專利名稱:設計及制作鏡頭模塊的方法及系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明是關(guān)于一種鏡頭模塊，特別是關(guān)于一種整合了設計及制作鏡頭模塊的方法及系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
與信息工業(yè)相比，光學產(chǎn)業(yè)雖然具有較高的毛利率，但由于光學產(chǎn)業(yè)類似于傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)，也就是說光學產(chǎn)業(yè)必需高度仰賴技術(shù)人員的經(jīng)驗累積，尤其是要依靠先進國家(例如日本)的技術(shù)人員，方能將光學產(chǎn)品制作的盡善盡美，因此，光學產(chǎn)品通常具有較長的開發(fā)期。由于光學產(chǎn)品的開發(fā)期過長，因此，常會發(fā)生已設計完畢的光學產(chǎn)品(例如鏡頭模塊)，卻無法制作的窘境。
為了解決上述問題，美國專利第5,067,067號”METHOD FOREVALUAING AND DESIGNING LENSES”將鏡片制作時應考慮的加工能力及成本問題，加入到光學設計時的評價函數(shù)(merit function)內(nèi)，以使得光學優(yōu)化(optimization)時，能將制作的因素一并納入。
然而，該現(xiàn)有技術(shù)是提高鏡片產(chǎn)品的可制造性為主要目的，將光學制作的因素納入優(yōu)化過程中，雖然對鏡片本身的可制造性確有好處，但這并非業(yè)界所遇到的主要問題，且對鏡片之間或鏡頭模塊及光學系統(tǒng)上可能發(fā)生的問題毫無幫助。如以現(xiàn)有技術(shù)考慮鏡片制作方法，就目前而言已不合時宜。

發(fā)明內(nèi)容為克服上述現(xiàn)有技術(shù)的問題，本發(fā)明的主要目的在于提供一種整合了設計及制作鏡頭模塊的方法及系統(tǒng)，以解決現(xiàn)有技術(shù)的缺點。
為達成上揭及其它目的，本發(fā)明提供一種設計及制作鏡頭模塊的方法，該方法包括依據(jù)要制造鏡頭模塊的特性，在儲存有設計參數(shù)的設計數(shù)據(jù)庫內(nèi)選取該鏡頭模塊的設計參數(shù)，以設計出該鏡頭模塊，并將該鏡頭模塊的設計參數(shù)儲存在分析數(shù)據(jù)庫；依據(jù)預定的分析程序，分析該鏡頭模塊，產(chǎn)生對應于該鏡頭模塊的分析參數(shù)，將該鏡頭模塊在制程、光機接口及組裝過程發(fā)生的質(zhì)量問題均呈現(xiàn)出來，并將該質(zhì)量問題及對應于該鏡頭模塊的分析參數(shù)儲存在該分析數(shù)據(jù)庫；以及依據(jù)該分析數(shù)據(jù)庫內(nèi)儲存的分析參數(shù)，使用該鏡頭模塊在實際制作完成后的信息，重新設計該鏡頭模塊，以修正該方法的精確度。
在本發(fā)明中，該制程參數(shù)包括注射成形、玻璃模造、研磨拋光及模仁加工，該設計參數(shù)是分為光學及機構(gòu)兩部份，并包括該鏡頭模塊的光學型態(tài)、光學主規(guī)格及專利宣告范圍，該方法在設計出該鏡頭模塊時，應一并考慮該光學及該機構(gòu)兩部份；該鏡頭模塊是借由專家系統(tǒng)(expert