述殼體的內(nèi)側(cè)。
5.如權(quán)利要求1所述的旋鈕帽蓋，其特征在于，所述集塵結(jié)構(gòu)還包括一緩降壁，所述緩降壁由所述帽蓋本體的所述卡合端，向外向下延伸形成，而所述底盤是由所述緩降壁的周緣向外延伸形成。
6.如權(quán)利要求5所述的旋鈕帽蓋，其特征在于，所述緩降壁包含一由所述卡合端向下向外延伸形成的傾斜部，及一由所述傾斜部向下延伸形成的垂直部。
7.如權(quán)利要求6所述的旋鈕帽蓋，其特征在于，所述帽蓋本體穿設(shè)于一殼體的一穿孔時，所述帽蓋本體的外表面與所述穿孔間形成有一間隙，所述緩降壁的所述傾斜部對應(yīng)位于所述間隙下方，以導(dǎo)引由所述間隙進入的細小物體進入所述集塵溝。
8.一種電子裝置，其特征在于，所述電子裝置包含: 一殼體，所述殼體具有一穿孔； 一旋鈕帽蓋，所述旋鈕帽蓋包含: 一帽蓋本體，所述帽蓋本體包含一操作端及一卡合端；以及 一集塵結(jié)構(gòu)，所述集塵結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述卡合端，所述集塵結(jié)構(gòu)包括一由所述卡合端的周緣向外延伸形成的底盤、一由所述底盤的周緣向所述操作端方向延伸形成的擋壁及一形成于所述擋壁與所述帽蓋本體的外表面間的集塵溝；以及 一電路組件，所述電路組件具有一設(shè)置有一旋鈕單元的電路基板； 其中，所述旋鈕帽蓋套設(shè)于所述旋鈕單元上，且所述旋鈕帽蓋穿過所述穿孔，而所述旋鈕帽蓋的外表面與所述穿孔間形成有一間隙，所述集塵溝對應(yīng)位于所述間隙下方。
9.如權(quán)利要求8所述的電子裝置，其特征在于，所述殼體鄰近于所述穿孔的周緣處，具有一環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)，所述集塵結(jié)構(gòu)對應(yīng)位于所述環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)下方，當所述帽蓋本體受拉力而向上移動時，所述擋壁抵頂于所述環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)。
10.如權(quán)利要求9所述的電子裝置，其特征在于，所述集塵結(jié)構(gòu)還包括一緩降壁，所述緩降壁由所述帽蓋本體的所述卡合端，向外向下延伸形成，而所述底盤是由所述緩降壁的周緣向外延伸形成。
11.如權(quán)利要求10所述的電子裝置，其特征在于，所述緩降壁包含一由所述卡合端向下向外延伸形成的傾斜部，及一由所述傾斜部向下延伸形成的垂直部，以導(dǎo)引由所述間隙進入的細小物體進入所述集塵溝。
12.如權(quán)利要求11所述的電子裝置，其特征在于，所述環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)對應(yīng)于所述擋壁具有一第一承抵部，而對應(yīng)于所述傾斜部具有一第二承抵部，當所述帽蓋本體受拉力而向上移動時，所述擋壁對應(yīng)抵頂于所述第一承抵部，而所述傾斜部對應(yīng)抵頂于所述第二承抵部。
13.如權(quán)利要求10所述的電子裝置，其特征在于，所述環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)由所述穿孔的側(cè)壁依序沿垂直方向及水平方向延伸形成，且所述環(huán)狀遮蔽結(jié)構(gòu)的內(nèi)側(cè)表面與所述集塵結(jié)構(gòu)的所述緩降壁間，形成有一彎曲通道。
【文檔編號】G05G1/10GK203950241SQ201420254696
【公開日】2014年11月19日 申請日期:2014年5月16日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月16日
【發(fā)明者】何俊龍, 李宜勛, 歐明威, 林源富 申請人:光寶電子(廣州)有限公司, 光寶科技股份有限公司