專(zhuān)利名稱(chēng)：導(dǎo)電膜層疊部件、電光裝置及電子設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及導(dǎo)電膜層疊部件、電光裝置及電子設(shè)備。
技術(shù)背景
作為在基板上形成導(dǎo)電膜等圖形膜的方法，例如已知下述方法使用噴墨法， 將包含圖形膜的材料的液狀材料作為液滴進(jìn)行排出，在基板上涂敷由液滴點(diǎn)相連而成的 功能液，并使涂敷后的功能液固化，由此來(lái)形成圖形膜(例如參見(jiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。
專(zhuān)利文獻(xiàn)1 特開(kāi)2003-080694號(hào)公報(bào)
但是，采用上述的方法所形成的圖形膜因?yàn)槭俏⑿〉狞c(diǎn)圖形相互重合所構(gòu)成的 集合體，所以因點(diǎn)圖形的重合而在圖形膜中形成臺(tái)階。于是，存在在對(duì)圖形膜施加了 外力時(shí)，應(yīng)力集中于臺(tái)階部分，產(chǎn)生圖形膜的剝離和/或裂紋等這樣的問(wèn)題。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為了解決上述問(wèn)題的至少一部分而做出，能夠作為下面的方式或應(yīng)用例 來(lái)實(shí)現(xiàn)。
[應(yīng)用例1]本應(yīng)用例所涉及的導(dǎo)電膜層疊部件其特征為，具有第1導(dǎo)電膜，形 成于基板上；和第2導(dǎo)電膜，形成于上述第1導(dǎo)電膜上；上述第2導(dǎo)電膜的膜寬度比上述 第1導(dǎo)電膜的膜寬度窄，且上述第2導(dǎo)電膜剖面看，在與上述第1導(dǎo)電膜相反方向上具有 彎曲成凸?fàn)畹谋砻妗?br> 根據(jù)該構(gòu)成，因?yàn)榈?導(dǎo)電膜具有不與基板接觸、并且不覆蓋到第1導(dǎo)電膜的端 部的形態(tài)，所以可以抑制因應(yīng)力等導(dǎo)致的膜的剝離等發(fā)生。再者，因?yàn)榈?導(dǎo)電膜在與 第1導(dǎo)電膜相反方向上具有彎曲成凸?fàn)畹谋砻?，所以可以抑制因?yīng)力等導(dǎo)致的裂紋等發(fā)生。
[應(yīng)用例2]在上述應(yīng)用例所涉及的導(dǎo)電膜層疊部件中，其特征為，上述第2導(dǎo)電 膜的膜寬度從上述第1導(dǎo)電膜的膜寬度方向上的兩個(gè)端部開(kāi)始各窄0.5 5μιη。
根據(jù)該構(gòu)成，可以進(jìn)一步抑制第2導(dǎo)電膜的剝離和/及裂紋等，能夠提供可靠性 高的導(dǎo)電膜層疊部件。
[應(yīng)用例3]在上述應(yīng)用例所涉及的導(dǎo)電膜層疊部件中，其特征為，上述第2導(dǎo)電 膜的厚度是0.2 2μιη，且上述第2導(dǎo)電膜的剖面看的端部的角度是0.5 10°。
根據(jù)該構(gòu)成，可以進(jìn)一步抑制膜的剝離和/及裂紋等，能夠提供可靠性高的導(dǎo) 電膜層疊部件。
[應(yīng)用例4]在上述應(yīng)用例所涉及的導(dǎo)電膜層疊部件中，其特征為，上述第1導(dǎo)電 膜是具有透明性的導(dǎo)電膜，上述第2導(dǎo)電膜是包含銀的導(dǎo)電膜。
根據(jù)該構(gòu)成，因?yàn)樵诰哂型该餍缘膶?dǎo)電膜上疊層銀的導(dǎo)電膜，所以例如在第1 導(dǎo)電膜的電阻率比較高的情況下，也由于在第1導(dǎo)電膜上形成包含銀的第2導(dǎo)電膜，因而 作為疊層后的導(dǎo)電膜整體可以減低電阻率。
[應(yīng)用例5]在上述應(yīng)用例所涉及的導(dǎo)電膜層疊部件中，其特征為，具有保護(hù)膜， 形成于上述第1導(dǎo)電膜及上述第2導(dǎo)電膜上；具備3層層疊部，由上述第1導(dǎo)電膜、上 述第1導(dǎo)電膜上所形成的上述第2導(dǎo)電膜和上述第2導(dǎo)電膜上所形成的上述保護(hù)膜進(jìn)行了 疊層而成；和2層層疊部，是上述第1導(dǎo)電膜的膜寬度方向的端部，由上述第1導(dǎo)電膜和 上述第1導(dǎo)電膜上所形成的上述保護(hù)膜進(jìn)行了疊層而成。
根據(jù)該構(gòu)成，在3層層疊部中，由保護(hù)膜覆蓋第2導(dǎo)電膜的表面。另外，在2 層層疊部中，因?yàn)榈?導(dǎo)電膜和保護(hù)膜貼緊，所以第2導(dǎo)電膜被可靠地封入。借此，在 外部環(huán)境下第2導(dǎo)電膜得到可靠保護(hù)。
[應(yīng)用例6]在上述應(yīng)用例所涉及的導(dǎo)電膜層疊部件中，其特征為，上述第1導(dǎo)電 膜和上述保護(hù)膜是相同的材料。
根據(jù)該構(gòu)成，可以使第1導(dǎo)電膜和保護(hù)膜之間的貼緊性得到進(jìn)一步提高。
[應(yīng)用例7]在上述應(yīng)用例所涉及的導(dǎo)電膜層疊部件中，其特征為，上述第2導(dǎo)電 膜通過(guò)對(duì)上述基板的表面實(shí)施疏水化處理，并且對(duì)上述第1導(dǎo)電膜的表面實(shí)施比上述基 板的疏水力弱的疏水化處理，并在上述第1導(dǎo)電膜上涂敷包含上述第2導(dǎo)電膜的材料的液 狀材料，來(lái)形成。
根據(jù)該構(gòu)成，可以形成與第1導(dǎo)電膜相比寬度較狹窄，且在和第1導(dǎo)電膜相反方 向上具有彎曲成凸?fàn)畹谋砻娴牡?導(dǎo)電膜，能抑制因應(yīng)力等導(dǎo)致的膜剝離和/及裂紋發(fā)生。
[應(yīng)用例8]本應(yīng)用例所涉及的電光裝置其特征為，具備上述的導(dǎo)電膜層疊部件。
根據(jù)該構(gòu)成，可以提供具備可靠性高的導(dǎo)電膜層疊部件的電光裝置。這種情況 下，電光裝置指的是，例如液晶顯示器、等離子體顯示器、有機(jī)EL顯示器及FED (場(chǎng)放 射顯示器)等。
[應(yīng)用例9]本應(yīng)用例所涉及的電子設(shè)備其特征為，裝載有上述電光裝置。
根據(jù)該構(gòu)成，可以提供裝載有可靠性高的電光裝置的電子設(shè)備。這種情況下， 電子設(shè)備指的是，例如裝載有濾色器、等離子體顯示器、有機(jī)EL顯示器、FED (場(chǎng)放射 顯示器)的電視接收機(jī)、個(gè)人計(jì)算機(jī)、便攜電子設(shè)備及其他的各種電子產(chǎn)品。


圖1是表示作為導(dǎo)電膜層疊部件的觸摸面板的構(gòu)成的俯視圖。
圖2是表示作為導(dǎo)電膜層疊部件的觸摸面板的構(gòu)成的剖面圖。
圖3是表示作為導(dǎo)電膜層疊部件的觸摸面板的構(gòu)成的剖面圖。
圖4是表示觸摸面板制造方法的流程圖。
圖5是表示觸摸面板制造方法一部分的流程圖。
圖6是表示表面處理裝置的構(gòu)成的模式圖。
圖7是表示液滴排出裝置的構(gòu)成的立體圖。
圖8是表示采用壓電方式的功能液的排出原理的模式圖。
圖9是表示觸摸面板制造方法的工序圖。
圖10是表示觸摸面板的制造方法的工序圖。
圖11是基底材料的接觸角的測(cè)定數(shù)據(jù)。
圖12是表示基底材料表面處理狀態(tài)的模式圖。
圖13是表示功能液涂敷狀態(tài)等的模式圖。
圖14是表示作為電光裝置的液晶顯示裝置的構(gòu)成的俯視圖及剖面圖。
圖15是表示作為電子設(shè)備的個(gè)人計(jì)算機(jī)的構(gòu)成的立體圖。
符號(hào)說(shuō)明