system)式的輔助光學設計選型及專利回避予以設計；該鏡頭模塊是由個別的設計軟件或整合式光學及機構(gòu)的設計軟件予以設計；該方法在設計出該鏡頭模塊，并將該鏡頭模塊的設計參數(shù)儲存在分析數(shù)據(jù)庫時，另該鏡頭模塊及該鏡頭模塊所對應的設計參數(shù)儲存在案例數(shù)據(jù)庫；該方法依據(jù)該預定的分析程序分析該鏡頭模塊時，另據(jù)此產(chǎn)生對應于該鏡頭模塊的制程參數(shù)，該預定的分析程序是借由公差分析方法，將該鏡頭模塊的設計參數(shù)及制程參數(shù)作最合理化的分配，并將該鏡頭模塊的組裝能力參數(shù)及該鏡頭模塊的基本光學及機構(gòu)制程能力參數(shù)予以分級；借由該公差分析方法分析該鏡頭模塊時，另將該鏡頭模塊的光學誤差分成對稱及非對稱兩類，該對稱及該非對稱光學誤差，可借由調(diào)整該鏡頭模塊中軸上及橫向補償元件的自由度的方式而減少，經(jīng)過這樣虛擬制造(virtual manufacturing)的仿真分析過程，該鏡頭模塊可因而獲得良率及成本的最佳化；該方法還包括借由質(zhì)量不良模式分析，對該對稱及非對稱光學誤差作系統(tǒng)性的分類，并據(jù)此將預測出的嚴重及常出現(xiàn)的質(zhì)量不良模式予以分類，并接著依據(jù)該質(zhì)量不良模式分析的分析結(jié)果，使用自動化或半自動化測試儀器進行錯誤特征(failure symptom)測試，并依據(jù)該鏡頭模塊的瑕疵，使用如田口工程法的質(zhì)量工程法評估及推論該瑕疵的發(fā)生原因。
為達成上揭及其它目的，本發(fā)明提供一種設計及制作鏡頭模塊的系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括設計數(shù)據(jù)庫，儲存有設計參數(shù)；設計模塊，連接于該設計數(shù)據(jù)庫，依據(jù)該鏡頭模塊的特性，該設計數(shù)據(jù)庫內(nèi)選取適合該鏡頭模塊的設計參數(shù)，設計出該鏡頭模塊；分析模塊，依據(jù)預定的分析程序，分析該設計模塊所設計的鏡頭模塊，并據(jù)此產(chǎn)生對應于該鏡頭模塊的分析參數(shù)，將該鏡頭模塊在制程、光機接口及組裝過程中發(fā)生的質(zhì)量問題均呈現(xiàn)出來；以及分析數(shù)據(jù)庫，儲存該分析模塊分析過的鏡頭模塊的設計參數(shù)、分析參數(shù)及質(zhì)量問題；其中，該設計模塊另依據(jù)該分析數(shù)據(jù)庫內(nèi)儲存的該鏡頭模塊的分析參數(shù)，并使用該鏡頭模塊在實際制作完成后的信息，重新設計該鏡頭模塊，以修正該系統(tǒng)的精確度。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的設計及制作鏡頭模塊的方法及系統(tǒng)可累積光學產(chǎn)品的開發(fā)經(jīng)驗，不再需要依賴技術(shù)人員的經(jīng)驗累積，因此，光學產(chǎn)品的可制造性(manufacturability)可有效地提升，相應地，光學產(chǎn)品的開發(fā)風險也可降低，整體光學產(chǎn)業(yè)的競爭力也更可同時進一步地提升。
圖1是本發(fā)明設計及制造鏡頭模塊的系統(tǒng)的功能方塊圖。
圖2為對應于圖1所示的設計及制造鏡頭模塊的方法流程圖。
具體實施方式實施例圖1為本發(fā)明設計及制造鏡頭模塊的系統(tǒng)10的功能方塊圖，系統(tǒng)10是用來設計及制造鏡頭模塊。系統(tǒng)10是將設計及制造鏡頭模塊經(jīng)歷的設計階段12、分析(可制造性(manufacturability)確認)階段14以及制造(或加工)階段16整合在一起。
