專(zhuān)利名稱(chēng)：觸控裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種觸控裝置，特別是涉及一種避免在組裝過(guò)程中造成瑕 疵與影響透明度，提高生產(chǎn)優(yōu)良率，提升整體觸控裝置透明度，安裝于電 子設(shè)備上以供使用者觸碰控制電子設(shè)備的觸控裝置。
背景技術(shù)：
請(qǐng)參閱圖1所示，是一般現(xiàn)有的電子設(shè)備的側(cè)面剖視圖，為一般觸控
裝置11安裝于一電子設(shè)備12中的剖視圖，以說(shuō)明一觸控裝置粘貼于一蓋 板底面的情形。該電子設(shè)備12,具有一殼體121、 一蓋設(shè)于殼體121上的 透明蓋板122,及一安裝于殼體121中一焚幕123。該觸控裝置ll，具有一基 板lll、 一位于基板111頂面上的觸控單元112，及一披覆于基板lll底面 的接地層113。
該觸控裝置ll成形后，是安裝于該電子設(shè)備12的殼體121內(nèi)，并以該 蓋板122蓋合于觸控裝置11頂面，且為了固定該觸控裝置11，該蓋板122 底面上通常披覆上一層粘膠層13(或可雙面粘貼的膠膜)，以粘貼固定該觸 控裝置11,但是在粘固的過(guò)程中不只容易夾雜氣泡，產(chǎn)生瑕疵品，也容易 因粘膠厚度不均勻等因素，影響觸控裝置11整體的透明度。
由此可見(jiàn)，上述現(xiàn)有的觸控裝置在結(jié)構(gòu)與使用上，顯然仍存在有不便 與缺陷，而亟待加以進(jìn)一步改進(jìn)。為了解決上述存在的問(wèn)題，相關(guān)廠商莫 不費(fèi)盡心思來(lái)謀求解決之道，但是長(zhǎng)久以來(lái)一直未見(jiàn)適用的設(shè)計(jì)被發(fā)展完 成，而一般產(chǎn)品又沒(méi)有適切結(jié)構(gòu)能夠解決上述問(wèn)題，此顯然是相關(guān)業(yè)者急欲 解決的問(wèn)題。因此如何能創(chuàng)設(shè)一種新型結(jié)構(gòu)的觸控裝置，實(shí)屬當(dāng)前重要研 發(fā)課題之一，亦成為當(dāng)前業(yè)界極需改進(jìn)的目標(biāo)。
有鑒于上述現(xiàn)有的觸控裝置存在的缺陷，本發(fā)明人基于從事此類(lèi)產(chǎn)品 設(shè)計(jì)制造多年豐富的實(shí)務(wù)經(jīng)驗(yàn)及專(zhuān)業(yè)知識(shí)，并配合學(xué)理的運(yùn)用，積極加以 研究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設(shè)一種新型結(jié)構(gòu)的觸控裝置，能夠改進(jìn)一般現(xiàn)有的觸控 裝置，使其更具有實(shí)用性。經(jīng)過(guò)不斷的研究、設(shè)計(jì)，并經(jīng)過(guò)反復(fù)試作樣品及 改進(jìn)后，終于創(chuàng)設(shè)出確具實(shí)用價(jià)值的本發(fā)明。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，克服現(xiàn)有的觸控裝置存在的缺陷，而提供一種新 型結(jié)構(gòu)的觸控裝置，所要解決的技術(shù)問(wèn)題是使其可以避免在組裝過(guò)程中造成瑕瘋與影響透明度，非常適于實(shí)用。
本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題是釆用以下的技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)的。依 據(jù)本發(fā)明提出的一種觸控裝置，是安裝于一個(gè)電子設(shè)備上，該觸控裝置包
含 一塊呈水平透明狀并蓋合于該電子設(shè)備上的蓋板、 一層疊接于蓋板底面 的上抗反射層、 一個(gè)以透明導(dǎo)電材質(zhì)制成并疊設(shè)于該上抗反射層的底面且 感應(yīng)使用者觸碰蓋板而產(chǎn)生電場(chǎng)變化的觸控單元，以及一層披覆于該上抗 反射層與觸控單元底面的下抗反射層。
本發(fā)明的目的及解決其技術(shù)問(wèn)題還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。
前述的觸控裝置，其還包含一層疊設(shè)于該下抗反射層底面且為透明導(dǎo) 電材質(zhì)制成的接地層。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點(diǎn)和有益效果。借由上述技術(shù)方 案，本發(fā)明觸控裝置至少具有下列優(yōu)點(diǎn)及有益效果本發(fā)明利用直接成形于 該蓋板底面的上抗反射層、觸控單元及下抗反射層，可以避免以往現(xiàn)有技 術(shù)中的膠粘制造程序所造成的瑕瘋品，而能夠提高生產(chǎn)優(yōu)良率，也可以提 升整體觸控裝置的透明度，所以確實(shí)可達(dá)到本發(fā)明的目的。
