專利名稱：一種建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及集成電路設(shè)計(jì)自動(dòng)化技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法。
背景技術(shù)：
器件物理版圖單元設(shè)計(jì)是模擬集成電路設(shè)計(jì)的重要環(huán)節(jié)。為了加快器件物理版圖單元的設(shè)計(jì)，一般采用參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序。對(duì)于物理結(jié)構(gòu)一致的同一類型器件，借助于參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序，輸入具體的器件參數(shù)值即可以自動(dòng)生成對(duì)應(yīng)器件的物理版圖單元，這樣可以避免重復(fù)性的手工設(shè)計(jì)器件的物理版圖，從而提高設(shè)計(jì)效率，為此需要建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序。目前，建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序主要有兩種方法一是軟件人員根據(jù)對(duì)手工設(shè)計(jì)的器件物理版圖進(jìn)行分析手工寫出程序，其缺點(diǎn)是效率低下，且代碼維護(hù)困難；另一種方法是利用程序?qū)M成器件物理版圖的基本圖形進(jìn)行掃描分析，根據(jù)分析結(jié)果， 交互式地加入?yún)?shù)，其缺點(diǎn)是不能有效地支持器件的伸縮性，基本圖形生成算法簡(jiǎn)單地基于坐標(biāo)，不能很好地支持參數(shù)化，產(chǎn)生的代碼難以維護(hù)和使用。因此需要對(duì)此已有的方法進(jìn)行改進(jìn)以克服這些缺點(diǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
為了解決現(xiàn)有建立器件物理版圖單元生成程序的方法效率低、代碼維護(hù)困難及不能很好地支持參數(shù)化等問題，本發(fā)明提供了一種建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，所述方法包括利用圖形編輯器輸入器件的物理圖形，在所述物理圖形上標(biāo)出圖形及圖形之間的設(shè)計(jì)規(guī)則參數(shù)、器件參數(shù)與圖形的對(duì)應(yīng)關(guān)系和選項(xiàng)區(qū)域；掃描所述物理圖形，確定基本物理圖形之間的位置關(guān)系和位置依賴關(guān)系；根據(jù)所述基本物理圖形之間的位置關(guān)系和位置依賴關(guān)系，建立各基本物理圖形的生成順序和程序流程，生成程序。所述方法還包括添加圖形坐標(biāo)重定位程序，具體包括遍歷器件物理版圖的所有基本物理圖形，計(jì)算得到橫、縱坐標(biāo)最小的坐標(biāo)點(diǎn)；將所述器件物理版圖的參考原點(diǎn)平移到所述橫、縱坐標(biāo)最小的坐標(biāo)點(diǎn)。所述確定基本物理圖形之間的位置關(guān)系的步驟具體包括根據(jù)各個(gè)基本物理圖形的面積大小關(guān)系，確定各個(gè)基本物理圖形之間的包圍關(guān)系；對(duì)所述基本物理圖形進(jìn)行無障礙圖形和有障礙圖形陣列分析；對(duì)所述基本物理圖形進(jìn)行左右順序關(guān)系和上下順序關(guān)系分析。所述對(duì)所述基本物理圖形進(jìn)行無障礙圖形陣列分析的步驟具體包括根據(jù)基本物理圖形之間的上下和/或左右間距一致性，將基本物理圖形聚合為一個(gè)或若干個(gè)一維或二維陣列圖形；根據(jù)所述一維或二維陣列圖形的延展方向，確定無障礙圖形陣列的圖形數(shù)；建立所述一維或二維陣列圖形的間距與設(shè)計(jì)規(guī)則參數(shù)和器件參數(shù)之間的關(guān)系。