專利名稱：計(jì)算機(jī)用支撐架體及計(jì)算機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及計(jì)算機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，尤其是指一種計(jì)算機(jī)用支撐架體及計(jì)算機(jī)。
背景技術(shù)：
為了避免用戶受計(jì)算機(jī)電磁輻射的危害，以及避免計(jì)算機(jī)內(nèi)各元部件之間電磁 輻射的互干擾，通常計(jì)算機(jī)機(jī)箱內(nèi)都需要安裝多個(gè)抗電磁干擾(EMI，Electro Magnetic Interference)彈片，用來屏蔽掉電磁輻射。在計(jì)算機(jī)機(jī)箱內(nèi)，有時(shí)需要設(shè)置多個(gè)硬盤，為節(jié)省空間，通常是多個(gè)硬盤上下疊加 在一起，圖1為現(xiàn)有計(jì)算機(jī)多個(gè)硬盤架的疊加結(jié)構(gòu)，每一硬盤架1內(nèi)裝設(shè)有一硬盤。如圖1， 為了避免各硬盤架1之間的電磁輻射對(duì)硬盤產(chǎn)生干擾，每一硬盤架1上均設(shè)置有一 EMI彈 片2，通過EMI彈片2填充上、下設(shè)置的硬盤架1之間的空隙，將各硬盤架之間的電磁輻射屏 蔽在外。然而，在對(duì)上述設(shè)置方式的硬盤進(jìn)行熱插拔操作時(shí)，將其中一硬盤架相對(duì)于其他 硬盤架移出的過程中，由于上方硬盤架的EMI彈片相對(duì)于硬盤架底面始終處于突出狀態(tài)， 因此很容易劃傷下方硬盤的表面。目前，上述問題已日益得到本領(lǐng)域技術(shù)人員的關(guān)注，并試圖希望通過調(diào)整EMI彈 片的厚度和彈性的方式，來解決該問題，但該種方法只能盡可能的降低硬盤劃傷程度，卻不 能從根本上解決計(jì)算機(jī)硬盤易劃傷的問題。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型技術(shù)方案的目的是提供一種計(jì)算機(jī)用支撐架體及計(jì)算機(jī)，支撐架體上 的抗電磁干擾(EMI)彈片采用可活動(dòng)結(jié)構(gòu)形式，不會(huì)對(duì)設(shè)置于支撐架體內(nèi)的元部件產(chǎn)生劃 傷。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供一種計(jì)算機(jī)用支撐架體，所述支撐架體包括架體本體，包括第一表面；多個(gè)金屬?gòu)椘顒?dòng)地設(shè)置于所述第一表面，且具有第一位置和第二位置，在所述 第一位置時(shí)，所述金屬?gòu)椘钩鲇谒龅谝槐砻?；在所述第二位置時(shí)，所述金屬?gòu)椘挥谒?述第一表面內(nèi)，或者凸出于所述第一表面的高度小于在所述第一位置時(shí)凸出于所述第一表 面的高度。優(yōu)選地，上述所述的支撐架體，所述金屬?gòu)椘牡谝欢丝赊D(zhuǎn)動(dòng)地與所述第一表面 連接，第二端為自由端，所述第一端相對(duì)于所述第一表面來回轉(zhuǎn)動(dòng)，所述金屬?gòu)椘谒龅?一位置和所述第二位置之間動(dòng)作。優(yōu)選地，上述所述的支撐架體，所述第一端鉤設(shè)于所述第一表面上。優(yōu)選地，上述所述的支撐架體，所述架體本體還包括一第二表面，所述第二表面與 所述第一表面相對(duì)，在所述第二表面上，與所述金屬?gòu)椘鄬?duì)的位置設(shè)置有一磁性元件。