設計階段12包括設計數(shù)據(jù)庫122、設計模塊124及案例數(shù)據(jù)庫126。設計數(shù)據(jù)庫122內(nèi)儲存有鏡頭模塊的光學型態(tài)、光學主規(guī)格及專利宣告范圍等各種不同的設計參數(shù)，這些設計參數(shù)可分為光學以及機構(gòu)兩部份。相應地用來設計鏡頭模塊的設計模塊124也包括光學設計單元1242以及機構(gòu)設計單元1244，分別用來依據(jù)鏡頭模塊的特性，在設計數(shù)據(jù)庫122內(nèi)選取適合該鏡頭模塊的光學部分設計參數(shù)及機構(gòu)部分設計參數(shù)，設計出該鏡頭模塊的光學部分及機構(gòu)部分。
在本發(fā)明的實施例中，設計模塊124是借由專家系統(tǒng)(expert system)式的輔助光學設計選型及專利回避設計鏡頭模塊。此外，設計模塊124在設計該鏡頭模塊時，會一并考慮該鏡頭模塊的光學以及機構(gòu)兩部份。再者，設計模塊124是借由個別的設計軟件、或整合式光學及機構(gòu)設計軟件執(zhí)行鏡頭模塊的設計工作。最后，設計模塊124在設計完成該鏡頭模塊時，會將該鏡頭模塊及該鏡頭模塊所對應的設計參數(shù)儲存在案例數(shù)據(jù)庫126，不論該鏡頭模塊有無專利，都作為其它設計者在設計鏡頭模塊時的案例。
分析階段14包括分析模塊142及分析數(shù)據(jù)庫144。分析模塊142中的可制造性單元1422是依據(jù)預定的分析程序，分析鏡頭模塊，并據(jù)此產(chǎn)生對應于該鏡頭模塊的分析參數(shù)。分析數(shù)據(jù)庫144是用來儲存分析模塊142所分析過的鏡頭模塊的設計參數(shù)及分析參數(shù)。如此一來，設計階段12內(nèi)的設計模塊124便可依據(jù)其之前所設計的鏡頭模塊，經(jīng)分析階段14內(nèi)的分析模塊142分析過后所得到的分析參數(shù)，重新設計該鏡頭模塊。經(jīng)過多次的設計及分析過后，分析數(shù)據(jù)庫144內(nèi)便可積累大量的設計參數(shù)與對應于該設計參數(shù)的分析參數(shù)，因此，設計者之后在設計其它鏡頭模塊時，便可參考分析數(shù)據(jù)庫144內(nèi)積累的分析參數(shù)，設計鏡頭模塊，減少依賴有經(jīng)驗的技術(shù)人員了，并從而可提升光學產(chǎn)品的可制造性(manufacturability)以及降低光學產(chǎn)品的開發(fā)風險。
在本發(fā)明的實施例中，分析模塊142的可制造性單元1422依據(jù)該預定的分析程序，分析該鏡頭模塊時，另會產(chǎn)生對應于該鏡頭模塊的制造參數(shù)。此外，該預定的分析程序是借由公差分析方法，將該鏡頭模塊的設計參數(shù)及制程參數(shù)作最合理化的分配，其中，該制程參數(shù)包括注射成形、玻璃模造、研磨拋光及模仁加工等。再者，分析模塊142中的錯誤模式效應分析單元(failure mode effect analysis，F(xiàn)MEA)1424借由該公差分析方法分析該鏡頭模塊時，會將該鏡頭模塊的組裝能力參數(shù)及該鏡頭模塊的基本光學及機構(gòu)制程能力參數(shù)予以分級，并將該鏡頭模塊的光學誤差分成對稱及非對稱兩類，該對稱及該非對稱光學誤差可借由調(diào)整該鏡頭模塊中軸上及橫向補償元件自由度的方式予以減少，并獲得良率及成本的最佳化。