所述根據(jù)一維陣列圖形的延展方向，確定無障礙圖形陣列的圖形數(shù)的步驟具體為一維陣列圖形延展方向的圖形數(shù)=(對(duì)應(yīng)延展方向的器件參數(shù)-2X陣列圖形和外包圖形之間的間距)/(陣列圖形在延展方向的幾何尺寸+設(shè)計(jì)規(guī)則允許的陣列圖形最小間距)。所述建立所述一維陣列圖形的間距與設(shè)計(jì)規(guī)則參數(shù)和器件參數(shù)之間的關(guān)系的步驟具體為所述一維陣列圖形之間的間距值=(對(duì)應(yīng)延展方向的器件參數(shù)-2X陣列圖形和外包圖形之間的間距-陣列圖形在該方向的幾何尺寸X對(duì)應(yīng)方向的圖形數(shù))/(對(duì)應(yīng)方向的圖形數(shù)-1)。所述根據(jù)所述二維陣列圖形的延展方向，確定無障礙圖形陣列的圖形數(shù)的步驟具體為所述二維陣列圖形在X方向的圖形數(shù)=(對(duì)應(yīng)X方向的器件參數(shù)-2X陣列圖形和外包圖形之間的間距)/(陣列圖形在X方向的幾何尺寸+設(shè)計(jì)規(guī)則允許的陣列圖形最小間距)，所述二維陣列圖形在Y方向的圖形數(shù)=(對(duì)應(yīng)Y方向的器件參數(shù)-2X陣列圖形和外包圖形之間的間距)/(陣列圖形在Y方向的幾何尺寸+設(shè)計(jì)規(guī)則允許的陣列圖形最小間距)。所述建立二維陣列圖形的間距與設(shè)計(jì)規(guī)則參數(shù)和器件參數(shù)之間的關(guān)系的步驟具體為所述二維陣列圖形之間X方向的間距值=(對(duì)應(yīng)X方向的器件參數(shù)-2X陣列圖形和外包圖形之間的間距-陣列圖形在X方向的幾何尺寸XX方向的圖形數(shù))/ (X方向的圖形數(shù)-1)，所述二維陣列圖形之間Y方向的間距=(對(duì)應(yīng)Y方向的器件參數(shù)-2X陣列圖形和外包圖形之間的間距-陣列圖形在Y方向的幾何尺寸XY方向的圖形數(shù))/(Y方向的圖形數(shù)-1)。所述對(duì)所述基本物理圖形進(jìn)行左右順序關(guān)系分析的步驟具體包括確定所述基本物理圖形的對(duì)齊方式，所述對(duì)齊方式包括上邊界垂線對(duì)齊、中心水平線對(duì)齊、下邊界垂線對(duì)齊和上下無對(duì)齊；以陣列點(diǎn)圖形的最小外接矩形其左下角的點(diǎn)坐標(biāo)值作為該陣列點(diǎn)的左邊界坐標(biāo)值，根據(jù)左邊界坐標(biāo)值中X坐標(biāo)值的大小關(guān)系確定陣列圖形之間的左右順序關(guān)系，X坐標(biāo)值小的陣列點(diǎn)在左，X坐標(biāo)值大的陣列點(diǎn)在右。所述對(duì)所述基本物理圖形進(jìn)行上下順序關(guān)系分析的步驟具體包括確定所述基本物理圖形的對(duì)齊方式，所述對(duì)齊方式包括左邊界垂線對(duì)齊、中心垂線對(duì)齊、右邊界垂線對(duì)齊和左右無對(duì)齊；以陣列點(diǎn)圖形的最小外接矩形其左下角的點(diǎn)坐標(biāo)值作為該陣列點(diǎn)的下邊界坐標(biāo)值，根據(jù)下邊界坐標(biāo)值中Y坐標(biāo)值的大小關(guān)系確定陣列圖形之間的上下順序關(guān)系，Y坐標(biāo)值小的陣列點(diǎn)在下，Y坐標(biāo)值大的陣列點(diǎn)在上。所述確定基本物理圖形之間的位置依賴關(guān)系的步驟具體包括根據(jù)各個(gè)基本物理圖形的包圍關(guān)系建立層次化的父子樹形關(guān)系；根據(jù)基本物理圖形的左右順序關(guān)系和上下順序關(guān)系建立同層兄弟樹形關(guān)系；從樹形圖的底層建立根和葉子之間的位置依賴關(guān)系；從樹形圖的同根的圖形建立同層葉子圖形之間的位置依賴關(guān)系。
