一種工藝腔室的壓力控制方法和裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本申請涉及計(jì)量測試技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種工藝腔室的壓力控制方法和一種工藝腔室的壓力控制裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]壓力在自動(dòng)化的工藝過程中是一個(gè)很關(guān)鍵的指標(biāo)，它直接影響工藝的結(jié)果和產(chǎn)品的品質(zhì)。無論是在IC刻蝕、SI刻蝕還是LED刻蝕，都對壓力的精度和穩(wěn)定性有著非常高的要求，對壓力的高精度和高穩(wěn)定性的控制，是刻蝕出合格的工藝產(chǎn)品的必須具備的條件。
[0003]在工藝腔室中都安裝著高精度的規(guī)，簡稱為工藝規(guī)。工藝規(guī)的量程一般是從O毫托到幾百毫托。工藝規(guī)在初次安裝使用的過程中要先進(jìn)行調(diào)零處理。隨著工藝規(guī)使用時(shí)間的增長，工藝規(guī)會發(fā)生漂移，反饋的結(jié)果會產(chǎn)生偏差。比如工藝規(guī)在使用一段時(shí)間以后，實(shí)際的壓力是O毫托，但是工藝規(guī)反饋的讀數(shù)是0.5毫托，就產(chǎn)生了 0.5毫托的偏差。
[0004]對工藝腔室的壓力控制，是靠擺閥設(shè)備進(jìn)行的，工藝規(guī)的讀數(shù)作為擺閥控制壓力的輸入。如果工藝規(guī)產(chǎn)生了偏差，也就影響到了擺閥對壓力的控制，也會產(chǎn)生對應(yīng)的偏差。比如，實(shí)際壓力是O毫托，規(guī)的讀數(shù)是0.5毫托，有0.5毫托的偏差，擺閥通過規(guī)需要控制腔室的壓力為3毫托，實(shí)際上規(guī)的讀數(shù)是3毫托的時(shí)，腔室的實(shí)際壓力是2.5毫托，也就產(chǎn)生了 0.5暈托的偏差。
[0005]目前，由于將工藝規(guī)的讀數(shù)作為擺閥控制壓力的輸入，因此，會每隔一定的時(shí)間對工藝規(guī)是否存在偏差進(jìn)行檢查。當(dāng)工藝規(guī)存在偏差時(shí)，對工藝規(guī)進(jìn)行硬件調(diào)零，從而使工藝規(guī)的讀數(shù)可以準(zhǔn)確反映工藝腔室的壓力。然而，對工藝規(guī)進(jìn)行硬件調(diào)零，會對工藝規(guī)造成損耗，既會降低工藝規(guī)的準(zhǔn)確度，也會降低工藝規(guī)的使用壽命。
[0006]因此，目前需要本領(lǐng)域技術(shù)人員迫切解決的一個(gè)技術(shù)問題就是:如何提供一種工藝腔室的壓力控制方法和裝置，在避免造成工藝規(guī)的損耗的同時(shí)，準(zhǔn)確地控制工藝腔室內(nèi)的壓力。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本申請所要解決的技術(shù)問題是提供一種工藝腔室的壓力控制方法，通過軟件方式對工藝規(guī)進(jìn)行自動(dòng)校正，在避免造成工藝規(guī)的損耗的同時(shí)，準(zhǔn)確地控制工藝腔室內(nèi)的壓力。
[0008]相應(yīng)的，本申請還提供了一種工藝腔室的壓力控制裝置，用以保證上述方法的實(shí)現(xiàn)及應(yīng)用。
[0009]為了解決上述問題，本申請公開了一種工藝腔室的壓力控制方法，包括:
[0010]獲取所述工藝腔室的壓力偏差值；
[0011]若所述壓力偏差值小于預(yù)設(shè)閾值，則讀取所述工藝腔室的當(dāng)前壓力值；
[0012]當(dāng)所述工藝腔室的當(dāng)前壓力值不等于預(yù)設(shè)的目標(biāo)壓力值與所述壓力偏差值之和時(shí)，調(diào)整所述工藝腔室的壓力。
[0013]優(yōu)選的，所述工藝腔室與工藝規(guī)相連，所述獲取所述工藝腔室的壓力偏差值的步驟包括:
[0014]從所述工藝規(guī)讀取所述工藝腔室的測試壓力值；
[0015]依據(jù)所述測試壓力值與預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)壓力值，計(jì)算所述工藝腔室的壓力偏差值。
[0016]優(yōu)選的，所述依據(jù)所述測試壓力值與預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)壓力值，計(jì)算所述工藝腔室的壓力偏差值的子步驟進(jìn)一步包括:
[0017]計(jì)算所述測試壓力值與預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)壓力值的差值；
[0018]將所述差值設(shè)置為所述工藝腔室的壓力偏差值。
[0019]優(yōu)選的，所述依據(jù)所述測試壓力值與預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)壓力值，計(jì)算所述工藝腔室的壓力偏差值的子步驟進(jìn)一步包括:
[0020]構(gòu)建所述測試壓力值與預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)壓力值之間的擬合關(guān)系函數(shù)；
[0021]根據(jù)所述擬合關(guān)系函數(shù)，計(jì)算在所述預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)壓力值為特征值時(shí)得到的預(yù)測壓力值；
[0022]計(jì)算所述預(yù)測壓力值與所述標(biāo)準(zhǔn)壓力值的差值；
[0023]將所述差值設(shè)置為所述工藝腔室的壓力偏差值。
[0024]優(yōu)選的，所述工藝腔室與工藝規(guī)相連，所述若所述壓力偏差值小于預(yù)設(shè)閾值，則獲取所述工藝腔室的當(dāng)前壓力值的步驟包括:
[0025]若所述壓力偏差值小于預(yù)設(shè)閾值，則從所述工藝規(guī)讀取所述工藝腔室的當(dāng)前壓力值。
[0026]優(yōu)選的，所述的工藝腔室的壓力控制方法還包括:
[0027]若所述壓力偏差值大于或者等于預(yù)設(shè)閾值時(shí)，則觸發(fā)報(bào)警。
[0028]優(yōu)選的，所述當(dāng)所述工藝腔室的當(dāng)前壓力值不等于預(yù)設(shè)的目標(biāo)壓力值與所述壓力偏差值之和時(shí)，則調(diào)整所述工藝腔室的壓力的步驟包括:
[0029]當(dāng)所述工藝腔室的壓力值小于預(yù)設(shè)的目標(biāo)壓力值與所述偏差值之和時(shí)，增加所述工藝腔室的壓力；
[0030]當(dāng)所述工藝腔室的壓力值大于預(yù)設(shè)的目標(biāo)壓力值與所述偏差值之和時(shí)，減少所述工藝腔室的壓力。
[0031]為了解決上述問題，本發(fā)明實(shí)施例還公開了一種工藝腔室的壓力控制裝置，包括:
[0032]壓力偏差值獲取模塊，用于獲取所述工藝腔室的壓力偏差值；
[0033]當(dāng)前壓力值讀取模塊，用于若所述壓力偏差值小于預(yù)設(shè)閾值，則讀取所述工藝腔室的當(dāng)前壓力值；
[0034]壓力調(diào)整模塊，用于當(dāng)所述工藝腔室的當(dāng)前壓力值不等于預(yù)設(shè)的目標(biāo)壓力值與所述壓力偏差值之和時(shí)，調(diào)整所述工藝腔室的壓力。
[0035]優(yōu)選的，所述工藝腔室與工藝規(guī)相連，所述壓力偏差值獲取模塊包括:
[0036]測試壓力值讀取子模塊，用于從所述工藝規(guī)讀取所述工藝腔室的測試壓力值；
[0037]壓力偏差值計(jì)算子模塊，用于依據(jù)所述測試壓力值與預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)壓力值，計(jì)算所述工藝腔室的壓力偏差值。