制造階段16包括制造模塊162、自動化(或半自動化)測試儀器164以及廠區(qū)信息控制(Shop Floor Control)系統(tǒng)166。制造模塊162依據(jù)可制造性單元1422經(jīng)由上述虛擬制造的仿真分析過程得到的制程參數(shù)制造鏡頭模塊。自動化測試儀器164依據(jù)錯誤模式效應分析單元(failuremode effect analysis，F(xiàn)MEA)1424對質(zhì)量不良模式進行錯誤特征(failuresymptom)測試，找出該鏡頭模塊的瑕疵，并進而依據(jù)該鏡頭模塊的瑕疵，使用質(zhì)量工程法，例如田口工程法，評估及推論該瑕疵的發(fā)生原因。廠區(qū)信息控制系統(tǒng)166用來收集該鏡頭模塊的制造及質(zhì)量數(shù)據(jù)，該制造及質(zhì)量數(shù)據(jù)可回饋到設計模塊124及分析模塊142，作為設計分析的修正依據(jù)。
本發(fā)明的整合性鏡頭模塊設計及制造系統(tǒng)10中包括的各個階段或模塊，除了可整合在一起共同使用外，也可分開來單獨使用。本發(fā)明的整合性鏡頭模塊設計及制造系統(tǒng)10可應用在鏡頭模塊的數(shù)據(jù)庫運用及光學超精密加工、光機設計、機構(gòu)件制程公差、鏡片夾持及組裝公差等各種不同的范圍以及其中的接口整合。
圖2是對應于鏡頭模塊設計及制造系統(tǒng)10的方法100的流程圖，方法100用來設計及制造鏡頭模塊。方法100開始在步驟102。
在步驟102中，提供設計數(shù)據(jù)庫122，設計數(shù)據(jù)庫122內(nèi)儲存有設計參數(shù)。進到步驟104。
在步驟104中，依據(jù)該鏡頭模塊的特性，在設計數(shù)據(jù)庫122內(nèi)選取適合該鏡頭模塊的設計參數(shù)，設計出該鏡頭模塊。進行步驟106。
在步驟106中，依據(jù)預定的分析程序，分析該鏡頭模塊，并據(jù)此產(chǎn)生對應于該鏡頭模塊的分析參數(shù)及制程參數(shù)，步驟106可將該鏡頭模塊由于制程、光機接口及組裝發(fā)生的質(zhì)量問題均呈現(xiàn)出來。進到步驟108。
在步驟108中，提供分析數(shù)據(jù)庫144，并將該質(zhì)量問題及該鏡頭模塊的設計參數(shù)以及對應于該鏡頭模塊的分析參數(shù)儲存在分析數(shù)據(jù)庫144。進到步驟110。
在步驟110中，依據(jù)分析數(shù)據(jù)庫144內(nèi)儲存的分析參數(shù)，并使用該鏡頭模塊在實際制作完成后的信息(例如測試信息及生產(chǎn)信息等)，重新設計該鏡頭模塊。至此，設計者不僅可依據(jù)儲存在設計數(shù)據(jù)庫122內(nèi)的設計參數(shù)設計該鏡頭模塊，尚可依據(jù)分析數(shù)據(jù)庫144內(nèi)儲存的分析參數(shù)，重新設計該鏡頭模塊，不再需要依賴有經(jīng)驗的技術(shù)人員。進到步驟112。
在步驟112中，借由公差分析方法，將該鏡頭模塊的設計參數(shù)及制程參數(shù)作最合理化的分配，并將該鏡頭模塊的組裝能力參數(shù)以及該鏡頭模塊的基本光學及機構(gòu)制程能力參數(shù)予以分級，其中，該鏡頭模塊的光學誤差是分成對稱及非對稱兩類。進到步驟114。
在步驟114中，調(diào)整該鏡頭模塊中軸上及橫向補償元件的自由度，減少該對稱及該非對稱光學誤差，并獲得良率及成本的最佳化。進到步驟116。
在步驟116中，借由質(zhì)量不良模式分析，對該對稱及非對稱光學誤差作系統(tǒng)性的分類，并據(jù)此將對該鏡頭模塊預測出的嚴重及常出現(xiàn)的質(zhì)量不良模式予以分類。進行步驟118。