所述建立程序流程的步驟具體包括根據(jù)所述圖形陣列分析，將圖形陣列和陣列點(diǎn)的圖形生成作為一個(gè)子流程；在父流程中根據(jù)圖形陣列的維數(shù)和大小建立循環(huán)體，在循環(huán)體中計(jì)算各生成各陣列點(diǎn)所需的參考位置和輸入?yún)?shù)；對(duì)生成的陣列圖形依據(jù)參考點(diǎn)進(jìn)行移位；根據(jù)所述基本物理圖形包圍關(guān)系，構(gòu)建子流程生成被包圍的圖形。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn)本發(fā)明可以根據(jù)器件物理版圖數(shù)據(jù)自動(dòng)尋找圖形之間的鄰近關(guān)系、覆蓋關(guān)系、圖形位置之間的依賴關(guān)系、圖形生成的順序關(guān)系、圖形尺寸之間的依賴關(guān)系等，進(jìn)而自動(dòng)生成參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序，無需用戶手工確定上述關(guān)系數(shù)據(jù)，加快了參數(shù)化器件物理版圖單元的開發(fā)。


圖1是本發(fā)明實(shí)施例提供的建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法流程圖。
具體實(shí)施例方式為了深入了解本發(fā)明，下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明。參見圖1，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，包括如下步驟步驟101 利用圖形編輯器輸入器件的物理圖形；器件的物理版圖是由與器件結(jié)構(gòu)緊密相關(guān)的若干基本物理圖形組成的，每個(gè)基本物理圖形包括類型、坐標(biāo)點(diǎn)和工藝層等信息，利用圖形編輯器輸入基本物理圖形的類型、坐標(biāo)點(diǎn)和基本物理圖形所在的工藝層等信息；步驟102 在物理圖形上標(biāo)出圖形的設(shè)計(jì)規(guī)則參數(shù)、圖形之間的設(shè)計(jì)規(guī)則參數(shù)、器件參數(shù)與圖形的對(duì)應(yīng)關(guān)系和選項(xiàng)區(qū)域等；步驟103 掃描基本物理圖形，確定基本物理圖形之間的位置關(guān)系；基本物理圖形之間的位置關(guān)系包括1、圖形包圍關(guān)系分析圖形A在幾何上被另一個(gè)圖形B完全包圍，即A在B內(nèi)，我們稱之為圖形A從屬于圖形B，圖形包圍關(guān)系的判定可依據(jù)簡(jiǎn)單的平面幾何計(jì)算來確定；2、陣列圖形關(guān)系分析陣列關(guān)系包括陣列點(diǎn)之間無其他圖形的無障礙陣列圖形和陣列點(diǎn)之間有其他圖形的有障礙陣列圖形； 2. 1無障礙陣列圖形分析 2. 1. 1無障礙陣列圖形的確定對(duì)于具有同一直接父包圍的屬于同一工藝層的形狀和尺寸參數(shù)相同的基本物理圖形，依據(jù)基本物理圖形之間的上下和/或左右間距一致性，將這些基本物理圖形聚合為一個(gè)或若干個(gè)一維或二維陣列圖形；需要注意的是，陣列圖形之間沒有同級(jí)圖形或高級(jí)圖形所隔離；