L···基板，Ia----方的面，5…輸入?yún)^(qū)域，6…引繞布線區(qū)域，6a…第1區(qū)域，6b…第2區(qū)域，60…引繞布線，60a…第1導(dǎo)電膜，60b…第2導(dǎo)電膜，61…第1保護(hù)膜， 62…第2保護(hù)膜，80…3層層疊部，81…2層層疊部，100…作為導(dǎo)電膜層疊部件的觸摸 面板，500…作為電光裝置的液晶顯示裝置，900…表面處理裝置，1001…液滴排出頭， 1100…作為電子設(shè)備的便攜式個(gè)人計(jì)算機(jī)，IJ…液滴排出裝置，D…液滴，W1···第1導(dǎo)電 膜的膜寬度，W2···第2導(dǎo)電膜的膜寬度，H…第2導(dǎo)電膜的膜厚度，θ…角度。
具體實(shí)施方式
下面，一邊參照附圖一邊說(shuō)明將本發(fā)明具體化后的實(shí)施方式。還有，為了使各 附圖中的各部件為可在各附圖上辨認(rèn)的程度的大小，所以按每個(gè)部件使比例尺和/或個(gè) 數(shù)等不同進(jìn)行了圖示。
(導(dǎo)電膜層疊部件的構(gòu)成)
首先，對(duì)于導(dǎo)電膜層疊部件的構(gòu)成進(jìn)行說(shuō)明。還有，在本實(shí)施方式中，將舉出 作為導(dǎo)電膜層疊部件的觸摸面板為例進(jìn)行說(shuō)明。圖1是表示觸摸面板的構(gòu)成的俯視圖。 圖2及圖3是表示觸摸面板的構(gòu)成的剖面圖，圖2是圖1所示的觸摸面板的A-A'剖面 圖，圖3是圖1所示的觸摸面板的B-B'剖面圖。
觸摸面板100具有基板1、基板1上所設(shè)置的輸入?yún)^(qū)域5和引繞布線區(qū)域6?；?板1具有透明性，例如是石英玻璃、玻璃、塑料等。還有，在本實(shí)施方式中，將設(shè)為玻 璃基板1進(jìn)行說(shuō)明。玻璃基板1在俯視時(shí)按矩形狀進(jìn)行了成形。
輸入?yún)^(qū)域5是在圖1中用單點(diǎn)劃線包圍的區(qū)域，用來(lái)檢測(cè)在觸摸面板100上進(jìn)行 輸入的手指的位置信息。在輸入?yún)^(qū)域5上，分別配置多個(gè)X電極10及多個(gè)Y電極20。 X電極10在圖示中沿X軸方向延伸，且X電極10在Y軸方向上相互空出間隔排列了多 個(gè)。Y電極20在圖示中沿Y軸方向延伸，各個(gè)Y電極20在X軸方向上相互空出間隔進(jìn) 行了排列。X電極10及Y電極20通過(guò)使相互的橋接布線交叉而在輸入?yún)^(qū)域5內(nèi)的交叉 部K處進(jìn)行交叉。
X電極10具備多個(gè)島狀電極部12，按X軸方向排列；和橋接布線11，連接 相鄰的島狀電極部12彼此。島狀電極部12俯視形成為矩形狀，其配置為一方的對(duì)角線沿著X軸。
Y電極20具備多個(gè)島狀電極部22，按Y軸方向排列；和橋接布線21，連接 相鄰的島狀電極部22彼此。島狀電極部22俯視形成為矩形狀，其配置為一方的對(duì)角線 沿著Y軸。島狀電極部12和島狀電極部22在X軸方向及Y軸方向上相互不同地進(jìn)行了 配置(方格狀配置)，在輸入?yún)^(qū)域5中，矩形狀的島狀電極部12、22配置成俯視矩陣狀。
作為構(gòu)成X電極10、Y電極20及橋接布線11、21的材料，可以采用ITO (氧化 銦錫)和/或IZO (氧化銦鋅，注冊(cè)商標(biāo))、ZnO等具有透光性的電阻體。
引繞布線區(qū)域6是在圖1中用雙點(diǎn)劃線包圍的區(qū)域。在引繞布線區(qū)域6，形成多 條引繞布線60。各引繞布線60的一端與X電極10或Y電極20進(jìn)行連接，另一端與觸 摸面板100的內(nèi)部或者外部裝置中所設(shè)置的驅(qū)動(dòng)部及電信號(hào)轉(zhuǎn)換/運(yùn)算部(全都未圖示) 進(jìn)行連接。
另外，引繞布線區(qū)域6被分成第1區(qū)域虹和第2區(qū)域冊(cè)。在本實(shí)施方式中，被 分成與下述端子連接部的區(qū)域?qū)?yīng)的第1區(qū)域虹和與第1區(qū)域虹以外的區(qū)域?qū)?yīng)的第2 區(qū)域6b，上述端子連接部與驅(qū)動(dòng)部及電信號(hào)轉(zhuǎn)換/運(yùn)算部(全都未圖示)進(jìn)行電連接。
觸摸面板100如圖2及圖3所示，在玻璃基板1的一方的面Ia設(shè)有島狀電極部 12(未圖示)、島狀電極部22、橋接布線11及引繞布線60。在橋接布線11上，以和島狀 電極部22大致成一個(gè)面的高度形成使X電極10和Y電極20間絕緣的電極間絕緣膜30。 而且，在電極間絕緣膜30上配置橋接布線21。X電極10的橋接布線11形成得比島狀電 極部22薄，例如為1/2左右的厚度。覆蓋這些電極及布線地形成平坦化膜40。在平坦 化膜40上，夾著粘接層51配置保護(hù)基板50。另外，在玻璃基板1的另一方的面lb，設(shè) 有屏蔽層70。
電極間絕緣膜30例如采用聚硅氧烷、丙烯酸類(lèi)樹(shù)脂及丙烯酸單體等來(lái)形成。還 有，在使用聚硅氧烷來(lái)形成時(shí)，電極間絕緣膜30成為包含硅氧化物的無(wú)機(jī)絕緣膜。另一 方面，在采用丙烯酸類(lèi)樹(shù)脂及丙烯酸單體時(shí)，電極間絕緣膜30成為包含樹(shù)脂材料的有機(jī) 絕緣膜。這里，使用了將JSRNN525E和EDM (二甘醇乙基甲基醚)以4 1(重量比) 混合而成的墨。
在電極間絕緣膜30的形成材料中，優(yōu)選的是，采用相對(duì)介電常數(shù)為4.0以下， 最好為3.5以下的材料。借此，可以減低橋接布線11、21的交叉部K處的寄生電容，能 保持觸摸面板的位置檢測(cè)性能。另外，在電極間絕緣膜30的形成材料中，優(yōu)選的是，采 用折射率為2.0以下，最好為1.7以下的材料。借此，可以減小與玻璃基板1和/或X電 極10、Y電極20之間的折射率差，能夠防止電極間絕緣膜30的圖形被使用者看見(jiàn)。
引繞布線60具有第1導(dǎo)電膜60a，配置于玻璃基板1的一方的面Ia上；和第 2導(dǎo)電膜60b，形成于第1導(dǎo)電膜60a上。而且，在第1區(qū)域虹中，形成將引繞布線60 的表面覆蓋了的第1保護(hù)膜61。另外，在第2區(qū)域冊(cè)中，形成將引繞布線60的表面覆 蓋了的第2保護(hù)膜62。
第1導(dǎo)電膜60a是一種具有透明性的透明導(dǎo)電膜。例如，是ITO和/或IZO等 的電阻體。第2導(dǎo)電膜60b是一種以Ag為主要成分的金屬膜。還有，第2導(dǎo)電膜60b 只要是與第1導(dǎo)電膜60a相比可以進(jìn)一步減小薄層(sheet)電阻的導(dǎo)電膜，就沒(méi)有特別限 定。例如，除Ag之外，還可使用將Au、Al、Cu、Pd等的金屬及碳(石墨、碳納米管 等的納米碳)之中的1種以上作為成分的有機(jī)化合物、納米微粒、納米線等。這樣，通 過(guò)將第1導(dǎo)電膜60a和第2導(dǎo)電膜60b疊層來(lái)形成為導(dǎo)電膜層疊結(jié)構(gòu)，就可以作為引繞布 線60整體減低電阻率。
另外，如圖3所示，第2導(dǎo)電膜60b的膜寬度W2形成得比第1導(dǎo)電膜60a的膜 寬度Wl狹窄。再者，第2導(dǎo)電膜60b剖面看，在和第1導(dǎo)電膜60a相反方向上具有彎曲 成凸?fàn)畹谋砻妗Ｔ僬?，具體而言，第2導(dǎo)電膜60b的膜寬度W2形成得從第1導(dǎo)電膜的膜 寬度Wl的兩個(gè)端部開(kāi)始各狹窄0.5 5μιη。另外，第2導(dǎo)電膜60b的厚度H是0.2 2ym,第2導(dǎo)電膜60b的剖視時(shí)的端部的角度θ是0.5 10°。