在步驟118中，依據(jù)該質(zhì)量不良模式分析的分析結(jié)果，使用自動化或半自動化測試儀器進行錯誤特征測試，找出該鏡頭模塊的瑕疵，并依據(jù)該鏡頭模塊的瑕疵，使用質(zhì)量工程法(例如田口工程法)評估及推論該瑕疵的發(fā)生原因，以及結(jié)合廠區(qū)信息控制系統(tǒng)執(zhí)行制造及質(zhì)量數(shù)據(jù)的收集。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的設計及制作鏡頭模塊的方法由于可積累光學產(chǎn)品的開發(fā)經(jīng)驗，因此，光學產(chǎn)品的可制造性(manufacturability)可有效地提升，相應地，光學產(chǎn)品的開發(fā)風險也可降低，整體光學產(chǎn)業(yè)的競爭力也更可同時進一步地提升。
權(quán)利要求
1.一種設計及制作鏡頭模塊的方法，其特征在于，該方法包括依據(jù)要制造鏡頭模塊的特性，在儲存有設計參數(shù)的設計數(shù)據(jù)庫內(nèi)選取該鏡頭模塊的設計參數(shù)，以設計出該鏡頭模塊，并將該鏡頭模塊的設計參數(shù)儲存在分析數(shù)據(jù)庫；依據(jù)預定的分析程序，分析該鏡頭模塊，產(chǎn)生對應于該鏡頭模塊的分析參數(shù)，將該鏡頭模塊在制程、光機接口及組裝過程發(fā)生的質(zhì)量問題均呈現(xiàn)出來，并將該質(zhì)量問題及對應于該鏡頭模塊的分析參數(shù)儲存在該分析數(shù)據(jù)庫；以及依據(jù)該分析數(shù)據(jù)庫內(nèi)儲存的分析參數(shù)，使用該鏡頭模塊在實際制作完成后的信息，重新設計該鏡頭模塊，以修正該方法的精確度。
2.如權(quán)利要求
1所述的方法，其特征在于，該設計參數(shù)包括該鏡頭模塊的光學型態(tài)、光學主規(guī)格及專利宣告范圍。
3.如權(quán)利要求
1所述的方法，其特征在于，該鏡頭模塊是借由專家系統(tǒng)式的輔助光學設計選型及專利回避予以設計。
4.如權(quán)利要求
1所述的方法，其特征在于，該設計參數(shù)分為光學及機構(gòu)兩部份。
5.如權(quán)利要求
4所述的方法，其特征在于，在設計該鏡頭模塊時，一并考慮該光學及該機構(gòu)兩部份的設計參數(shù)。
6.如權(quán)利要求
4所述的方法，其特征在于，該鏡頭模塊是由個別的設計軟件或整合了光學及機構(gòu)的設計軟件予以設計。
7.如權(quán)利要求
1所述的方法，其特征在于，在設計出該鏡頭模塊，并將該鏡頭模塊的設計參數(shù)儲存在該分析數(shù)據(jù)庫時，另將該鏡頭模塊及該鏡頭模塊所對應的設計參數(shù)儲存在案例數(shù)據(jù)庫。
8.如權(quán)利要求
1所述的方法，其特征在于，依據(jù)該預定的分析程序，分析該鏡頭模塊時，另據(jù)此產(chǎn)生對應于該鏡頭模塊的制程參數(shù)。
9.如權(quán)利要求
8所述的方法，其特征在于，該預定的分析程序是借由公差分析方法，將該鏡頭模塊的設計參數(shù)及制程參數(shù)作最合理化的分配。
10.如權(quán)利要求
9所述的方法，其特征在于，借由該公差分析方法分析該鏡頭模塊時，另將該鏡頭模塊的組裝能力參數(shù)予以分級。
11.如權(quán)利要求
9所述的方法，其特征在于，借由該公差分析方法分析該鏡頭模塊時，另將該鏡頭模塊的基本光學及機構(gòu)制程能力參數(shù)予以分級。