2. 1. 2包圍關(guān)系得重構(gòu)以虛擬的宏圖形外切覆蓋這些陣列圖形中的圖形，以此虛擬的宏圖形替換該直接父包圍中的陣列圖形，也就是，在同一直接父包圍圖形和原陣列圖形之間增加一層虛擬的宏圖形；2. 1. 3確定無障礙陣列圖形的圖形數(shù)2. 1. 3. 1對(duì)于一維陣列圖形，陣列延展方向的圖形數(shù)=(對(duì)應(yīng)延展方向的器件參數(shù)-2X陣列圖形和外包圖形之間的間距)/(陣列圖形在延展方向的幾何尺寸+設(shè)計(jì)規(guī)則允許的陣列圖形最小間距)；2. 1. 3. 2對(duì)于二維陣列圖形，在X方向的圖形數(shù)=(對(duì)應(yīng)X方向的器件參數(shù)-2X 陣列圖形和外包圖形之間的間距)/ (陣列圖形在X方向的幾何尺寸+設(shè)計(jì)規(guī)則允許的陣列圖形最小間距)，在Y方向的圖形數(shù)=(對(duì)應(yīng)Y方向的器件參數(shù)-2X陣列圖形和外包圖形之間的間距)/(陣列圖形在Y方向的幾何尺寸+設(shè)計(jì)規(guī)則允許的陣列圖形最小間距)；2. 1. 4建立無障礙陣列圖形內(nèi)陣列圖形的間距與設(shè)計(jì)規(guī)則參數(shù)和器件參數(shù)之間的關(guān)系無障礙陣列圖形之間的間距應(yīng)該滿足設(shè)計(jì)規(guī)則參數(shù)的最大、最小或固定原則，這取決于具體工藝對(duì)應(yīng)的設(shè)計(jì)規(guī)則文件；在間距固定原則下，無障礙陣列圖形之間的間距值就是設(shè)計(jì)規(guī)則文件給定的數(shù)值；在最大、最小原則而非固定原則下，無障礙陣列圖形之間的間距值除與設(shè)計(jì)規(guī)則參數(shù)有關(guān)之外，還與器件的參數(shù)值有關(guān)，該參數(shù)與限制陣列延伸的外側(cè)圖形有關(guān)，沿陣列延伸方向?qū)ふ易罱咏膱D形，從而尋找出控制該圖形的器件參數(shù)，該器件參數(shù)就是間接控制陣列大小的器件參數(shù)；對(duì)于一維陣列圖形，無障礙陣列圖形之間的間距值為無障礙陣列圖形之間的間距值=(對(duì)應(yīng)延展方向的器件參數(shù)-2X陣列圖形和外包圖形之間的間距-陣列圖形在該方向的幾何尺寸X對(duì)應(yīng)方向的圖形數(shù))/(對(duì)應(yīng)方向的圖形數(shù)-1)；對(duì)二維陣列圖形，無障礙陣列圖形之間的間距為無障礙陣列圖形之間X方向的間距值=(對(duì)應(yīng)X方向的器件參數(shù)-2X陣列圖形和外包圖形之間的間距-陣列圖形在X 方向的幾何尺寸XX方向的圖形數(shù))/ (X方向的圖形數(shù)-1)，無障礙陣列圖形之間Y方向的間距=(對(duì)應(yīng)Y方向的器件參數(shù)-2X陣列圖形和外包圖形之間的間距-陣列圖形在Y方向的幾何尺寸XY方向的圖形數(shù))/(Y方向的圖形數(shù)-1)；2. 2有障礙陣列圖形分析有障礙陣列圖形分析在無障礙陣列圖形分析之后進(jìn)行，陣列圖形之間存在其他圖形障礙，但障礙圖形對(duì)這些基本圖形構(gòu)成陣列不作任何影響；有障礙的陣列圖形的點(diǎn)陣大小與器件參數(shù)有關(guān)；2. 2. 1障礙陣列圖形的確定對(duì)于具有同一直接父包圍的屬于同一工藝層的形狀和尺寸參數(shù)相同的圖形，依據(jù)障礙陣列圖形之間的上下和/或左右間距一致性，將這些障礙陣列圖形聚合為一個(gè)或若干個(gè)一維或二維陣列圖形；需要注意的是，障礙陣列圖形之間有同級(jí)圖形或高級(jí)復(fù)合虛擬圖形所隔離，如MOSFET的多指柵圖形之間構(gòu)成有障礙的陣列圖形；2. 2. 2障礙陣列圖形數(shù)的確定對(duì)于具有同一直接父包圍的屬于同一工藝層的形狀和尺寸參數(shù)相同的基本物理圖形，依據(jù)基本物理圖形之間的上下和/或左右間距一致性，將這些基本物理圖形聚合為一個(gè)或若干個(gè)一維或二維陣列圖形；需要注意的是，陣列圖形之間有同級(jí)圖形或高級(jí)圖形所隔離；再根據(jù)參數(shù)標(biāo)識(shí)，以一個(gè)器件參數(shù)或多個(gè)器件參數(shù)確定陣列的大小；2. 2. 3障礙圖形的確定以圖形的最小外接矩形的坐標(biāo)值確定陣列點(diǎn)圖形之間的圖形，將陣列點(diǎn)圖形之間的圖形列入障礙圖形，障礙圖形可以是基本圖形，也可以是基本圖形組成的陣列，可直接關(guān)聯(lián)到對(duì)應(yīng)的虛擬宏圖形；2. 2. 