綜上所述，本發(fā)明是有關(guān)于一種觸控裝置，適用于安裝在一電子設(shè)備 上，該觸控裝置包含 一水平透明的蓋板、 一疊接于蓋板底面的上抗反射 層、 一以透明導(dǎo)電材質(zhì)制成并疊設(shè)于該上抗反射層底面的觸控單元，以及 一披覆于該觸控單元底面的下抗反射層。使用者觸碰該蓋板頂面，擾動(dòng)觸 控單元的微量電場(chǎng)變化，并產(chǎn)生控制電子設(shè)備的指令。借由直接成形于該 蓋板底面的上抗反射層、觸控單元及下抗反射層，可以避免以往現(xiàn)有技術(shù) 中的膠粘制造程序所造成的瑕瘋品，有效避免在組裝過(guò)程中造成瑕疵與影 響透明度，提高生產(chǎn)優(yōu)良率，也可以提升整體觸控裝置的透明度。本發(fā)明 具有上述諸多優(yōu)點(diǎn)及實(shí)用價(jià)值，其不論在產(chǎn)品結(jié)構(gòu)或功能上皆有較大的改 進(jìn)，在技術(shù)上有顯著的進(jìn)步，并產(chǎn)生了好用及實(shí)用的效果，且較現(xiàn)有的觸控 裝置具有增進(jìn)的突出功效，從而更加適于實(shí)用，誠(chéng)為一新穎、進(jìn)步、實(shí)用的 新設(shè)計(jì)。
上述說(shuō)明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的 技術(shù)手段，而可依照說(shuō)明書(shū)的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本發(fā)明的上述和 其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施例，并配合附 圖，詳細(xì)i兌明如下。


圖1是一般現(xiàn)有的電子設(shè)備的側(cè)面剖視圖，以說(shuō)明一觸控裝置粘貼于-蓋板底面的情形。
圖2是本發(fā)明觸控裝置的較佳實(shí)施例與一電子設(shè)備的分解立體圖。圖3是本發(fā)明觸控裝置較佳實(shí)施例蓋合于該電子設(shè)備上的側(cè)面剖視圖。 圖4是本發(fā)明觸控裝置較佳實(shí)施例的 一觸控單元的部分俯面視圖，其中 一蓋板及一上抗反射層已移除。
具體實(shí)施例方式
為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功 效，以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對(duì)依據(jù)本發(fā)明提出的觸控裝置其具體實(shí)施 方式、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細(xì)說(shuō)明如后。
有關(guān)本發(fā)明的前述及其他技術(shù)內(nèi)容、特點(diǎn)及功效，在以下配合參考圖 式的較佳實(shí)施例的詳細(xì)說(shuō)明中將可清楚呈現(xiàn)。通過(guò)具體實(shí)施方式
的說(shuō)明，當(dāng)
"了解，'然而所附圖式僅是提二參考與說(shuō)明之用，并:用來(lái)對(duì)本發(fā)明;以限制。
請(qǐng)參閱圖2、圖3與圖4所示，圖2是本發(fā)明觸控裝置的較佳實(shí)施例與 一電子設(shè)備的分解立體圖，圖3是本發(fā)明觸控裝置較佳實(shí)施例蓋合于該電 子設(shè)備上的側(cè)面剖視圖，圖4是本發(fā)明觸控裝置較佳實(shí)施例的一觸控單元 的部分俯面視圖，其中一蓋板及一上抗反射層已移除。本發(fā)明觸控裝置的 較佳實(shí)施例適用于安裝在一電子設(shè)備2上，所述的電子設(shè)備2具有一殼體 21，及一熒幕22，該殼體21及熒幕22共同界定出一視窗槽23,該觸控裝置 就是安裝于該視窗槽23中，并包含 一水平透明的蓋板3,及依序由上往下 疊接于蓋板3底面的一上抗反射層4、 一觸控單元5、 一下抗反射層6，以及 一接地層7。
該蓋板3，是蓋合所述電子設(shè)備2的視窗槽23，并以透明材質(zhì)制成，本 實(shí)施例中該蓋板3的材質(zhì)是選自于玻璃、聚曱基丙烯酸樹(shù)脂(俗稱(chēng)壓克 力，poly methyl methacry late, PMMA)、聚氯乙烯、聚丙烯、聚對(duì)苯二曱 酸乙二醇酯、聚萘二曱酸乙二醇酯或聚碳酸酉旨，但是實(shí)施范圍不以蓋板3材 質(zhì)為此限為限。
該上抗反射層4，是以鍍膜方式直接成形于該蓋板3的底面上，并以透明 且折射率較低的材質(zhì)制成。
該觸控單元5，具有直接疊設(shè)成形于該上抗反射層4底面并相互間隔的 一橫向電才及組51與一縱向電極組52。