本實(shí)用新型另一方面提供一種計(jì)算機(jī)，包括[0014]主機(jī)機(jī)箱；硬盤；用于裝設(shè)所述硬盤的支撐架體，插設(shè)于所述主機(jī)機(jī)箱內(nèi)，所述支撐架體包括架體 本體，包括第一表面；多個(gè)金屬?gòu)椘顒?dòng)地設(shè)置于所述第一表面，且具有第一位置和第二 位置，在所述第一位置時(shí)，所述金屬?gòu)椘钩鲇谒龅谝槐砻妫辉谒龅诙恢脮r(shí)，所述金 屬?gòu)椘挥谒龅谝槐砻鎯?nèi)，或者凸出于所述第一表面的高度小于在所述第一位置時(shí)凸出 于所述第一表面的高度。優(yōu)選地，上述所述的計(jì)算機(jī)，所述金屬?gòu)椘牡谝欢丝赊D(zhuǎn)動(dòng)地與所述第一表面連 接，第二端為自由端，所述第一端相對(duì)于所述第一表面來回轉(zhuǎn)動(dòng)，在所述第一位置時(shí)所述第 二端凸出所述第一表面，在所述第二位置時(shí)所述第二端位于所述第一表面內(nèi)。優(yōu)選地，上述所述的計(jì)算機(jī)，所述第一端鉤設(shè)于所述第一表面的柱體上。優(yōu)選地，上述所述的計(jì)算機(jī)，所述架體本體還包括一第二表面，所述第二表面與所 述第一表面相對(duì)，在所述第二表面上，與所述金屬?gòu)椘鄬?duì)的位置設(shè)置有一磁性元件。優(yōu)選地，上述所述的計(jì)算機(jī)，所述支撐架體至少為兩個(gè)，包括第一支撐架體和第二 支撐架體，所述第一支撐架體疊加放置于所述第二支撐架體之上。優(yōu)選地，上述所述的計(jì)算機(jī)，所述第一支撐架體的所述磁性元件吸附所述第二支 撐架體的所述金屬?gòu)椘?，所述第二支撐架體的所述金屬?gòu)椘瑥乃龅诙恢脛?dòng)作至位于所 述第一位置；所述第一支撐架體從所述第二支撐架體上移開，所述第二支撐架體的所述金 屬?gòu)椘瑥乃龅谝晃恢脛?dòng)作至位于所述第二位置，所述第一支撐架體的所述磁性元件與所 述第二支撐架體的所述金屬?gòu)椘蛛x。本實(shí)用新型具體實(shí)施例上述技術(shù)方案中的至少一個(gè)具有以下有益效果支撐架體的金屬?gòu)椘?EMI彈片)設(shè)置為可活動(dòng)結(jié)構(gòu)形式，支撐架體設(shè)置金屬?gòu)椘?的另一面設(shè)置磁性元件，利用磁性元件與金屬?gòu)椘g的作用力，使多個(gè)支撐架體疊加入 位時(shí)，金屬?gòu)椘艜?huì)被吸引而轉(zhuǎn)動(dòng)形成屏蔽結(jié)構(gòu)；當(dāng)欲將其中一支撐架體移出時(shí)，磁性作用 力消失，金屬?gòu)椘瑫?huì)自動(dòng)縮回，以避免突出的金屬?gòu)椘瑢?duì)計(jì)算機(jī)元部件造成損傷。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中多個(gè)硬盤架疊加的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型具體實(shí)施例所述支撐架體的主視示意圖；圖3為本實(shí)用新型具體實(shí)施例所述支撐架體的俯視示意圖；圖4為本實(shí)用新型具體實(shí)施例所述支撐架體多個(gè)疊加的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
為使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖及具體實(shí)施 例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)描述。本實(shí)用新型具體實(shí)施例所述用于裝設(shè)計(jì)算機(jī)的元部件(如硬盤)的支撐架體，將 EMI彈片設(shè)置為可活動(dòng)結(jié)構(gòu)形式，使得多個(gè)支撐架體疊加放置，欲將其中一支撐架體移出 時(shí)，EMI彈片會(huì)自動(dòng)縮回，以避免突出的EMI彈片對(duì)計(jì)算機(jī)元部件造成損傷。