4確定障礙陣列圖形之間的間距值間距值=障礙圖形在圖形間距方向的尺寸+2X障礙圖形與陣列點(diǎn)圖形之間的間距；2. 3陣列圖形左右順序關(guān)系分析2. 3. 1確定陣列圖形內(nèi)左右圖形之間的對(duì)齊方式上邊界垂線對(duì)齊、中心水平線對(duì)齊、下邊界垂線對(duì)齊和上下無對(duì)齊；2. 3. 2以陣列點(diǎn)圖形的最小外接矩形其左下角的點(diǎn)坐標(biāo)值作為該陣列點(diǎn)的左邊界坐標(biāo)值，根據(jù)左邊界坐標(biāo)值中X坐標(biāo)值的大小關(guān)系確定陣列圖形之間的左右順序關(guān)系，X坐標(biāo)值小的陣列點(diǎn)在左，X坐標(biāo)值大的陣列點(diǎn)在右；2. 4陣列圖形上下順序關(guān)系分析2.4. 1確定陣列圖形內(nèi)上下圖形之間的對(duì)齊方式左邊界垂線對(duì)齊、中心垂線對(duì)齊、右邊界垂線對(duì)齊和左右無對(duì)齊；2. 4. 2以陣列點(diǎn)圖形的最小外接矩形其左下角的點(diǎn)坐標(biāo)值作為該陣列點(diǎn)的下邊界坐標(biāo)值，根據(jù)下邊界坐標(biāo)值中Y坐標(biāo)值的大小關(guān)系確定陣列圖形之間的上下順序關(guān)系，Y坐標(biāo)值小的陣列點(diǎn)在下，Y坐標(biāo)值大的陣列點(diǎn)在上；2. 5陣列點(diǎn)之間的連線圖形的分析以連通圖為基礎(chǔ)對(duì)連線的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)分析；結(jié)合設(shè)計(jì)規(guī)則分析連線圖形的尺寸；分析連線對(duì)圖形的覆蓋，從而確定連線圖形的定位參考圖形；結(jié)合設(shè)計(jì)規(guī)則，分析連線圖形與其他圖形之間的關(guān)系以計(jì)算間距；確定連線圖形的坐標(biāo)公式；2. 6選項(xiàng)圖形分析選項(xiàng)圖形受控于控制器件物理版圖的選項(xiàng)參數(shù)，依據(jù)選項(xiàng)標(biāo)識(shí)和選項(xiàng)參數(shù)，將選項(xiàng)區(qū)域內(nèi)的圖形標(biāo)志為該選項(xiàng)參數(shù)的選項(xiàng)圖形；步驟104 確定各基本物理圖形之間的位置依賴關(guān)系；依據(jù)圖形包圍關(guān)系建立層次化的父子樹形關(guān)系；依據(jù)基本物理圖形的左右順序關(guān)系和上下順序關(guān)系建立同層兄弟樹形關(guān)系；從樹形圖的底層建立根和葉子之間的位置依賴關(guān)系；從樹形圖的同根的圖形建立同層葉子圖形之間的位置依賴關(guān)系，以便以一個(gè)同層葉子圖形的位置作為參考，其他同層葉子圖形及其內(nèi)部整體移動(dòng)至規(guī)定的相對(duì)位置處；步驟105 建立各基本物理圖形的生成順序；根據(jù)建立的層次關(guān)系、同層次的左右關(guān)系、上下關(guān)系、參照關(guān)系等建立基本物理圖形的生成順序，其原則是1)根據(jù)層次關(guān)系內(nèi)部底層圖形生成先于直接的父包圍圖形；2)根據(jù)參照關(guān)系被參照的圖形其生成順序優(yōu)先；3)根據(jù)同層次的左右關(guān)系從左往右順序生成；4)根據(jù)同層次的上下關(guān)系從下往上順序生成；步驟106 建立程序流程；1、流程層次化關(guān)系的建立依據(jù)陣列圖形分析和圖形包圍關(guān)系分析依據(jù)陣列圖形分析，將陣列圖形和陣列點(diǎn)的圖形生成作為一個(gè)子流程；在父流程中根據(jù)陣列圖形的維數(shù)和大小建立循環(huán)體，在循環(huán)體中計(jì)算各生成各陣列點(diǎn)所需的參考位置和輸入?yún)?shù)等，調(diào)用該子流程，然后再對(duì)生成的陣列圖形依據(jù)參考點(diǎn)進(jìn)行移位；依據(jù)圖形包圍關(guān)系，構(gòu)建子流程生成被包圍的圖形；2、同一層次內(nèi)流程關(guān)系的建立2. 