12.如權(quán)利要求
9所述的方法，其特征在于，借由該公差分析方法分析該鏡頭模塊時，另將該鏡頭模塊的光學誤差分成對稱及非對稱兩類。
13.如權(quán)利要求
12所述的方法，其特征在于，該方法還包括調(diào)整該鏡頭模塊中軸上及橫向補償元件的自由度，減少該對稱及該非對稱光學誤差，并獲得良率及成本的最佳化。
14.如權(quán)利要求
12所述的方法，其特征在于，該方法還包括借由質(zhì)量不良模式分析，對該對稱及非對稱光學誤差作系統(tǒng)性的分類，并據(jù)此將預測出的嚴重及常出現(xiàn)的質(zhì)量不良模式予以分類。
15.如權(quán)利要求
14所述的方法，其特征在于，該方法還包括依據(jù)該質(zhì)量不良模式分析的分析結(jié)果，使用自動化或半自動化測試儀器進行錯誤特征測試，并依據(jù)該鏡頭模塊的瑕疵，使用質(zhì)量工程法評估及推論該瑕疵發(fā)生的原因。
16.如權(quán)利要求
15所述的方法，其特征在于，該質(zhì)量工程法為田口工程法。
17.如權(quán)利要求
15所述的方法，其特征在于，依據(jù)該質(zhì)量不良模式分析的分析結(jié)果，使用自動化或半自動化測式儀器進行錯誤特征測試時，另結(jié)合廠區(qū)信息控制系統(tǒng)執(zhí)行制造及質(zhì)量數(shù)據(jù)的收集。
18.如權(quán)利要求
8所述的方法，其特征在于，該制程參數(shù)包括注射成形、玻璃模造、研磨拋光及模仁加工。
19.一種設計及制作鏡頭模塊的系統(tǒng)，其特征在于，該系統(tǒng)包括設計數(shù)據(jù)庫，儲存有設計參數(shù)；設計模塊，連接于該設計數(shù)據(jù)庫，依據(jù)該鏡頭模塊的特性，該設計數(shù)據(jù)庫內(nèi)選取適合該鏡頭模塊的設計參數(shù)，設計出該鏡頭模塊；分析模塊，依據(jù)預定的分析程序，分析該設計模塊所設計的鏡頭模塊，并據(jù)此產(chǎn)生對應于該鏡頭模塊的分析參數(shù)，將該鏡頭模塊在制程、光機接口及組裝過程中發(fā)生的質(zhì)量問題均呈現(xiàn)出來；以及分析數(shù)據(jù)庫，儲存該分析模塊分析過的鏡頭模塊的設計參數(shù)、分析參數(shù)及質(zhì)量問題；其中，該設計模塊另依據(jù)該分析數(shù)據(jù)庫內(nèi)儲存的該鏡頭模塊的分析參數(shù)，并使用該鏡頭模塊在實際制作完成后的信息，重新設計該鏡頭模塊，以修正該系統(tǒng)的精確度。
20.如權(quán)利要求
19所述的系統(tǒng)，其特征在于，該設計參數(shù)包括該鏡頭模塊的光學型態(tài)、光學主規(guī)格及專利宣告范圍。
21.如權(quán)利要求
19所述的系統(tǒng)，其特征在于，該設計模塊是借由專家系統(tǒng)式的輔助光學設計選型及專利回避設計該鏡頭模塊。
22.如權(quán)利要求
19所述的系統(tǒng)，其特征在于，該設計參數(shù)是分為光學及機構(gòu)兩部份，該設計模塊包括光學設計單元及機構(gòu)設計單元，分別用來依據(jù)該鏡頭模塊的特性，在該設計數(shù)據(jù)庫內(nèi)選取適合該鏡頭模塊的光學部分及機構(gòu)部分設計參數(shù)，以設計出該鏡頭模塊的光學部分及機構(gòu)部分。
23.如權(quán)利要求
22所述的系統(tǒng)，其特征在于，該設計模塊設計該鏡頭模塊時，是一并考慮該光學及該機構(gòu)兩部份的設計參數(shù)。
24.如權(quán)利要求