本實(shí)用新型具體實(shí)施例所述支撐架體包括[0031]架體本體，包括第一表面；金屬?gòu)椘?也即EMI彈片)，活動(dòng)地設(shè)置于所述第一表面，能夠在第一位置和第 二位置之間動(dòng)作，在所述第一位置時(shí)，所述金屬?gòu)椘钩鲇谒龅谝槐砻?；在所述第二位?時(shí)，所述金屬?gòu)椘挥谒龅谝槐砻鎯?nèi)，或者凸出于所述第一表面的高度小于在所述第一 位置時(shí)凸出于第一表面的高度。本實(shí)用新型利用所述金屬?gòu)椘鄬?duì)于架體本體的可活動(dòng)結(jié)構(gòu)形式，當(dāng)多個(gè)支撐架 體疊加放置時(shí)，金屬?gòu)椘幱诘谝晃恢?，凸出的金屬?gòu)椘c相鄰的支撐架體接觸連接；當(dāng)欲 將其中一支撐架體移出時(shí)，與該其中一支撐架體接觸的金屬?gòu)椘瑒?dòng)作至第二位置，使金屬 彈片轉(zhuǎn)動(dòng)至第二位置，向支撐架體的內(nèi)部縮進(jìn)，此時(shí)再平行移出該其中一支撐架體時(shí)，金屬 彈片不會(huì)碰觸支撐架體以及內(nèi)部的元部件。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解，本實(shí)用新型具體實(shí)施例中，裝設(shè)于支撐架體內(nèi)，需要安 裝EMI彈片的元部件包括硬盤等，設(shè)置于計(jì)算機(jī)主機(jī)內(nèi)的多個(gè)硬盤經(jīng)常疊加放置，且有時(shí) 需要進(jìn)行多次插拔操作。以下將對(duì)本實(shí)用新型具體實(shí)施例的結(jié)構(gòu)進(jìn)行詳細(xì)描述。圖2為本實(shí)用新型具體實(shí)施例所述支撐架體的主視示意圖，所述支撐架體的金屬 彈片，通過一端可轉(zhuǎn)動(dòng)與架體本體連接，另一端為自由端的形式，實(shí)現(xiàn)金屬?gòu)椘幕顒?dòng)結(jié) 構(gòu)。參閱圖2，本實(shí)用新型具體實(shí)施例的支撐架體10包括架體本體11、金屬?gòu)椘?2 和磁性元件13。所述架體本體11包括相對(duì)設(shè)置的第一表面111和第二表面112，所述第一表面 111和所述第二表面112之間為所述架體本體11的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。其中所述金屬?gòu)椘?2連接 設(shè)置于該第一表面111，所述磁性元件13連接設(shè)置于該第二表面112，且金屬?gòu)椘?2和磁 性元件13分別在第一表面111和第二表面112上的位置對(duì)應(yīng)。所述金屬?gòu)椘?2相對(duì)于所述第一表面111向所述架體本體10之外彎曲，包括第 一端121和第二端122。其中該金屬?gòu)椘?2的第一端121可轉(zhuǎn)動(dòng)地與第一表面111連接， 本實(shí)用新型具體實(shí)施例中，如圖2，該第一端121彎折為鉤狀，鉤設(shè)于第一表面111上形成的 柱體113上，且能夠繞該柱體113相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)。所述金屬?gòu)椘?2的第二端122呈自由狀態(tài)，當(dāng)金屬?gòu)椘?2繞第一端121相對(duì)來 回轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，第二端122在第一位置和第二位置之間動(dòng)作。在第一位置，第二端122凸出或者 露出于第一表面111 ；在第二位置，第二端122轉(zhuǎn)動(dòng)至位于架體本體11的內(nèi)部。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解，所述金屬?gòu)椘?2在所述架體本體10設(shè)置有多個(gè)，如圖 3為所述支撐架體的俯視示意圖，多個(gè)金屬?gòu)椘?2在架體本體10上依次排列設(shè)置。