1依據(jù)基本物理圖形的生成順序，確定程序流程的順序執(zhí)行關(guān)系；2. 2根據(jù)選項(xiàng)圖形及其控制參數(shù)構(gòu)建條件判斷和條件執(zhí)行分支，即判斷嵌套關(guān)系；2. 3以陣列圖形構(gòu)建循環(huán)塊流程，執(zhí)行循環(huán)嵌套關(guān)系；2. 4根據(jù)基本圖形之間的依賴關(guān)系，計(jì)算出參照?qǐng)D形的位置坐標(biāo)，并根據(jù)位置坐標(biāo)生成基本圖形；步驟107 根據(jù)程序流程生成程序；利用已有的CASE技術(shù)依據(jù)流程中的順序執(zhí)行關(guān)系、判斷嵌套關(guān)系、循環(huán)嵌套關(guān)系、跳轉(zhuǎn)嵌套關(guān)系等自動(dòng)轉(zhuǎn)換為詳細(xì)的源程序代碼；程序的語言可以是SKILL、Tcl/tk、 Python、C/C++等；源程序中調(diào)用的基本圖形生成函數(shù)源自系統(tǒng)的預(yù)定義；步驟108 添加圖形平移程序；以器件外框的左下角為參考原點(diǎn)(0，0)是參數(shù)化器件物理版圖的基本要求之一， 可以通過圖形平移實(shí)現(xiàn)，具體包括遍歷器件物理版圖的所有基本圖形，計(jì)算得到(Xmin， Ymin)和(Xmax，Ymax)；對(duì)所有基本圖形的屬性中的坐標(biāo)點(diǎn)值(X，Y)進(jìn)行變化代之以O(shè)Cnew =X-Xmin, Ynew = Y-Ymin)從而將參考原點(diǎn)平移到原來的0(min，Ymin)點(diǎn)。以上所述的具體實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)認(rèn)識(shí)到，以上所述內(nèi)容僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式
，并不用于限制本發(fā)明。凡在本發(fā)明的實(shí)質(zhì)和基本原理之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，其特征在于，所述方法包括 利用圖形編輯器輸入器件的物理圖形，在所述物理圖形上標(biāo)出圖形及圖形之間的設(shè)計(jì)規(guī)則參數(shù)、器件參數(shù)與圖形的對(duì)應(yīng)關(guān)系和選項(xiàng)區(qū)域；掃描所述物理圖形，確定基本物理圖形之間的位置關(guān)系和位置依賴關(guān)系； 根據(jù)所述基本物理圖形之間的位置關(guān)系和位置依賴關(guān)系，建立各基本物理圖形的生成順序和程序流程，生成程序。
2.如權(quán)利要求1所述的建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，其特征在于， 所述方法還包括添加圖形坐標(biāo)重定位程序，具體包括遍歷器件物理版圖的所有基本物理圖形，計(jì)算得到橫、縱坐標(biāo)最小的坐標(biāo)點(diǎn)；將所述器件物理版圖的參考原點(diǎn)平移到所述橫、 縱坐標(biāo)最小的坐標(biāo)點(diǎn)。
3.如權(quán)利要求1或2所述的建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，其特征在于，所述確定基本物理圖形之間的位置關(guān)系的步驟具體包括根據(jù)各個(gè)基本物理圖形的面積大小關(guān)系，確定各個(gè)基本物理圖形之間的包圍關(guān)系； 對(duì)所述基本物理圖形進(jìn)行無障礙圖形和有障礙圖形陣列分析； 對(duì)所述基本物理圖形進(jìn)行左右順序關(guān)系和上下順序關(guān)系分析。