[0038]優(yōu)選的，所述壓力偏差值計(jì)算子模塊進(jìn)一步包括:
[0039]第一差值計(jì)算單元，用于計(jì)算所述測試壓力值與預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)壓力值的差值；
[0040]第一設(shè)置單元，用于將所述差值設(shè)置為所述工藝腔室的壓力偏差值。
[0041]優(yōu)選的，所述壓力偏差值計(jì)算子模塊進(jìn)一步包括:
[0042]函數(shù)構(gòu)建單元，用于構(gòu)建所述測試壓力值與預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)壓力值之間的擬合關(guān)系函數(shù)；
[0043]預(yù)測壓力值計(jì)算單元，用于根據(jù)所述擬合關(guān)系函數(shù)，計(jì)算在所述預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)壓力值為特征值時(shí)得到的預(yù)測壓力值；
[0044]第二差值計(jì)算單元，用于計(jì)算所述預(yù)測壓力值與所述標(biāo)準(zhǔn)壓力值的差值；
[0045]第二設(shè)置單元，用于將所述差值設(shè)置為所述工藝腔室的壓力偏差值。
[0046]優(yōu)選的，所述工藝腔室與工藝規(guī)相連，所述當(dāng)前壓力值讀取模塊包括:
[0047]工藝規(guī)讀取子模塊，用于若所述壓力偏差值小于預(yù)設(shè)閾值，則從所述工藝規(guī)讀取所述工藝腔室的當(dāng)前壓力值。
[0048]優(yōu)選的，所述的工藝腔室的壓力控制裝置還包括:
[0049]報(bào)警模塊，用于若所述壓力偏差值大于或者等于預(yù)設(shè)閾值時(shí)，則觸發(fā)報(bào)警。
[0050]優(yōu)選的，所述壓力調(diào)整模塊包括:
[0051]加壓子模塊，用于當(dāng)所述工藝腔室的壓力值小于預(yù)設(shè)的目標(biāo)壓力值與所述偏差值之和時(shí)，增加所述工藝腔室的壓力；
[0052]減壓子模塊，用于當(dāng)所述工藝腔室的壓力值大于預(yù)設(shè)的目標(biāo)壓力值與所述偏差值之和時(shí)，減少所述工藝腔室的壓力。
[0053]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本申請實(shí)施例包括以下優(yōu)點(diǎn):
[0054]首先，本申請實(shí)施例通過獲取所述工藝腔室的壓力偏差值，若所述壓力偏差值小于預(yù)設(shè)閾值，則讀取所述工藝腔室的當(dāng)前壓力值。在壓力偏差值處于可接受的范圍時(shí)，根據(jù)所述工藝腔室的當(dāng)前壓力值、預(yù)設(shè)的目標(biāo)壓力值以及壓力偏差值三者之間的關(guān)系，調(diào)整所述工藝腔室的壓力，從而實(shí)現(xiàn)了在工藝規(guī)可能存在偏差的情況下，準(zhǔn)確地控制了工藝腔室的壓力，使工藝腔室的壓力達(dá)到目標(biāo)壓力，而且，無需對工藝規(guī)進(jìn)行硬件調(diào)零，避免了造成工藝規(guī)的損耗。
[0055]其次，本申請實(shí)施例通過構(gòu)建所述測試壓力值與預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)壓力值之間的擬合關(guān)系函數(shù)，計(jì)算所述預(yù)測壓力值與所述標(biāo)準(zhǔn)壓力值的差值，獲取所述工藝腔室的壓力偏差值，可以根據(jù)不同時(shí)間不同壓力下獲得的所述測試壓力值與預(yù)設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)壓力值，對擬合關(guān)系函數(shù)的參數(shù)進(jìn)行修正，使通過擬合關(guān)系函數(shù)計(jì)算獲得的壓力偏