第1保護(hù)膜61形成在第1導(dǎo)電膜60a的表面及第2導(dǎo)電膜60b的表面上。第1 保護(hù)膜61是一種具有透明性的透明導(dǎo)電膜。例如，是和第1導(dǎo)電膜60a相同的材料，是 ITO和/或IZO等的電阻體。這里，在引繞布線60和第1保護(hù)膜61之間的層疊關(guān)系上， 如圖3(b)所示，具有3層層疊部80，由第1導(dǎo)電膜60a、第1導(dǎo)電膜60a上所形成的第 2導(dǎo)電膜60b和第2導(dǎo)電膜60b上所形成的第1保護(hù)膜61進(jìn)行了疊層而成；和2層層疊 部81，是第1導(dǎo)電膜60a的寬度方向的端部，由第1導(dǎo)電膜60a和第1導(dǎo)電膜60a上所形 成的第1保護(hù)膜61進(jìn)行了疊層而成。在2層層疊部81中，因?yàn)樾纬傻?導(dǎo)電膜60a與 第1保護(hù)膜61之間的接合部(接觸部)，所以利用第1導(dǎo)電膜60a和第1保護(hù)膜61封入 第2導(dǎo)電膜60b。因此，可以避免接觸外部環(huán)境地保護(hù)第2導(dǎo)電膜60b。
第2保護(hù)膜62形成在第1導(dǎo)電膜60a的表面及第2導(dǎo)電膜60b的表面上。第2 保護(hù)膜62具有絕緣性，例如采用聚硅氧烷、丙烯酸類(lèi)樹(shù)脂及丙烯酸單體等來(lái)形成。還 有，第2區(qū)域冊(cè)的層疊結(jié)構(gòu)也和上述第1區(qū)域虹中的層疊結(jié)構(gòu)相同。具體而言，具有 3層層疊部，由第1導(dǎo)電膜60a、第1導(dǎo)電膜60a上所形成的第2導(dǎo)電膜60b和第2導(dǎo)電 膜60b上所形成的第2保護(hù)膜62進(jìn)行了疊層而成；和2層層疊部，是第1導(dǎo)電膜60a的 寬度方向的端部，由第1導(dǎo)電膜60a和第1導(dǎo)電膜60a上所形成的第2保護(hù)膜62進(jìn)行了疊 層而成。在2層層疊部處，因?yàn)樾纬捎械?導(dǎo)電膜60a與第2保護(hù)膜62之間的接觸部， 所以利用第1導(dǎo)電膜60a和第2保護(hù)膜62封入第2導(dǎo)電膜60b。
平坦化膜40形成在X及Y電極10、20及第2區(qū)域6b的引繞布線60 (第2保護(hù) 膜62上)上。而且，在平坦化膜40上，夾著粘接層51來(lái)配置保護(hù)基板50。另外，在 玻璃基板1的另一方的面lb，設(shè)有屏蔽層70。還有，在第1區(qū)域虹的引繞布線60上， 未設(shè)置平坦化膜40及保護(hù)基板50等。其原因?yàn)?，?區(qū)域6a的引繞布線60需要和驅(qū) 動(dòng)部及電信號(hào)轉(zhuǎn)換/運(yùn)算部(全都未圖示)進(jìn)行連接。
利用平坦化膜40使玻璃基板1的一方的面Ia側(cè)平坦化，所以可以將玻璃基板1 和保護(hù)基板50在大致整面的范圍內(nèi)均勻地接合。另外，在平坦化膜40的形成材料中， 優(yōu)選的是，采用折射率為2.0以下，最好為1.7以下的材料。借此，可以減小與玻璃基板 1和/或X電極10、Y電極20之間的折射率差，能夠使得X電極10及Y電極20的布線 圖形不易被看見(jiàn)。
保護(hù)基板50是玻璃或塑料等的透明基板。或者，在本實(shí)施方式的觸摸面板100 配置于液晶面板或有機(jī)EL面板等顯示裝置的前側(cè)的面時(shí)，作為保護(hù)基板50，也可以利用 作為顯示裝置的一部分來(lái)使用的光學(xué)元件基板(偏振板和/或相位差板等)。
屏蔽層70是通過(guò)使ITO和/或IZO (注冊(cè)商標(biāo))等的透明導(dǎo)電材料在玻璃基板1 的另一方的面Ib成膜，來(lái)形成的?；蛘撸部梢詼?zhǔn)備形成有作為屏蔽層的透明導(dǎo)電膜的 膜，將此膜粘接到玻璃基板1的另一方的面Ib來(lái)構(gòu)成。通過(guò)設(shè)置屏蔽層70，在玻璃基板 1的另一方的面Ib上隔斷電場(chǎng)。借此，可以防止觸摸面板100的電場(chǎng)對(duì)顯示裝置等發(fā)生 作用和/或顯示裝置等外部設(shè)備的電場(chǎng)對(duì)觸摸面板100發(fā)生作用。還有，在本實(shí)施方式 中，雖然在玻璃基板1的另一方的面Ib形成了屏蔽層70，但是也可以將屏蔽層70形成于 玻璃基板1的一方的面Ia側(cè)。
這里，對(duì)于觸摸面板100的工作原理進(jìn)行簡(jiǎn)單說(shuō)明。首先，從未圖示的驅(qū)動(dòng)部，通過(guò)引繞布線60給X電極10及Y電極20供給預(yù)定的電位。還有，對(duì)屏蔽層70， 例如輸入接地的電位(接地電位)。
若在如上所述被供給了電位的狀態(tài)下，從保護(hù)基板50側(cè)朝向輸入?yún)^(qū)域5使手指 接近，則在接近保護(hù)基板50的手指與接近位置附近的X電極10及Y電極20的各自之間 形成寄生電容。于是，在形成有寄生電容的X電極10及Y電極20中，因?qū)υ摷纳娙?進(jìn)行充電而引起暫時(shí)的電位下降。
在驅(qū)動(dòng)部中，對(duì)各電極的電位進(jìn)行傳感檢測(cè)，立刻檢測(cè)上述發(fā)生了電位下降的 X電極10及Y電極20。然后，通過(guò)由電信號(hào)轉(zhuǎn)換/運(yùn)算部解析所檢測(cè)到的電極的位置， 來(lái)檢測(cè)輸入?yún)^(qū)域5中的手指的位置信息。具體而言，通過(guò)按X軸方向延伸的X電極10， 來(lái)檢測(cè)手指接近的位置在輸入?yún)^(qū)域5中的Y坐標(biāo)，通過(guò)按Y軸方向延伸的Y電極20，來(lái) 檢測(cè)輸入?yún)^(qū)域5中的X坐標(biāo)。
(導(dǎo)電膜層疊部件的制造方法)
下面，說(shuō)明導(dǎo)電膜層疊部件的制造方法。還有，在本實(shí)施方式中，將說(shuō)明作為 導(dǎo)電膜層疊部件的觸摸面板的制造方法。圖4是表示觸摸面板制造方法的流程圖。
本實(shí)施方式的觸摸面板制造工序包括電極成膜工序S10，在玻璃基板1的一方 的面la，形成島狀電極部12、22、橋接布線11及作為引繞布線60的一部分的第1導(dǎo)電 膜60a;第2導(dǎo)電膜形成工序幻0，在第1導(dǎo)電膜60a上形成第2導(dǎo)電膜60b;絕緣膜形 成工序S30，在橋接布線11上形成電極間絕緣膜30，并且形成將第2區(qū)域6b的引繞布線 60覆蓋的第2保護(hù)膜62;第1保護(hù)膜形成工序S40，形成將第1區(qū)域虹的引繞布線60覆 蓋的第1保護(hù)膜61 ；橋接布線形成工序S50，形成經(jīng)由電極間絕緣膜30上來(lái)連接相鄰的 島狀電極部22彼此的橋接布線21 ；平坦化膜形成工序S60，形成使玻璃基板1的一方的 面Ia側(cè)平坦化的平坦化膜40 ；保護(hù)基板接合工序S70，通過(guò)粘接層51將保護(hù)基板50和 平坦化膜40進(jìn)行接合；以及屏蔽層形成工序S80，在玻璃基板1的另一方的面Ib形成屏 蔽層70。
另外，圖5是表示觸摸面板制造方法的一部分的流程圖。也就是說(shuō)，是進(jìn)一步 詳細(xì)說(shuō)明觸摸面板制造方法中的第2導(dǎo)電膜形成工序S20所用的流程圖。
