本技術(shù)涉及設(shè)備控制，特別涉及一種裂解爐控制方法、裝置、系統(tǒng)及存儲(chǔ)介質(zhì)。

背景技術(shù)：

1、裂解爐是乙烯制備等大型化工企業(yè)的主要反應(yīng)設(shè)備，隨著規(guī)模的擴(kuò)大，裂解爐的尺寸逐步增加，導(dǎo)致裂解爐的氧含量和溫度的控制難度增大，經(jīng)常會(huì)出現(xiàn)頂部和底部不均衡的情況。現(xiàn)有技術(shù)中沒(méi)有考慮裂解爐尺寸上引擎的不均衡，無(wú)法精準(zhǔn)對(duì)裂解爐的進(jìn)行控制，進(jìn)而導(dǎo)致煙氣排放不達(dá)環(huán)保標(biāo)準(zhǔn)以及燃料的浪費(fèi)。

2、因此，如何提供一種裂解爐控制方法，以提高大型裂解爐的控制的精確度，成為一項(xiàng)亟待解決的技術(shù)問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本技術(shù)提供一種裂解爐控制方法、裝置、系統(tǒng)及存儲(chǔ)介質(zhì)，用以提高大型裂解爐風(fēng)門(mén)和負(fù)壓控制的精確度。

2、本技術(shù)提供一種裂解爐控制方法，包括：

3、當(dāng)裂解爐運(yùn)行時(shí)，獲取裂解爐預(yù)設(shè)參數(shù)的監(jiān)測(cè)值和標(biāo)準(zhǔn)值，其中，所述預(yù)設(shè)參數(shù)至少包括裂解爐爐膛內(nèi)的氧含量和裂解爐爐膛內(nèi)多個(gè)監(jiān)測(cè)點(diǎn)的溫度值；

4、將所述監(jiān)測(cè)值與所述標(biāo)準(zhǔn)值進(jìn)行對(duì)比，確定裂解爐的整體控制偏差；

5、根據(jù)所述整體控制偏差對(duì)裂解爐的負(fù)壓值進(jìn)行調(diào)整。

6、本技術(shù)的有益效果在于：當(dāng)裂解爐運(yùn)行時(shí)，獲取裂解爐預(yù)設(shè)參數(shù)的監(jiān)測(cè)值和標(biāo)準(zhǔn)值，其中，所述預(yù)設(shè)參數(shù)至少包括裂解爐爐膛內(nèi)的氧含量和裂解爐爐膛內(nèi)多個(gè)監(jiān)測(cè)點(diǎn)的溫度值；將所述監(jiān)測(cè)值與所述標(biāo)準(zhǔn)值進(jìn)行對(duì)比，確定裂解爐的整體控制偏差；根據(jù)所述整體控制偏差對(duì)裂解爐的負(fù)壓值進(jìn)行調(diào)整。由于監(jiān)測(cè)了裂解爐的多個(gè)監(jiān)測(cè)點(diǎn)的監(jiān)測(cè)值，并根據(jù)多個(gè)監(jiān)測(cè)點(diǎn)的監(jiān)測(cè)值綜合確定了裂解爐的整體控制偏差，進(jìn)而避免了通過(guò)單一監(jiān)測(cè)值對(duì)裂解爐進(jìn)行偏差控制導(dǎo)致的誤差，提高了裂解爐控制的精確度。

7、在一個(gè)實(shí)施例中，所述將所述監(jiān)測(cè)值與所述標(biāo)準(zhǔn)值進(jìn)行對(duì)比，確定裂解爐的整體控制偏差，包括：

8、根據(jù)各個(gè)預(yù)設(shè)參數(shù)的監(jiān)測(cè)值和標(biāo)準(zhǔn)值計(jì)算各個(gè)預(yù)設(shè)參數(shù)的絕對(duì)偏差的絕對(duì)值；