該橫向電極組51與縱向電極組52，是以透明導(dǎo)電材質(zhì)制成，如氧化銦 錫、氧化銦鋅或氧化鋅鋁，該橫、縱向電極組51、 52是呈矩陣分布地分布 于上抗反射層4底面，以借由使用者碰觸時(shí)蓋板3頂面時(shí)，改變橫、縱向電 極組51、 52間的電荷容量變化，以達(dá)到觸控的功能。
本實(shí)施例中是以電容感應(yīng)方式的觸控單元5為例作說(shuō)明，但是實(shí)際實(shí)施范圍不以感應(yīng)方式為限，且觸控單元5的構(gòu)造非本發(fā)明的特征，因此實(shí)施范 圍也不以上述的觸控單元5構(gòu)造為限。
該下抗反射層6,披覆于該觸控單元5的底面，并與該上抗反射層4配 合以降低入射光線的反射率，避免反光影響使用者視覺(jué)。
該接地層7,疊設(shè)于該下抗反射層6底面且為透明導(dǎo)電材質(zhì)制成，如氧 化銦錫、氧化銦鋅或氧化鋅鋁等材質(zhì)，借由該接地層7保持接地電位以防 止電子設(shè)備2產(chǎn)生的電磁波由底面干擾該觸控單元5運(yùn)作。
借此，在制造的過(guò)程中，該上抗反射層4、觸控單元5、下抗反射層6 及接地層7依序直接成形于該蓋板3底面，再將蓋板3直接蓋覆固定于所 述電子設(shè)備2的視窗槽23中，避免組裝過(guò)程中的膠粘程序，可以確保本發(fā) 明觸控裝置組裝于電子設(shè)備2上時(shí)的透明度，也可以避免粘貼過(guò)程造成的 瑕瘋品。
此外值得一提的是，當(dāng)該上、下抗反射層4、 6的光學(xué)厚度都分別設(shè)計(jì) 約為四分之一可見(jiàn)光的波長(zhǎng)時(shí)，可讓上抗反射層4頂面反射的光波與下抗 反射層6底面反射的光波產(chǎn)生破壞性干涉，降低反射率，而可提升抗反射 的效果，增加透光率。
在組裝完成后，使用者觸碰該蓋板3頂面，就可擾動(dòng)該觸控單元5某 一特定區(qū)域的微量電場(chǎng)變化，改變?cè)摍M、縱向電極組51、 52之間的電荷容 量變化，以產(chǎn)生控制電子設(shè)備2的指令。
綜觀上述，本發(fā)明利用直接成形于該蓋板3底面的上抗反射層4、觸控 單元5、下抗反射層6及接地層7，可以避免以往現(xiàn)有技術(shù)中的膠粘制造程 序所造成的瑕瘋品，提高生產(chǎn)優(yōu)良率，同時(shí)也可以提升整體觸控裝置的透 明度，所以確實(shí)可達(dá)到本發(fā)明的目的及功效。
以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本發(fā)明作任何形式 上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā) 明，任何熟悉本專(zhuān)業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利 用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動(dòng)或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但 凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例 所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍 內(nèi)。
權(quán)利要求
1、一種觸控裝置，安裝于一個(gè)電子設(shè)備上，其特征在于該觸控裝置包含一塊呈水平透明狀并蓋合于該電子設(shè)備上的蓋板、一層疊接于蓋板底面的上抗反射層、一個(gè)以透明導(dǎo)電材質(zhì)制成并疊設(shè)于該上抗反射層的底面且感應(yīng)使用者觸碰蓋板而產(chǎn)生電場(chǎng)變化的觸控單元，以及一層披覆于該上抗反射層與觸控單元底面的下抗反射層。
2、 如權(quán)利要求1所述的觸控裝置，其特征在于其還包含一層疊設(shè)于該 下抗反射層底面且為透明導(dǎo)電材質(zhì)制成的接地層。
全文摘要
本發(fā)明是有關(guān)于一種觸控裝置，適用于安裝在一電子設(shè)備上，觸控裝置包含一水平透明的蓋板、一疊接于蓋板底面的上抗反射層、一以透明導(dǎo)電材質(zhì)制成并疊設(shè)于該上抗反射層底面的觸控單元，以及一披覆于該觸控單元底面的下抗反射層。使用者觸碰該蓋板頂面，擾動(dòng)觸控單元的微量電場(chǎng)變化，并產(chǎn)生控制電子設(shè)備的指令。借由直接成形于該蓋板底面的上抗反射層、觸控單元及下抗反射層，可避免以往現(xiàn)有技術(shù)中的膠粘制造程序所造成的瑕疵品，提高生產(chǎn)優(yōu)良率，也可提升整體觸控裝置的透明度。
文檔編號(hào)G06F3/041GK101452352SQ20071018759
公開(kāi)日2009年6月10日 申請(qǐng)日期2007年12月3日 優(yōu)先權(quán)日2007年12月3日
發(fā)明者孫正宏 申請(qǐng)人:義強(qiáng)科技股份有限公司