如圖5所示，第2導(dǎo)電膜形成工序S20包括清洗工序幻如，清洗在玻璃基板1 的一方的面Ia形成有第1導(dǎo)電膜60a后的基體材料1'的表面；表面處理工序S20b，對(duì) 基體材料1'的表面進(jìn)行表面處理；涂敷工序幻此，在第1導(dǎo)電膜60a上，涂敷包含水系 分散介質(zhì)的功能液，該水系分散介質(zhì)分散有作為第2導(dǎo)電膜60b的材料的金屬微粒；放置 工序S20d，放置附著有功能液的基體材料1'；以及固化工序S20e，使涂敷后的功能液 固化，在第1導(dǎo)電膜60a上形成第2導(dǎo)電膜60b。
還有，本實(shí)施方式中，在上述表面處理工序S20b中使用了表面處理裝置，另 外，在涂敷工序S20c等中使用了液滴排出裝置。因此，在觸摸面板制造方法的說(shuō)明之 前，對(duì)于表面處理裝置及液滴排出裝置進(jìn)行說(shuō)明。
首先，說(shuō)明表面處理裝置。圖6是表示表面處理裝置構(gòu)成的模式圖。表面處理 裝置900是一種作為表面處理劑使用六甲基二硅氮烷進(jìn)行基體材料表面處理的裝置，并 且一般是進(jìn)行HMDS處理的裝置。還有，在本實(shí)施方式中，表示出采用氣體擴(kuò)散法的表 面處理裝置900的構(gòu)成。表面處理裝置900具有六甲基二硅氮烷(HMDS)910 ；碟形容器920，裝入六甲基二硅氮烷910 ；以及收置容器930，能夠密閉地收置碟形容器920和 基體材料1'。而且，在進(jìn)行表面處理時(shí)，在收置容器930之中，分別設(shè)置裝入有六甲基 二硅氮烷910的碟形容器920，和在碟形容器920的上方設(shè)置的基體材料1'，使收置容 器930成為密閉狀態(tài)。然后，使六甲基二硅氮烷910氣化，讓收置容器930內(nèi)成為六甲 基二硅氮烷910的氣體氣氛下。借此，基體材料1'和六甲基二硅氮烷910發(fā)生反應(yīng)，實(shí) 施基體材料1'的表面處理。
下面，說(shuō)明液滴排出裝置。圖7是表示液滴排出裝置構(gòu)成的立體圖。液滴排出 裝置IJ具備液滴排出頭1001、X軸方向驅(qū)動(dòng)軸1004、Y軸方向?qū)蜉S1005、控制裝置 CONT>載物臺(tái)1007、清洗機(jī)構(gòu)1008、基座1009和加熱器1015。
載物臺(tái)1007用來(lái)支撐要涂敷功能液的工件W，具備將工件W固定于基準(zhǔn)位置上 的未圖示的固定機(jī)構(gòu)。
液滴排出頭1001是具備多個(gè)排出噴嘴的多噴嘴型液滴排出頭，使長(zhǎng)度方向和X 軸方向一致。多個(gè)排出噴嘴在液滴排出頭1001的下側(cè)的面按一定間隔來(lái)設(shè)置。其構(gòu)成 為，從液滴排出頭1001的排出噴嘴，對(duì)支撐在載物臺(tái)1007上的工件W，將功能液作為液 滴進(jìn)行排出，在工件W上涂敷功能液。
在X軸方向驅(qū)動(dòng)軸1004上，連接著X軸方向驅(qū)動(dòng)馬達(dá)1002。該X軸方向驅(qū)動(dòng) 馬達(dá)1002由步進(jìn)馬達(dá)等構(gòu)成，若從控制裝置CONT供給了 X軸方向的驅(qū)動(dòng)信號(hào)，則使X 軸方向驅(qū)動(dòng)軸1004旋轉(zhuǎn)。若X軸方向驅(qū)動(dòng)軸1004進(jìn)行了旋轉(zhuǎn)，則液滴排出頭1001按X 軸方向進(jìn)行移動(dòng)。
Y軸方向?qū)蜉S1005進(jìn)行了固定，使之相對(duì)基座1009不移動(dòng)。載物臺(tái)1007具 備Y軸方向驅(qū)動(dòng)馬達(dá)1003。Y軸方向驅(qū)動(dòng)馬達(dá)1003是步進(jìn)馬達(dá)等，若從控制裝置CONT 供給了 Y軸方向的驅(qū)動(dòng)信號(hào)，則使載物臺(tái)1007按Y軸方向進(jìn)行移動(dòng)。
控制裝置CONT給液滴排出頭1001供給液滴的排出控制用電壓。另外，給X軸 方向驅(qū)動(dòng)馬達(dá)1002供給控制液滴排出頭1001的X軸方向移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)脈沖信號(hào)、給Y軸 方向驅(qū)動(dòng)馬達(dá)1003供給控制載物臺(tái)1007的Y軸方向移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)脈沖信號(hào)。
清洗機(jī)構(gòu)1008用來(lái)清洗液滴排出頭1001。在清洗機(jī)構(gòu)1008中，具備未圖示的 Y軸方向驅(qū)動(dòng)馬達(dá)。通過(guò)該Y軸方向驅(qū)動(dòng)馬達(dá)的驅(qū)動(dòng)，清洗機(jī)構(gòu)沿著Y軸方向?qū)蜉S 1005進(jìn)行移動(dòng)。清洗機(jī)構(gòu)1008的移動(dòng)也由控制裝置CONT進(jìn)行控制。
加熱器1015在此是通過(guò)燈退火對(duì)工件W進(jìn)行熱處理的機(jī)構(gòu)，實(shí)施工件W上所 配置的功能液中所包含的溶媒的蒸發(fā)及干燥。該加熱器1015的電源接通及斷開(kāi)也由控制 裝置CONT進(jìn)行控制。
液滴排出裝置IJ 一邊使液滴排出頭1001和支撐工件W的載物臺(tái)1007相對(duì)地進(jìn) 行掃描，一邊對(duì)工件W，從在液滴排出頭1001的下側(cè)的面按X軸方向所排列的多個(gè)排出 噴嘴排出液滴。
圖8是表示采用壓電方式的功能液排出原理的模式圖。在圖8中，與收置功能液 的液體室1021相鄰，設(shè)置壓電元件1022。對(duì)液體室1021，通過(guò)包括材料儲(chǔ)存罐的液體 材料供給系統(tǒng)1023供給功能液，該材料儲(chǔ)存罐收置功能液。壓電元件1022連接在驅(qū)動(dòng) 電路IOM上，通過(guò)該驅(qū)動(dòng)電路IOM對(duì)壓電元件1022施加電壓，使壓電元件1022產(chǎn)生變 形，以此使得液體室1021發(fā)生變形，從排出噴嘴1025排出功能液。此時(shí)，通過(guò)使施加電壓的值產(chǎn)生變化，來(lái)控制壓電元件1022的變形量。另外，通過(guò)使施加電壓的頻率產(chǎn)生 變化，來(lái)控制壓電元件1022的變形速度。采用壓電方式的液滴排出因?yàn)椴粚?duì)材料加熱， 所以具有不易給材料的組成帶來(lái)影響這樣的優(yōu)點(diǎn)。
這里，返回觸摸面板制造方法的說(shuō)明。圖9及圖10是表示觸摸面板制造方法的工序圖。
首先，在電極成膜工序SlO中，在玻璃基板1上，形成X電極10(島狀電極部 12、橋接布線11)、島狀電極部22以及構(gòu)成引繞布線60—部分的第1導(dǎo)電膜60a。作為 形成方法，例如可以使用光刻法來(lái)形成。具體而言，采用濺射法等在玻璃基板1的一方 的面Ia大致整面形成ITO膜之后，通過(guò)使用光刻法及蝕刻法對(duì)ITO膜進(jìn)行圖形形成，來(lái) 形成X電極10 (島狀電極部12、橋接布線11)、島狀電極部22以及引繞布線60的第1導(dǎo) 電膜60a。還有，作為除光刻法以外的方法，還可以使用圖7所示的液滴排出裝置IJ，采 用噴墨法來(lái)形成。例如，將包含ITO微粒的功能液作為液滴進(jìn)行排出，在玻璃基板1上 涂敷功能液。隨后，通過(guò)使玻璃基板1上所涂敷的功能液(液滴)干燥、固化，在玻璃 基板1上，形成由ITO微粒的集合體構(gòu)成的X電極10(島狀電極部12、橋接布線11)、 島狀電極部22以及構(gòu)成引繞布線60 —部分的第1導(dǎo)電膜60a。
