本技術(shù)涉及現(xiàn)代煤化工,特別涉及一種適用連續(xù)排放高溫熔渣的氣化爐的液位控制系統(tǒng)。
背景技術(shù):
1、無(wú)煙塊煤是優(yōu)質(zhì)的化工原料,在我國(guó)有豐富的資源,無(wú)煙塊煤反應(yīng)器要求高壓6.5mpa、高溫1600~1800℃、熔融液渣溫度保持在~1650℃,要實(shí)現(xiàn)熔渣的精確測(cè)量及順暢排出,一直是一個(gè)難點(diǎn)。
2、常規(guī)的接觸式料位計(jì)難以滿足此嚴(yán)苛的環(huán)境,且容易發(fā)生故障;而在非接觸式料位測(cè)量?jī)x表中,由于容器內(nèi)同時(shí)有煤塊及其他混合氣體,從而對(duì)雷達(dá)和超聲波發(fā)生的信號(hào)造成干擾,降低了儀表測(cè)量的精度。
3、由此可見(jiàn),提供一種適用連續(xù)排放高溫熔渣的氣化爐的的液位控制系統(tǒng),是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的技術(shù)難題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷,提供一種液位控制系統(tǒng)。
2、本實(shí)用新型是通過(guò)下述技術(shù)方案來(lái)解決上述技術(shù)問(wèn)題:
3、一種液位控制系統(tǒng),適用于連續(xù)排放高溫熔渣的氣化爐,包括:
4、液位測(cè)量單元,安裝于所述氣化爐外殼,用于測(cè)量所述氣化爐內(nèi)的物料液位,所述液位測(cè)量單元包括同位素放射源、探測(cè)器和信號(hào)轉(zhuǎn)換器,所述探測(cè)器探測(cè)所述同位素放射源發(fā)出的射線并間接得到熔渣的液位信號(hào),所述信號(hào)轉(zhuǎn)換器與所述探測(cè)器電連接,以將所述液位信號(hào)轉(zhuǎn)換為電信號(hào);
5、液位控制單元,包括輸入信號(hào)處理器、邏輯運(yùn)算器和控制輸出器,所述輸入信號(hào)處理器與所述信號(hào)轉(zhuǎn)換器電連接,用于將所述電信號(hào)處理成數(shù)字信號(hào);所述邏輯運(yùn)算器與所述輸入信號(hào)處理器電連接,用于將所述數(shù)字信號(hào)轉(zhuǎn)換成控制指令信號(hào),所述控制輸出器與所述邏輯運(yùn)算器電連接,用于將所述控制指令信號(hào)轉(zhuǎn)換為模擬量信號(hào);
6、排放閥單元,包括氣動(dòng)執(zhí)行器和閥門,所述閥門安裝于所述氣化爐底部的排放通道,所述氣動(dòng)執(zhí)行器與所述控制輸出器電連接,用于接收并響應(yīng)所述模擬量信號(hào),以控制所述閥門的開(kāi)度。
7、較佳地,所述排放閥單元還包括電磁閥,所述電磁閥與所述控制輸出器電連接,用于接收所述控制輸出器發(fā)出的開(kāi)關(guān)量信號(hào)以直接關(guān)閉所述閥門。
8、較佳地,所述電磁閥采用雙電磁閥配置。
9、較佳地,所述探測(cè)器與所述同位素放射源相向放置。
10、較佳地,所述同位素放射源采用鈷-60放射源。
11、較佳地,所述同位素放射源為點(diǎn)型。
12、較佳地,所述信號(hào)轉(zhuǎn)換器與所述探測(cè)器集成為一體。
13、較佳地,所述探測(cè)器采用閃爍晶體型探測(cè)器。
14、較佳地,所述閥門包括閥體和閥芯,所述閥體與所述閥芯材質(zhì)采用陶瓷制成,所述閥體以及所述閥芯與熔渣相接的表面噴涂耐高溫的氧化鋯。
15、較佳地,所述閥門采用球閥。
16、在符合本領(lǐng)域常識(shí)的基礎(chǔ)上,上述各優(yōu)選條件,可任意組合,即得本實(shí)用新型各較佳實(shí)例。
17、本實(shí)用新型的積極進(jìn)步效果在于:本實(shí)用新型的液位控制系統(tǒng),包括液位測(cè)量單元、液位控制單元和排放閥單元,本實(shí)用新型的液位控制系統(tǒng)對(duì)于熔渣物料的液位的測(cè)量不受壓力、粘度、顏色和化學(xué)性質(zhì)的影響,測(cè)量結(jié)果更加精確可靠,進(jìn)而能夠適用于連續(xù)排放高溫熔渣的氣化爐。
1.一種液位控制系統(tǒng),適用于連續(xù)排放高溫熔渣的氣化爐,其特征在于,包括:
2.如權(quán)利要求1所述的液位控制系統(tǒng),其特征在于,所述排放閥單元還包括電磁閥,所述電磁閥與所述控制輸出器電連接,用于接收所述控制輸出器發(fā)出的開(kāi)關(guān)量信號(hào)以直接關(guān)閉所述閥門。
3.如權(quán)利要求2所述的液位控制系統(tǒng),其特征在于,所述電磁閥采用雙電磁閥配置。
4.如權(quán)利要求1所述的液位控制系統(tǒng),其特征在于,所述探測(cè)器與所述同位素放射源相向放置。
5.如權(quán)利要求1所述的液位控制系統(tǒng),其特征在于,所述同位素放射源采用鈷-60放射源。
6.如權(quán)利要求1所述的液位控制系統(tǒng),其特征在于,所述同位素放射源為點(diǎn)型。
7.如權(quán)利要求1所述的液位控制系統(tǒng),其特征在于,所述信號(hào)轉(zhuǎn)換器與所述探測(cè)器集成為一體。
8.如權(quán)利要求1所述的液位控制系統(tǒng),其特征在于,所述探測(cè)器采用閃爍晶體型探測(cè)器。
9.如權(quán)利要求1所述的液位控制系統(tǒng),其特征在于,所述閥門包括閥體和閥芯,所述閥體與所述閥芯材質(zhì)采用陶瓷制成,所述閥體以及所述閥芯與熔渣相接的表面噴涂耐高溫的氧化鋯。
10.如權(quán)利要求1所述的液位控制系統(tǒng),其特征在于,所述閥門采用球閥。