9、當(dāng)存在絕對(duì)偏差的絕對(duì)值大于對(duì)應(yīng)的最大控制偏差絕對(duì)值的預(yù)設(shè)參數(shù)時(shí)，根據(jù)各個(gè)預(yù)設(shè)參數(shù)的監(jiān)測(cè)值和標(biāo)準(zhǔn)值計(jì)算各個(gè)預(yù)設(shè)參數(shù)的相對(duì)偏差的絕對(duì)值；

10、確定相對(duì)偏差的絕對(duì)值最大的預(yù)設(shè)參數(shù)對(duì)應(yīng)的絕對(duì)偏差為裂解爐的整體控制偏差。

11、在一個(gè)實(shí)施例中，所述方法還包括：

12、當(dāng)不存在絕對(duì)偏差的絕對(duì)值大于對(duì)應(yīng)的最大控制偏差絕對(duì)值的預(yù)設(shè)參數(shù)時(shí)，確定各個(gè)預(yù)設(shè)參數(shù)的加權(quán)偏差之和為裂解爐的整體控制偏差。

13、在一個(gè)實(shí)施例中，所述根據(jù)所述整體控制偏差對(duì)裂解爐的負(fù)壓值進(jìn)行調(diào)整，包括：

14、獲取風(fēng)門(mén)控制回路的調(diào)整增益和負(fù)壓控制回路的調(diào)整增益；

15、計(jì)算所述整體控制偏差與所述風(fēng)門(mén)控制回路的調(diào)整增益的比值作為風(fēng)門(mén)控制回路對(duì)應(yīng)的第一負(fù)壓值調(diào)整量，并計(jì)算所述整體控制偏差與所述負(fù)壓控制回路的調(diào)整增益的比值作為負(fù)壓控制回路對(duì)應(yīng)的第二負(fù)壓值調(diào)整量；

16、根據(jù)所述第一負(fù)壓值調(diào)整量和所述第二負(fù)壓值調(diào)整量對(duì)裂解爐的負(fù)壓值進(jìn)行調(diào)整。

17、在一個(gè)實(shí)施例中，所述風(fēng)門(mén)控制回路的調(diào)整增益通過(guò)如下方式獲?。?/p>

18、通過(guò)如下公式確定風(fēng)門(mén)控制回路的調(diào)整增益：

19、

20、其中，g1為風(fēng)門(mén)控制回路的調(diào)整增益，為預(yù)測(cè)參數(shù)的個(gè)數(shù)，ai2為第i個(gè)預(yù)設(shè)參數(shù)的最大控制偏差絕對(duì)值，ai3為第i個(gè)預(yù)設(shè)參數(shù)的控制偏差系數(shù)，k1為風(fēng)門(mén)控制回路的調(diào)整下限值，k2為風(fēng)門(mén)控制回路的調(diào)整上限值。

21、在一個(gè)實(shí)施例中，所述負(fù)壓控制回路的調(diào)整增益通過(guò)如下方式獲?。?/p>

22、通過(guò)如下公式確定負(fù)壓控制回路的調(diào)整增益：

23、

24、其中，g2為負(fù)壓控制回路的調(diào)整增益，為預(yù)測(cè)參數(shù)的個(gè)數(shù)，ai2為第i個(gè)預(yù)設(shè)參數(shù)的最大控制偏差絕對(duì)值，ai3為第i個(gè)預(yù)設(shè)參數(shù)的控制偏差系數(shù)，j1為負(fù)壓控制回路的調(diào)整下限值，j2為負(fù)壓控制回路的調(diào)整上限值。

25、在一個(gè)實(shí)施例中，所述根據(jù)所述第一負(fù)壓值調(diào)整量和所述第二負(fù)壓值調(diào)整量對(duì)裂解爐的負(fù)壓值進(jìn)行調(diào)整，包括：

26、當(dāng)裂解爐當(dāng)前的負(fù)壓值大于負(fù)壓控制回路的調(diào)整下限值且小于負(fù)壓控制回路的調(diào)整上限值時(shí)，將所述第二負(fù)壓值調(diào)整量發(fā)送給所述負(fù)壓控制回路，以使所述負(fù)壓控制回路根據(jù)所述第二負(fù)壓值調(diào)整量對(duì)裂解爐的負(fù)壓值進(jìn)行調(diào)整；