還有，在本實(shí)施方式的電極成膜工序SlO中，雖然通過(guò)排出含有ITO微粒的液 滴，形成了 ITO膜，但是除此之外，也可以使用含有IZO(注冊(cè)商標(biāo))微粒的液滴，來(lái)形 成包含IZO (注冊(cè)商標(biāo))的透明導(dǎo)電膜。
接下來(lái)，進(jìn)行到第2導(dǎo)電膜形成工序幻0。首先，在第2導(dǎo)電膜形成工序S20的 清洗工序S20a中，清洗在玻璃基板1上形成有第1導(dǎo)電膜60a后的基體材料1'。作為 清洗方法，例如可以通過(guò)UV清洗、等離子體清洗、HF(氫氟酸)清洗等進(jìn)行。這里， 基體材料1'清洗后的玻璃基板1對(duì)水的接觸角大約為10°以下，第1導(dǎo)電膜60a對(duì)水的 接觸角也大約為10°以下。也就是說(shuō)，基體材料1'的表面整個(gè)區(qū)域?yàn)橛H水化區(qū)域。
接著，在表面處理過(guò)程MOb中，使用圖6所示的表面處理裝置900，通過(guò)利用氣 體擴(kuò)散法的HMDS處理對(duì)基體材料1'的表面進(jìn)行表面處理。還有，在本實(shí)施方式中， 要使用作為表面處理劑的六甲基二硅氮烷((CH3)3SiNHSi(CH3)3)910。具體而言，在收置 容器930的內(nèi)部，設(shè)置儲(chǔ)存了六甲基二硅氮烷910的碟形容器920，并且在碟形容器920 的上方設(shè)置基體材料1'。然后，將收置容器930維持為密閉狀態(tài)，在使六甲基二硅氮烷 910氣化了的氣體氣氛內(nèi)讓基體材料1'曝露。
基體材料1'的表面處理?xiàng)l件可以考慮基體材料1'的構(gòu)成和/或此后要涂敷的 功能液的性質(zhì)等，適當(dāng)設(shè)定。這里，對(duì)于表面處理?xiàng)l件舉出具體例進(jìn)行說(shuō)明。圖11是 基體材料的接觸角的測(cè)定數(shù)據(jù)。同圖(a)是在橫軸上取表面處理時(shí)間h，在縱軸上取接 觸角Θ，表示出玻璃基板1表面對(duì)水的接觸角θ及第1導(dǎo)電膜60a表面對(duì)水的接觸角θ 的測(cè)定數(shù)據(jù)。同圖(b)是在橫軸上取表面處理時(shí)間h，在縱軸上取接觸角θ，表示出玻 璃基板1表面對(duì)功能液的接觸角θ及第1導(dǎo)電膜60a表面對(duì)功能液的接觸角θ的測(cè)定數(shù) 據(jù)。這里，表面處理中的六甲基二硅氮烷910是在常溫(大約20 25°C)下使之氣化 后的狀態(tài)。另外，功能液是包含分散有銀微粒的水系分散介質(zhì)的液狀材料。如圖11(a) 所示，玻璃基板1表面對(duì)水的接觸角θ從表面處理開(kāi)始在20分鐘左右急劇地增大，在表 面處理時(shí)間為3分鐘之時(shí)達(dá)到50°以上。然后，若表面處理時(shí)間到了 20分鐘以后，則逐漸增大。另一方面，第1導(dǎo)電膜60a表面對(duì)水的接觸角θ雖然從表面處理開(kāi)始在10分 鐘左右急劇地增大，但是被抑制在大約25°以下。從而，從同圖(a)判明，通過(guò)表面處 理(HMDS處理)，在同一時(shí)期形成疏水力強(qiáng)的區(qū)域(玻璃基板1的表面)和疏水力弱的 區(qū)域(第1導(dǎo)電膜60a)的反差。
另外，如圖11(b)所示，玻璃基板1表面對(duì)功能液的接觸角θ從表面處理開(kāi)始 在10分鐘左右急劇地增大，在表面處理時(shí)間為3分鐘之時(shí)達(dá)到40°以上。然后，若表面 處理時(shí)間到了 10分鐘以后，則逐漸增大。另一方面，第1導(dǎo)電膜60a表面對(duì)功能液的接 觸角θ雖然從表面處理開(kāi)始在10分鐘左右急劇地增大，但是被抑制在大約30°以下。 從而，從同圖(b)也判明，通過(guò)表面處理(HMDS處理)，在同一時(shí)期形成疏水力強(qiáng)的區(qū) 域(玻璃基板1的表面)和疏水力弱的區(qū)域(第1導(dǎo)電膜60a)。
上面，通過(guò)圖11所示的測(cè)定以數(shù)據(jù)為參考，本實(shí)施方式中基體材料Γ的表面 處理?xiàng)l件使六甲基二硅氮烷910在常溫下氣化，基體材料1'的曝露時(shí)間設(shè)為3 15分鐘 左右。還有，既可以相應(yīng)于加工狀況，例如將表面處理?xiàng)l件的基體材料1'的曝露時(shí)間設(shè) 為3分鐘以?xún)?nèi)，也可以設(shè)為15分鐘以上(60分鐘以?xún)?nèi))。
接下來(lái)，進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明表面處理中基體材料1'的表面狀態(tài)。圖12是表示基 體材料表面處理狀態(tài)的模式圖。同圖(a)表示出，表面處理前(清洗工序S20a后)玻璃 基板1的表面狀態(tài)。在該狀態(tài)下，玻璃基板1的表面存在多個(gè)羥基(-OH)，對(duì)水具有親 水性。從而，如同圖(b)所示，玻璃基板1對(duì)水的接觸角θ大致為10°以下。另外， 關(guān)于第1導(dǎo)電膜60a的表面，也和玻璃基板1的表面狀態(tài)相同，具有親水性，第1導(dǎo)電膜 60a對(duì)水的接觸角大致為10°以下。這里，接觸角θ在大氣(空氣)中，相對(duì)于處于固 體表面(在本實(shí)施方式中是玻璃基板1的表面、第1導(dǎo)電膜60a的表面)的液體(在本實(shí) 施方式中是水滴)，將從氣相、液相、固相3相的接點(diǎn)引出的液體的切線和固體表面所形 成的液體側(cè)的角度，定義為相對(duì)該固體的、該液體的接觸角θ。從而，接觸角越小，水 滴越向玻璃基板1的面浸潤(rùn)擴(kuò)展，也就是說(shuō)表現(xiàn)出親水性，接觸角越大，水滴越是排斥 玻璃基板1的面，也就是說(shuō)表現(xiàn)出疏水性。
圖12(c)表示出表面處理后玻璃基板1的表面狀態(tài)。如同圖(C)所示，六甲基 二硅氮烷910和玻璃基板1表面的水分(-ΟΗ)發(fā)生反應(yīng)，使之產(chǎn)生氨(NH3)。然后，玻 璃基板1的表面被三甲基甲硅烷基化(Ii(CH3)3)。也就是說(shuō)，玻璃基板1的表面被進(jìn)行 疏水化處理。從而，如同圖(d)所示，與表面處理前相比，玻璃基板1對(duì)水的接觸角θ 增大，大致為50°以上。另一方面，因?yàn)楹偷?導(dǎo)電膜60a表面之間的反應(yīng)較慢，所以 被實(shí)施與玻璃基板1的疏水力相比較弱的疏水化處理。也就是說(shuō)，被實(shí)施弱疏水化處理 (保持親水力)。具體而言，第1導(dǎo)電膜60a對(duì)水的接觸角大致為25°以下。這樣，就 可以通過(guò)該表面處理工序S20b，在一個(gè)基體材料Γ，在同一時(shí)期形成疏水力強(qiáng)的區(qū)域 (玻璃基板1的表面區(qū)域)和疏水力弱的區(qū)域(第1導(dǎo)電膜60a的表面區(qū)域)。
還有，在本實(shí)施方式中，雖然作為表面處理劑使用了六甲基二硅氮烷910， 但是除此之外，例如還可以使用三甲基甲氧基硅烷(CHJi(OCH3)3)、三甲基氯硅烷 ((CH3)3SiCl)等的硅烷化合物。另外，在本實(shí)施方式中，雖然作為HMDS處理使用了 氣體擴(kuò)散法，但是除此之外，例如也可以使用發(fā)泡法(bubbling)，該發(fā)泡法向儲(chǔ)存液體狀 HMDS的儲(chǔ)存箱內(nèi)吹入氮?dú)馐怪l(fā)泡，令其產(chǎn)生HMDS蒸汽，將該HMDS蒸汽噴射于基體材料。