4.如權(quán)利要求3所述的建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，其特征在于， 所述對(duì)所述基本物理圖形進(jìn)行無障礙圖形陣列分析的步驟具體包括根據(jù)基本物理圖形之間的上下和/或左右間距一致性，將基本物理圖形聚合為一個(gè)或若干個(gè)一維或二維陣列圖形；根據(jù)所述一維或二維陣列圖形的延展方向，確定無障礙圖形陣列的圖形數(shù)； 建立所述一維或二維陣列圖形的間距與設(shè)計(jì)規(guī)則參數(shù)和器件參數(shù)之間的關(guān)系。
5.如權(quán)利要求4所述的建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，其特征在于， 所述根據(jù)一維陣列圖形的延展方向，確定無障礙圖形陣列的圖形數(shù)的步驟具體為所述一維陣列圖形延展方向的圖形數(shù)=(對(duì)應(yīng)延展方向的器件參數(shù)-2X陣列圖形和外包圖形之間的間距)/(陣列圖形在延展方向的幾何尺寸+設(shè)計(jì)規(guī)則允許的陣列圖形最小間距)。
6.如權(quán)利要求5所述的建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，其特征在于， 所述建立所述一維陣列圖形的間距與設(shè)計(jì)規(guī)則參數(shù)和器件參數(shù)之間的關(guān)系的步驟具體為 所述一維陣列圖形之間的間距值=(對(duì)應(yīng)延展方向的器件參數(shù)-2X陣列圖形和外包圖形之間的間距-陣列圖形在該方向的幾何尺寸X對(duì)應(yīng)方向的圖形數(shù))/(對(duì)應(yīng)方向的圖形數(shù)-1)。
7.如權(quán)利要求4所述的建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，其特征在于， 所述根據(jù)所述二維陣列圖形的延展方向，確定無障礙圖形陣列的圖形數(shù)的步驟具體為所述二維陣列圖形在X方向的圖形數(shù)=(對(duì)應(yīng)X方向的器件參數(shù)-2X陣列圖形和外包圖形之間的間距)/ (陣列圖形在X方向的幾何尺寸+設(shè)計(jì)規(guī)則允許的陣列圖形最小間距)，所述二維陣列圖形在Y方向的圖形數(shù)=(對(duì)應(yīng)Y方向的器件參數(shù)-2X陣列圖形和外包圖形之間的間距)/(陣列圖形在Y方向的幾何尺寸+設(shè)計(jì)規(guī)則允許的陣列圖形最小間距)。
8.如權(quán)利要求7所述的建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，其特征在于， 所述建立二維陣列圖形的間距與設(shè)計(jì)規(guī)則參數(shù)和器件參數(shù)之間的關(guān)系的步驟具體為所述二維陣列圖形之間X方向的間距值=(對(duì)應(yīng)X方向的器件參數(shù)-2X陣列圖形和外包圖形之間的間距-陣列圖形在X方向的幾何尺寸XX方向的圖形數(shù))/ (X方向的圖形數(shù)-1)，所述二維陣列圖形之間Y方向的間距=(對(duì)應(yīng)Y方向的器件參數(shù)-2X陣列圖形和外包圖形之間的間距-陣列圖形在Y方向的幾何尺寸XY方向的圖形數(shù))/ (Y方向的圖形數(shù)-1)。
9.如權(quán)利要求3所述的建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，其特征在于， 所述對(duì)所述基本物理圖形進(jìn)行左右順序關(guān)系分析的步驟具體包括確定所述基本物理圖形的對(duì)齊方式，所述對(duì)齊方式包括上邊界垂線對(duì)齊、中心水平線對(duì)齊、下邊界垂線對(duì)齊和上下無對(duì)齊；以陣列點(diǎn)圖形的最小外接矩形其左下角的點(diǎn)坐標(biāo)值作為該陣列點(diǎn)的左邊界坐標(biāo)值，根據(jù)左邊界坐標(biāo)值中X坐標(biāo)值的大小關(guān)系確定陣列圖形之間的左右順序關(guān)系，X坐標(biāo)值小的陣列點(diǎn)在左，X坐標(biāo)值大的陣列點(diǎn)在右。