27、當(dāng)裂解爐當(dāng)前的負(fù)壓值等于負(fù)壓控制回路的調(diào)整下限值或當(dāng)前的負(fù)壓值等于負(fù)壓控制回路調(diào)整上限值時(shí)，將所述第一負(fù)壓值調(diào)整量發(fā)送給所述風(fēng)門(mén)控制回路，以使所述風(fēng)門(mén)控制回路根據(jù)所述第一負(fù)壓值調(diào)整量對(duì)裂解爐的負(fù)壓進(jìn)行調(diào)整。

28、本技術(shù)還提供一種裂解爐控制裝置，包括：

29、獲取模塊，用于當(dāng)裂解爐運(yùn)行時(shí)，獲取裂解爐預(yù)設(shè)參數(shù)的監(jiān)測(cè)值和標(biāo)準(zhǔn)值，其中，所述預(yù)設(shè)參數(shù)至少包括裂解爐爐膛內(nèi)的氧含量和裂解爐爐膛內(nèi)多個(gè)監(jiān)測(cè)點(diǎn)的溫度值；

30、確定模塊，用于將所述監(jiān)測(cè)值與所述標(biāo)準(zhǔn)值進(jìn)行對(duì)比，確定裂解爐的整體控制偏差；

31、調(diào)整模塊，用于根據(jù)所述整體控制偏差對(duì)裂解爐的負(fù)壓值進(jìn)行調(diào)整。

32、在一個(gè)實(shí)施例中，所述確定模塊，包括：

33、第一計(jì)算子模塊，用于根據(jù)各個(gè)預(yù)設(shè)參數(shù)的監(jiān)測(cè)值和標(biāo)準(zhǔn)值計(jì)算各個(gè)預(yù)設(shè)參數(shù)的絕對(duì)偏差的絕對(duì)值；

34、第二計(jì)算子模塊，用于當(dāng)存在絕對(duì)偏差的絕對(duì)值大于對(duì)應(yīng)的最大控制偏差絕對(duì)值的預(yù)設(shè)參數(shù)時(shí)，根據(jù)各個(gè)預(yù)設(shè)參數(shù)的監(jiān)測(cè)值和標(biāo)準(zhǔn)值計(jì)算各個(gè)預(yù)設(shè)參數(shù)的相對(duì)偏差的絕對(duì)值；

35、第一確定子模塊，用于確定相對(duì)偏差的絕對(duì)值最大的預(yù)設(shè)參數(shù)對(duì)應(yīng)的絕對(duì)偏差為裂解爐的整體控制偏差。

36、在一個(gè)實(shí)施例中，所述方法還包括：

37、第二確定子模塊，用于當(dāng)不存在絕對(duì)偏差的絕對(duì)值大于對(duì)應(yīng)的最大控制偏差絕對(duì)值的預(yù)設(shè)參數(shù)時(shí)，確定各個(gè)預(yù)設(shè)參數(shù)的加權(quán)偏差之和為裂解爐的整體控制偏差。

38、在一個(gè)實(shí)施例中，所述調(diào)整模塊，包括：

39、獲取子模塊，用于獲取風(fēng)門(mén)控制回路的調(diào)整增益和負(fù)壓控制回路的調(diào)整增益；

40、第三計(jì)算子模塊，用于計(jì)算所述整體控制偏差與所述風(fēng)門(mén)控制回路的調(diào)整增益的比值作為風(fēng)門(mén)控制回路對(duì)應(yīng)的第一負(fù)壓值調(diào)整量，并計(jì)算所述整體控制偏差與所述負(fù)壓控制回路的調(diào)整增益的比值作為負(fù)壓控制回路對(duì)應(yīng)的第二負(fù)壓值調(diào)整量；

41、調(diào)整子模塊，用于根據(jù)所述第一負(fù)壓值調(diào)整量和所述第二負(fù)壓值調(diào)整量對(duì)裂解爐的負(fù)壓值進(jìn)行調(diào)整。