接著，在涂敷工序MOc中，在第1導(dǎo)電膜60a上，涂敷包含水系分散介質(zhì)的功 能液，該水系分散介質(zhì)分散有作為第2導(dǎo)電膜60b的材料的金屬微粒。作為第2導(dǎo)電膜 60b的金屬材料，要使用與第1導(dǎo)電膜60a相比電阻率較低的材料。例如，可以使用包 含銀微粒的金屬材料。還有，作為形成第2導(dǎo)電膜60b的其他材料，除了包含銀微粒的 材料之外，例如可以使用包含Au、Al、Cu、Pd等金屬微粒的材料和/或者包含石墨和/ 或碳納米管的材料。金屬微粒和/或碳微粒以納米微粒和/或納米線的形態(tài)分散于功能 液中。
圖13是表示涂敷工序MOc中的功能液涂敷狀態(tài)的模式圖。如同圖(a)所示，在 本實(shí)施方式中，使用液滴排出裝置IJ，將功能液作為液滴D進(jìn)行排出，在第1導(dǎo)電膜60a 上涂敷功能液。具體而言，通過(guò)一邊使載物臺(tái)1007和液滴排出頭1001相對(duì)地移動(dòng)，一 邊對(duì)液滴排出頭1001進(jìn)行排出驅(qū)動(dòng)，使之排出液滴D，令液滴D附著于第1導(dǎo)電膜60a 上。此時(shí)，要考慮第1導(dǎo)電膜60a的布線寬度或者第1導(dǎo)電膜60a的表面狀態(tài)，適當(dāng)設(shè) 定液滴D的液滴量。還有，如圖11所示，玻璃基板1相對(duì)功能液(液滴D)的接觸角θ 大致是40°以上。另一方面，第1導(dǎo)電膜60a相對(duì)功能液(液滴D)的接觸角θ大致是 30°以下。和相對(duì)水的接觸角相同，對(duì)于功能液，也通過(guò)表面處理工序％0b，保持疏水 力強(qiáng)的區(qū)域(玻璃基板1的表面區(qū)域)和疏水力弱的區(qū)域(第1導(dǎo)電膜60a的表面區(qū)域) 之間的反差。
同圖(b)是對(duì)液滴D附著到第1導(dǎo)電膜60a上的液滴點(diǎn)Da的狀態(tài)進(jìn)行俯視的模 式圖。從液滴排出頭1001所排出的液滴D附著于第1導(dǎo)電膜60a上，附著后的液滴點(diǎn) Da在第1導(dǎo)電膜60a上浸潤(rùn)擴(kuò)展。另外，在涂敷工序S20c中，要以下述方式多次排出 液滴D，該方式為，使得第1導(dǎo)電膜60a上所涂敷的液滴點(diǎn)Da和相鄰的其他液滴點(diǎn)Da進(jìn) 行接觸。液滴點(diǎn)Da如同圖(b)所示，相鄰的液滴點(diǎn)Da彼此相連為念珠狀，第1導(dǎo)電膜 60a上所涂敷的液體狀態(tài)的液面在俯視時(shí)具有凹凸形狀。還有，涂敷了的液滴點(diǎn)Da雖然 在第1導(dǎo)電膜60a上浸潤(rùn)擴(kuò)展，但是不浸潤(rùn)擴(kuò)展到玻璃基板1的表面。其原因?yàn)椋驗(yàn)?玻璃基板1的表面被進(jìn)行過(guò)疏水化處理，所以在其和第1導(dǎo)電膜60a之間的邊界部分處， 液滴點(diǎn)Da的浸潤(rùn)擴(kuò)展被限制。還有，在涂敷工序S20c中，要考慮將要形成的第2導(dǎo)電 膜60b的膜厚度，適當(dāng)調(diào)整涂敷量(液滴排出量)。
接著，在放置工序MOd中，放置涂敷有功能液后的基體材料1'。例如，在常 溫下放置1 10分鐘左右。圖13(c)是表示放置后液體狀態(tài)的模式圖。如同圖(C)所 示，第1導(dǎo)電膜60a上所涂敷的功能液成為與第1導(dǎo)電膜60a的圖形形狀相仿的液體狀 態(tài)。也就是說(shuō)，從具有圖13(b)所示的凹凸形狀的液體狀態(tài)，變化為與第1導(dǎo)電膜60a的 圖形形狀相仿的液體狀態(tài)。在本實(shí)施方式中，變化為與第1導(dǎo)電膜60a的直線狀圖形形 狀相仿的液體狀態(tài)。這是因?yàn)樵诰哂袌D13(b)所示的凹凸形狀的液體狀態(tài)下，連接液滴 點(diǎn)Da彼此的凹部，由于第1導(dǎo)電膜60a的表面被進(jìn)行過(guò)弱疏水化(親水化)，所以按第1 導(dǎo)電膜60a的布線寬度方向進(jìn)行浸潤(rùn)擴(kuò)展。另一方面，關(guān)于凸部，由于玻璃基板1的表 面被進(jìn)行過(guò)強(qiáng)疏水化處理，所以在第1導(dǎo)電膜60a與玻璃基板1之間的邊界部分處功能液 被排斥，被排斥的功能液向第1導(dǎo)電膜60a側(cè)進(jìn)行移動(dòng)。通過(guò)這樣進(jìn)行放置，功能液就 以自匹配的形式進(jìn)行移動(dòng)，形成與第1導(dǎo)電膜60a的圖形形狀相仿的液體狀態(tài)。還有，本放置工序S20d因?yàn)榭紤]了第1導(dǎo)電膜60a上所涂敷的功能液的自匹配移動(dòng)時(shí)間，所以 例如在自匹配的移動(dòng)快速完成時(shí)等，也可以省略。
接著，在固化工序MOe中，使涂敷后的功能液固化，來(lái)形成第2導(dǎo)電膜60b。 例如，將基體材料1'按230°C、1個(gè)小時(shí)進(jìn)行加熱并燒制。在固化工序S20e中，涂敷后 的功能液其溶媒部分蒸發(fā)，并且功能液收縮。然后，如圖13(d)所示，在第1導(dǎo)電膜60a 上，形成與第1導(dǎo)電膜60a的膜寬度相比較狹窄的第2導(dǎo)電膜60b。在本實(shí)施方式中，經(jīng) 過(guò)上述工序，以此形成第2導(dǎo)電膜60b，該第2導(dǎo)電膜60b與第1導(dǎo)電膜60a相比膜寬度 較狹窄，且剖面看，在和第1導(dǎo)電膜60a相反方向上具有彎曲成凸?fàn)畹谋砻?。更為詳?xì) 而言，形成從第1導(dǎo)電膜60a的膜寬度方向兩個(gè)端部開(kāi)始各狹窄0.5 5μιη、膜厚度為 0.2 2μιη并且剖視時(shí)端部的角度為0.5 10°的第2導(dǎo)電膜60b。
接著，在絕緣膜形成工序S30中，如圖9(c)所示，在島狀電極部12、22之間的 間隙內(nèi)以填埋X電極10的橋接布線11的方式形成電極間絕緣膜30。另外，還在同一時(shí) 期形成將第2區(qū)域6b的引繞布線60覆蓋的第2保護(hù)膜62。在絕緣膜形成工序S30中， 例如使用液滴排出裝置IJ，將包含絕緣膜的材料(例如，包含聚硅氧烷的液體材料和/或 丙烯酸類(lèi)樹(shù)脂或者丙烯酸單體)的功能液作為液滴D進(jìn)行排出，在上述各區(qū)域上涂敷功 能液。然后，通過(guò)使涂敷后的功能液干燥、固化，來(lái)形成電極間絕緣膜30及第2保護(hù)膜 62。還有，當(dāng)形成電極間絕緣膜30時(shí)，優(yōu)選的是，至少在橋接布線11上的區(qū)域無(wú)間隙 地配置液滴。借此，可以形成沒(méi)有到達(dá)橋接布線11的孔和/或裂紋的電極間絕緣膜30， 能防止電極間絕緣膜30中的絕緣不良和/或橋接布線21的斷線。此時(shí)，交叉部K處的 電極間絕緣膜30因?yàn)楹妥鳛榉指舯诘膷u狀電極部22相接，所以表面張力發(fā)生作用，在使 得兩端側(cè)鼓起的所謂滲出突起得到了抑制的狀態(tài)下和島狀電極部22的上側(cè)的面大致成一 個(gè)面地，被進(jìn)行成膜。
接著，在第1保護(hù)膜形成工序S40中，形成將第1區(qū)域虹的引繞布線60覆蓋的 第1保護(hù)膜61。例如，使用光刻法來(lái)形成第1保護(hù)膜61。還有，因?yàn)樵诓捎霉饪谭ㄟM(jìn) 行了曝光時(shí)，如上所述，第1導(dǎo)電膜60a的表面具有無(wú)凹凸的均等的曲面，所以光暈等漫 反射的發(fā)生得到抑制，可以形成高精度的圖形膜。