10.如權(quán)利要求3所述的建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，其特征在于， 所述對(duì)所述基本物理圖形進(jìn)行上下順序關(guān)系分析的步驟具體包括確定所述基本物理圖形的對(duì)齊方式，所述對(duì)齊方式包括左邊界垂線對(duì)齊、中心垂線對(duì)齊、右邊界垂線對(duì)齊和左右無對(duì)齊；以陣列點(diǎn)圖形的最小外接矩形其左下角的點(diǎn)坐標(biāo)值作為該陣列點(diǎn)的下邊界坐標(biāo)值，根據(jù)下邊界坐標(biāo)值中Y坐標(biāo)值的大小關(guān)系確定陣列圖形之間的上下順序關(guān)系，Y坐標(biāo)值小的陣列點(diǎn)在下，Y坐標(biāo)值大的陣列點(diǎn)在上。
11.如權(quán)利要求3所述的建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，其特征在于， 所述確定基本物理圖形之間的位置依賴關(guān)系的步驟具體包括根據(jù)各個(gè)基本物理圖形的包圍關(guān)系建立層次化的父子樹形關(guān)系； 根據(jù)基本物理圖形的左右順序關(guān)系和上下順序關(guān)系建立同層兄弟樹形關(guān)系； 從樹形圖的底層建立根和葉子之間的位置依賴關(guān)系； 從樹形圖的同根的圖形建立同層葉子圖形之間的位置依賴關(guān)系。
12.如權(quán)利要求3所述的建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，其特征在于， 所述建立程序流程的步驟具體包括根據(jù)所述圖形陣列分析，將圖形陣列和陣列點(diǎn)的圖形生成作為一個(gè)子流程； 在父流程中根據(jù)圖形陣列的維數(shù)和大小建立循環(huán)體，在循環(huán)體中計(jì)算各生成各陣列點(diǎn)所需的參考位置和輸入?yún)?shù)；對(duì)生成的陣列圖形依據(jù)參考點(diǎn)進(jìn)行移位；根據(jù)所述基本物理圖形包圍關(guān)系，構(gòu)建子流程生成被包圍的圖形。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種建立參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序的方法，屬于集成電路設(shè)計(jì)自動(dòng)化技術(shù)領(lǐng)域。所述方法包括利用圖形編輯器輸入器件的物理圖形，在物理圖形上標(biāo)出圖形及圖形之間的設(shè)計(jì)規(guī)則參數(shù)、器件參數(shù)與圖形的對(duì)應(yīng)關(guān)系和選項(xiàng)區(qū)域；掃描物理圖形，確定基本物理圖形之間的位置關(guān)系和位置依賴關(guān)系；根據(jù)基本物理圖形之間的位置關(guān)系和位置依賴關(guān)系，建立各基本物理圖形的生成順序和程序流程，生成程序。本發(fā)明可以自動(dòng)生成參數(shù)化器件物理版圖單元生成程序。
文檔編號(hào)G06F17/50GK102402633SQ201010285010
公開日2012年4月4日 申請(qǐng)日期2010年9月17日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月17日
發(fā)明者葉甜春, 吳玉平, 陳嵐 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院微電子研究所