42、在一個(gè)實(shí)施例中，所述獲取子模塊，用于：

43、通過(guò)如下公式確定風(fēng)門(mén)控制回路的調(diào)整增益：

44、

45、其中，g1為風(fēng)門(mén)控制回路的調(diào)整增益，為預(yù)測(cè)參數(shù)的個(gè)數(shù)，ai2為第i個(gè)預(yù)設(shè)參數(shù)的最大控制偏差絕對(duì)值，ai3為第i個(gè)預(yù)設(shè)參數(shù)的控制偏差系數(shù)，k1為風(fēng)門(mén)控制回路的調(diào)整下限值，k2為風(fēng)門(mén)控制回路的調(diào)整上限值。

46、在一個(gè)實(shí)施例中，所述獲取子模塊，還用于：

47、通過(guò)如下公式確定負(fù)壓控制回路的調(diào)整增益：

48、

49、其中，g2為負(fù)壓控制回路的調(diào)整增益，為預(yù)測(cè)參數(shù)的個(gè)數(shù)，ai2為第i個(gè)預(yù)設(shè)參數(shù)的最大控制偏差絕對(duì)值，ai3為第i個(gè)預(yù)設(shè)參數(shù)的控制偏差系數(shù)，j1為負(fù)壓控制回路的調(diào)整下限值，j2為負(fù)壓控制回路的調(diào)整上限值。

50、在一個(gè)實(shí)施例中，所述調(diào)整子模塊，用于：

51、當(dāng)裂解爐當(dāng)前的負(fù)壓值大于負(fù)壓控制回路的調(diào)整下限值且小于負(fù)壓控制回路的調(diào)整上限值時(shí)，將所述第二負(fù)壓值調(diào)整量發(fā)送給所述負(fù)壓控制回路，以使所述負(fù)壓控制回路根據(jù)所述第二負(fù)壓值調(diào)整量對(duì)裂解爐的負(fù)壓值進(jìn)行調(diào)整；

52、當(dāng)裂解爐當(dāng)前的負(fù)壓值等于負(fù)壓控制回路的調(diào)整下限值或當(dāng)前的負(fù)壓值等于負(fù)壓控制回路調(diào)整上限值時(shí)，將所述第一負(fù)壓值調(diào)整量發(fā)送給所述風(fēng)門(mén)控制回路，以使所述風(fēng)門(mén)控制回路根據(jù)所述第一負(fù)壓值調(diào)整量對(duì)裂解爐的負(fù)壓進(jìn)行調(diào)整。

53、本技術(shù)還提供一種裂解爐控制系統(tǒng)，包括：

54、至少一個(gè)處理器；以及，

55、與所述至少一個(gè)處理器通信連接的存儲(chǔ)器；其中，

56、所述存儲(chǔ)器存儲(chǔ)有可被所述至少一個(gè)處理器執(zhí)行的指令，所述指令被所述至少一個(gè)處理器執(zhí)行以實(shí)現(xiàn)上述任一實(shí)施例所記載的裂解爐控制方法。

57、本技術(shù)還提供一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，當(dāng)存儲(chǔ)介質(zhì)中的指令由裂解爐控制系統(tǒng)對(duì)應(yīng)的處理器執(zhí)行時(shí)，使得裂解爐控制系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)上述任一實(shí)施例所記載的裂解爐控制方法。

58、本技術(shù)的其它特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的說(shuō)明書(shū)中闡述，并且，部分地從說(shuō)明書(shū)中變得顯而易見(jiàn)，或者通過(guò)實(shí)施本技術(shù)而了解。本技術(shù)的目的和其他優(yōu)點(diǎn)可通過(guò)在所寫(xiě)的說(shuō)明書(shū)、權(quán)利要求書(shū)、以及附圖中所特別指出的結(jié)構(gòu)來(lái)實(shí)現(xiàn)和獲得。

59、下面通過(guò)附圖和實(shí)施例，對(duì)本技術(shù)的技術(shù)方案做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。