接著，進(jìn)行到橋接布線形成工序陽(yáng)0。在橋接布線形成工序S50中，如圖9(d) 所示，跨相鄰所配置的島狀電極部22上和電極間絕緣膜30上，將包含ITO微粒的液體材 料的液滴配置為布線形狀。隨后，使玻璃基板1上的液體材料干燥及固化。借此，形成 連接島狀電極部22彼此的橋接布線21。在橋接布線21的形成時(shí)，因?yàn)槿缟纤觯鳛?基底的交叉部K的電極間絕緣膜30通過(guò)由分隔壁(島狀電極部2 來(lái)劃分輪廓而大致成 一個(gè)面，所以橋接布線21不會(huì)像在基底產(chǎn)生了滲出突起時(shí)那樣彎曲，而形成為直線狀。 還有，作為橋接布線21的形成所使用的液體材料，除了上述包含ITO微粒的液體材料之 外，還可以采用包含IZO (注冊(cè)商標(biāo))微粒和/或ZnO微粒的液體材料，來(lái)形成。
在橋接布線形成工序S50中，優(yōu)選的是，使用和電極成膜工序SlO相同的液體材 料來(lái)形成橋接布線21。也就是說(shuō)，在橋接布線21的構(gòu)成材料中，優(yōu)選的是，使用和X 電極10和/或島狀電極部22的構(gòu)成材料相同的材料。
接著，進(jìn)行到平坦化膜形成工序S60。在平坦化膜形成工序S60中，如圖10(a) 所示，以使玻璃基板1的一方的面Ia平坦化為目的，將包含絕緣材料的平坦化膜40形成于一方的面Ia的大致整面。平坦化膜40雖然可以使用和在絕緣膜形成工序S30中所使 用的電極間絕緣膜30形成用的液體材料相同的液體材料來(lái)形成，但是因?yàn)橐圆ＡЩ? 表面的平坦化為目的，所以?xún)?yōu)選的是，使用樹(shù)脂材料來(lái)形成。
接著，進(jìn)行到保護(hù)基板接合工序S70。在保護(hù)基板接合工序S70中，如圖10(b) 所示，在另行準(zhǔn)備的保護(hù)基板50和平坦化膜40之間配置粘接劑，通過(guò)由此粘接劑形成的 粘接層51來(lái)粘合保護(hù)基板50和平坦化膜40。保護(hù)基板50除了由玻璃和/或塑料等形成 的透明基板之外，也可以是偏振板和/或相位差板等的光學(xué)元件基板。作為構(gòu)成粘接層 51的粘接劑，可以使用透明的樹(shù)脂材料等。
接著，進(jìn)行到屏蔽層形成工序S80。在屏蔽層形成工序S80中，如圖10(c)所 示，在玻璃基板1的另一方的面Ib (和一方的面Ia相反側(cè)的面)形成由導(dǎo)電膜所構(gòu)成的 屏蔽層70。屏蔽層70可以采用真空成膜法、網(wǎng)板印刷法、膠印(offset)法、液滴排出法 等眾所周知的成膜法來(lái)形成。例如在采用液滴排出法等的印刷法來(lái)形成屏蔽層70時(shí)，可 以使用在電極成膜工序SlO及橋接布線形成工序陽(yáng)0中使用的包含ITO微粒等的液體材 料。另外，除了通過(guò)對(duì)玻璃基板1的成膜來(lái)形成屏蔽層70的方法之外，也可以另行準(zhǔn)備 在一面或兩面成膜有導(dǎo)電膜的膜，通過(guò)將此膜與玻璃基板1的另一方的面Ib貼合來(lái)將膜 上的導(dǎo)電膜作為屏蔽層70。
還有，在本實(shí)施方式中，雖然設(shè)為將屏蔽層70在觸摸面板制造過(guò)程的最后實(shí) 施，但是屏蔽層70可以按任意的定時(shí)形成。例如，也可以將預(yù)先形成有屏蔽層70的玻 璃基板1供給電極成膜工序SlO以后的工序。另外，也可以在電極成膜工序SlO 保護(hù) 基板接合工序S70為止的任意工序之間配置屏蔽層形成過(guò)程。
另外，在本實(shí)施方式中，雖然在玻璃基板1的另一方的面Ib形成了屏蔽層70， 但是要在玻璃基板1的一方的面Ia側(cè)形成屏蔽層70A時(shí)，要在電極成膜工序SlO之前， 執(zhí)行形成屏蔽層70A的工序和形成絕緣膜的工序。這種情況下，屏蔽層70A也可以采用 和屏蔽層形成工序S80相同的方法來(lái)形成。另外，絕緣膜的形成工序例如可以和絕緣膜 形成工序S30相同。
(電光裝置的構(gòu)成)
下面，說(shuō)明電光裝置的構(gòu)成。還有，在本實(shí)施方式中，將對(duì)于作為電光裝置 的、具備上述觸摸面板100的液晶顯示裝置的構(gòu)成，進(jìn)行說(shuō)明。圖14表示液晶顯示裝置 的構(gòu)成，同圖(a)是俯視圖，同圖(b)是(a)的俯視圖中的H-H'剖面圖。
如圖14(a)所示，液晶顯示裝置500具有元件基板410、對(duì)向基板420及圖像顯 示區(qū)域410a。元件基板410是一種矩形狀的基板，具有比對(duì)向基板420寬的平面區(qū)域。 對(duì)向基板420是液晶顯示裝置500的圖像顯示側(cè)，是由玻璃和/或丙烯酸樹(shù)脂等形成的透 明基板。對(duì)向基板420通過(guò)密封件452接合到元件基板410的中央部。圖像顯示區(qū)域 410a是對(duì)向基板420的平面區(qū)域，是沿著密封件452的內(nèi)周所設(shè)置的周邊分隔構(gòu)件453的 內(nèi)側(cè)區(qū)域。
在元件基板410的對(duì)向基板420的周邊，配置數(shù)據(jù)線驅(qū)動(dòng)電路401、掃描線驅(qū)動(dòng) 電路404、與數(shù)據(jù)線驅(qū)動(dòng)電路401及掃描線驅(qū)動(dòng)電路404連接的連接端子402以及連接相 對(duì)于對(duì)向基板420相對(duì)向所配置的掃描線驅(qū)動(dòng)電路404彼此的布線405等。
接下來(lái)，說(shuō)明液晶顯示裝置500的剖面。在元件基板410的液晶層450側(cè)的面，疊層像素電極409及取向膜418等。在對(duì)向基板420的液晶層450側(cè)的面，疊層遮光膜 (黑矩陣)423、濾色器422、共用電極425及取向膜4 等。液晶層450由元件基板410 和對(duì)向基板420來(lái)夾持。而且，在對(duì)向基板420外側(cè)(液晶層450相反側(cè))的面，夾著 粘接層101來(lái)配置本發(fā)明的觸摸面板100。
(電子設(shè)備的構(gòu)成)
下面，說(shuō)明電子設(shè)備的構(gòu)成。還有，在本實(shí)施方式中，將對(duì)于作為電子設(shè)備 的、裝載了上述觸摸面板或者具備觸摸面板的液晶顯示裝置的便攜式個(gè)人計(jì)算機(jī)的構(gòu) 成，進(jìn)行說(shuō)明。圖15是表示便攜式個(gè)人計(jì)算機(jī)構(gòu)成的立體圖。便攜式個(gè)人計(jì)算機(jī)1100 具備顯示部1101和具有鍵盤(pán)1102的主體部1103。便攜式個(gè)人計(jì)算機(jī)1100在顯示部1101 具備上述實(shí)施方式的液晶顯示裝置500。根據(jù)具備這種構(gòu)成的便攜式個(gè)人計(jì)算機(jī)1100， 由于本發(fā)明的觸摸面板被使用到顯示部，因而可以形成為抑制了制造成本的電子設(shè)備。
還有，上述電子設(shè)備用來(lái)示例本發(fā)明的電子設(shè)備，并不用來(lái)限定本發(fā)明的技術(shù) 范圍。例如，在便攜電話機(jī)、便攜式音頻設(shè)備、PDA (Personal Digital Assistant，個(gè)人數(shù) 字助理)等的顯示部中也可以?xún)?yōu)選地使用本發(fā)明所涉及的觸摸面板。