22所述的系統(tǒng)，其特征在于，該設計模塊是采用個別的設計軟件或整合式光學及機構(gòu)的設計軟件設計該鏡頭模塊。
25.如權(quán)利要求
19所述的系統(tǒng)，其特征在于，該系統(tǒng)還包括案例數(shù)據(jù)庫，用來儲存該設計模塊在設計完畢該鏡頭模塊時，該鏡頭模塊及該鏡頭模塊所對應的設計參數(shù)。
26.如權(quán)利要求
19所述的系統(tǒng)，其特征在于，該分析模塊在分析該鏡頭模塊時，另產(chǎn)生對應于該鏡頭模塊的制程參數(shù)。
27.如權(quán)利要求
26所述的系統(tǒng)，其特征在于，該分析模塊包括可制造性單元，用來依據(jù)該預定的分析程序，分析鏡頭模塊，并據(jù)此產(chǎn)生對應于該鏡頭模塊的分析參數(shù)。
28.如權(quán)利要求
27所述的系統(tǒng)，其特征在于，該可制造性單元在分析該鏡頭模塊時，另將該鏡頭模塊的組裝能力參數(shù)予以分級。
29.如權(quán)利要求
27所述的系統(tǒng)，其特征在于，該分析模塊另包括錯誤模式效應分析單元，用來將該鏡頭模塊的組裝能力參數(shù)及該鏡頭模塊的基本光學及機構(gòu)制程能力參數(shù)予以分級。
30.如權(quán)利要求
29所述的系統(tǒng)，其特征在于，該錯誤模式效應分析單元另將該鏡頭模塊的光學誤差分成對稱及非對稱兩類。
31.如權(quán)利要求
30所述的系統(tǒng)，其特征在于，該錯誤模式效應分析單元另可調(diào)整該鏡頭模塊中軸上及橫向補償元件的自由度，以減少該對稱及該非對稱光學誤差，并獲得良率及成本的最佳化。
32.如權(quán)利要求
30所述的系統(tǒng)，其特征在于，該系統(tǒng)還包括制造模塊，用來借由質(zhì)量不良模式分析，對該對稱及非對稱光學誤差作系統(tǒng)性的分類，并據(jù)此將預測出的嚴重及常出現(xiàn)的質(zhì)量不良模式予以分類。
33.如權(quán)利要求
32所述的系統(tǒng)，其特征在于，該系統(tǒng)還包括測試儀器，用來依據(jù)該質(zhì)量不良模式分析的分析結(jié)果，對該鏡頭模塊進行錯誤特征測試，并依據(jù)該鏡頭模塊的瑕疵，使用質(zhì)量工程法評估及推論該瑕疵的發(fā)生原因。
34.如權(quán)利要求
33所述的系統(tǒng)，其特征在于，該質(zhì)量工程法為田口工程法。
35.如權(quán)利要求
33所述的系統(tǒng)，其特征在于，該系統(tǒng)還包括廠區(qū)信息控制系統(tǒng)，用來收集制造及質(zhì)量數(shù)據(jù)。
專利摘要
本發(fā)明公開一種設計及制作鏡頭模塊的方法，該系統(tǒng)包括設計數(shù)據(jù)庫、設計模塊、分析模塊以及分析數(shù)據(jù)庫。本發(fā)明的設計及制作鏡頭模塊的方法及系統(tǒng)可累積光學產(chǎn)品的開發(fā)經(jīng)驗，不再需要依賴技術(shù)人員的經(jīng)驗累積，因此，光學產(chǎn)品的可制造性(manufacturability)可有效地提升，相應地，光學產(chǎn)品的開發(fā)風險也可降低，整體光學產(chǎn)業(yè)的競爭力也更可同時進一步地提升。
文檔編號B24B13/00GK1991643SQ200510097576
公開日2007年7月4日 申請日期2005年12月30日
發(fā)明者張奇?zhèn)? 王淇霖, 趙偉忠 申請人:財團法人工業(yè)技術(shù)研究院導出引文BiBTeX, EndNote, RefMan