上面，一邊參照附圖一邊說(shuō)明了本發(fā)明所涉及的最佳實(shí)施方式，但是不言而 喻，本發(fā)明不限定為有關(guān)的例子。在上述例子中所示的各構(gòu)成部件的各種形狀和/或組 合等是一例，可以在不脫離本發(fā)明宗旨的范圍內(nèi)根據(jù)設(shè)計(jì)要求等進(jìn)行各種變更。
從而，根據(jù)上述實(shí)施方式，具有下面所示的效果。
(1)在第1導(dǎo)電膜60a上具備第2導(dǎo)電膜60b，該第2導(dǎo)電膜60b具有與第1導(dǎo)電 膜60a的膜寬度Wl相比較狹窄的膜寬度W2。再者，第2導(dǎo)電膜60b其形狀為，具有彎 曲成凸?fàn)畹谋砻?。通過(guò)形成這種層疊結(jié)構(gòu)，第2導(dǎo)電膜60b具有不與玻璃基板1接觸、 并且不覆蓋到第1導(dǎo)電膜60a的端部的形態(tài)，所以可以抑制因應(yīng)力等導(dǎo)致的膜剝離等的發(fā) 生。再者，還可以抑制因應(yīng)力等導(dǎo)致的裂紋等發(fā)生。
(2)設(shè)置膜厚度為0.2 2μιη，且剖視時(shí)端部的角度具有0.5 10°的第2導(dǎo)電 膜60b。借此，可以進(jìn)一步抑制膜的剝離和/或裂紋等，能夠提供可靠性高的觸摸面板。 另外，在和覆蓋第1及第2導(dǎo)電膜60a、60b的第1保護(hù)膜61之間的關(guān)系上，例如當(dāng)采用 光刻法形成第1保護(hù)膜61時(shí)，在曝光了時(shí)，第2導(dǎo)電膜60b上漫反射的發(fā)生(光暈)得 到抑制。因此，可以提供具有高精細(xì)層疊圖形的觸摸面板100。
(1)使用六甲基二硅氮烷910，實(shí)施了在玻璃基板1上形成了第1導(dǎo)電膜60a后 的基體材料1'的表面處理。于是，六甲基二硅氮烷910和玻璃基板1表面的水分發(fā)生反 應(yīng)，使得玻璃基板1的表面被三甲基甲硅烷基化。也就是說(shuō)，玻璃基板1的表面被進(jìn)行 疏水化處理。另一方面，因?yàn)楹偷?導(dǎo)電膜60a的表面之間的反應(yīng)較慢，所以疏水力弱。 也就是說(shuō)，第1導(dǎo)電膜60a的表面保持親水力。從而，通過(guò)實(shí)施上述表面處理，就可以 在同一時(shí)期且有選擇地形成疏水化區(qū)域和親水化區(qū)域。因此，可以使制造過(guò)程簡(jiǎn)化。而 且，朝向第1導(dǎo)電膜60a上，將包含分散有第2導(dǎo)電膜60b的材料的水系分散介質(zhì)的功能 液作為液滴進(jìn)行排出，使得在第1導(dǎo)電膜60a上涂敷功能液。因?yàn)榈?導(dǎo)電膜60a的表 面具有弱疏水性(親水性)，所以涂敷后的功能液在第1導(dǎo)電膜60a上浸潤(rùn)擴(kuò)展。另一方 面，因?yàn)椴ＡЩ?的表面具有疏水性，所以功能液向玻璃基板1側(cè)的浸潤(rùn)擴(kuò)展被限制。 從而，可以相應(yīng)于第1導(dǎo)電膜60a的圖形形狀，使功能液浸潤(rùn)擴(kuò)展。然后，通過(guò)使功能液固化，就可以在第1導(dǎo)電膜60a上形成下述形狀的第2導(dǎo)電膜60b，該形狀具有與第1 導(dǎo)電膜60a的膜寬度Wl相比較狹窄的膜寬度W2。然后，可以按比采用光刻法的圖形膜 形成良好的精度形成第2導(dǎo)電膜60b。因此，可以實(shí)施微細(xì)的導(dǎo)電膜形成。
還有，并不限定為上述實(shí)施方式，可舉出如下的變形例。
(變形例1)在上述實(shí)施方式中，作為導(dǎo)電膜層疊部件，舉出觸摸面板100為例進(jìn) 行了說(shuō)明，但是不限定于此，例如，除此之外，也可以用于液晶顯示器、等離子體顯示 器、有機(jī)EL顯示器及FED (場(chǎng)放射顯示器)等離子體顯示器等中。即便這樣，仍可以獲 得和上面相同的效果。
權(quán)利要求
1.一種導(dǎo)電膜層疊部件，其特征為， 具有第1導(dǎo)電膜，其形成于基板上；和 第2導(dǎo)電膜，其形成于上述第1導(dǎo)電膜上；上述第2導(dǎo)電膜的膜寬度比上述第1導(dǎo)電膜的膜寬度窄，并且上述第2導(dǎo)電膜剖面 看，在與上述第1導(dǎo)電膜相反方向上具有彎曲成凸?fàn)畹谋砻妗?br> 2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電膜層疊部件，其特征為，上述第2導(dǎo)電膜的膜寬度從上述第1導(dǎo)電膜的膜寬度方向上的兩個(gè)端部開(kāi)始各收窄 0.5 5 μ m。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的導(dǎo)電膜層疊部件，其特征為，上述第2導(dǎo)電膜的厚度是0.2 2μιη，并且上述第2導(dǎo)電膜的剖面看的端部的角度 是 0.5 10°。
4.根據(jù)權(quán)利要求1 3中任一項(xiàng)所述的導(dǎo)電膜層疊部件，其特征為， 上述第1導(dǎo)電膜是具有透明性的導(dǎo)電膜，上述第2導(dǎo)電膜是包含銀的導(dǎo)電膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求1 4中任一項(xiàng)所述的導(dǎo)電膜層疊部件，其特征為， 具有形成于上述第1導(dǎo)電膜及上述第2導(dǎo)電膜上的保護(hù)膜，具備3層層疊部，其由上述第1導(dǎo)電膜、形成于上述第1導(dǎo)電膜上的上述第2導(dǎo)電膜和形 成于上述第2導(dǎo)電膜上的上述保護(hù)膜疊層而成；和2層層疊部，其是上述第1導(dǎo)電膜的膜寬度方向的端部，由上述第1導(dǎo)電膜和形成于 上述第1導(dǎo)電膜上的上述保護(hù)膜疊層而成。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的導(dǎo)電膜層疊部件，其特征為， 上述第1導(dǎo)電膜和上述保護(hù)膜是相同的材料。
7.根據(jù)權(quán)利要求1 6中任一項(xiàng)所述的導(dǎo)電膜層疊部件，其特征為，上述第2導(dǎo)電膜，通過(guò)在上述基板的表面實(shí)施疏水化處理，并且在上述第1導(dǎo)電膜的 表面實(shí)施比上述基板的疏水力弱的疏水化處理，并在上述第1導(dǎo)電膜上涂敷包含上述第2 導(dǎo)電膜的材料的液狀材料，來(lái)形成。
8.—種電光裝置，其特征為，具備權(quán)利要求1 7中任一項(xiàng)所述的導(dǎo)電膜層疊部件。
9.一種電子設(shè)備，其特征為， 具備權(quán)利要求8所述的電光裝置。
全文摘要
本發(fā)明提供高精細(xì)及高品質(zhì)的導(dǎo)電膜層疊部件、電光裝置及電子設(shè)備。本發(fā)明的導(dǎo)電膜層疊部件具有第1導(dǎo)電膜，形成于基板上；和第2導(dǎo)電膜，形成于上述第1導(dǎo)電膜上；上述第2導(dǎo)電膜與上述第1導(dǎo)電膜相比寬度較狹窄，且上述第2導(dǎo)電膜剖面看，是在與上述第1導(dǎo)電膜相反方向上具有彎曲成凸?fàn)畹谋砻娴男螤睢?br> 文檔編號(hào)G06F3/041GK102023746SQ20101028710
公開(kāi)日2011年4月20日 申請(qǐng)日期2010年9月15日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月15日
發(fā)明者岡本英司, 平井利充, 石田纮平 申請(qǐng)人:精工愛(ài)普生株式會(huì)社