圖4為本實(shí)用新型具體實(shí)施例所述支撐架體多個(gè)疊加的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖4，各支 撐架體10的第一表面111分別朝上設(shè)置，自由狀態(tài)下，由于重力，各金屬?gòu)椘?2旋轉(zhuǎn)向下， 第二端122分別位于支撐架體的內(nèi)部。當(dāng)各支撐架體10之間重合疊加放置在一起時(shí)，上方支撐架體10的磁性元件13，與 下方支撐架體10的金屬?gòu)椘?2的位置對(duì)應(yīng)，利用上方磁性元件13的磁性吸引力，使下方 的金屬?gòu)椘?2向上轉(zhuǎn)動(dòng)，最終下方金屬?gòu)椘?2的彎曲頂部與上方的磁性元件13連接，下 方金屬?gòu)椘?2的第二端122與支撐架體10的第一表面111連接，利用金屬?gòu)椘畛渖?、下兩層支撐架體之間的空隙，達(dá)到屏蔽電磁輻射的目的。另外，如圖4，當(dāng)將其中一支撐架體10平移拉出時(shí)，該被拉出的支撐架體10上的金 屬?gòu)椘?2由于脫離上方的磁性元件，在重力作用下，而向下轉(zhuǎn)動(dòng)，第二端旋轉(zhuǎn)至位于支撐 架體的內(nèi)部，金屬?gòu)椘?2的彎曲頂部下移，因此在繼續(xù)拉動(dòng)支撐架體的過程中，金屬?gòu)椘?12不會(huì)對(duì)放置于上方支撐架體內(nèi)的硬盤造成損傷。同理，位于該被拉出支撐架體下方的金 屬?gòu)椘膊粫?huì)對(duì)該被拉出支撐架體造成損傷。本實(shí)用新型具體實(shí)施例中，如圖2和圖4，在支撐架體10的第一表面111上，金屬 彈片12的中部位置還設(shè)置有柱體114，用以防止自由狀態(tài)時(shí)，金屬?gòu)椘?2整個(gè)地旋轉(zhuǎn)至位 于支撐架體10內(nèi)部，使得多個(gè)支撐架體10疊加時(shí)，上方的磁性元件不能順利將金屬?gòu)椘?。所述支撐架體通過設(shè)置與金屬?gòu)椘瑢?duì)應(yīng)的磁性元件，使得多個(gè)支撐架體疊加放置 時(shí)，各金屬?gòu)椘詣?dòng)旋轉(zhuǎn)至與上方的支撐架體抵接接觸，金屬?gòu)椘鸬狡帘坞姶泡椛涞淖?用；當(dāng)其中一支撐架體移出時(shí)，金屬?gòu)椘肿詣?dòng)向下轉(zhuǎn)動(dòng)，為支撐架體留出移動(dòng)的空間，防 止金屬?gòu)椘瑒潅O(shè)置于支撐架體內(nèi)的硬盤或其他部件。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解，使金屬?gòu)椘軌蛟谥渭荏w上實(shí)現(xiàn)可活動(dòng)形式并不限 于上述的結(jié)構(gòu)，如當(dāng)金屬?gòu)椘膬啥司缮炜s地設(shè)置于第一表面上時(shí)，通過兩端相對(duì)于第 一表面伸縮量的變化，可以使金屬?gòu)椘鄬?duì)于第一表面的凸出狀態(tài)變化，在第一位置和第 二位置之間動(dòng)作。此外，本實(shí)用新型具體實(shí)施例所述金屬?gòu)椘部梢詿o需借助磁性元件的 磁性吸引力，實(shí)現(xiàn)第一位置和第二位置之間的位置變換，如金屬?gòu)椘赏ㄟ^轉(zhuǎn)動(dòng)軸與架體 本體連接，通過扳動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)軸使金屬?gòu)椘鄬?duì)架體本體轉(zhuǎn)動(dòng)。本實(shí)用新型另一方面還提供一種計(jì)算機(jī)，該計(jì)算機(jī)包括主機(jī)機(jī)箱和硬盤等，另外 還包括用于裝設(shè)硬盤的支撐架體，該支撐架體設(shè)置于主機(jī)機(jī)箱內(nèi)，包括架體本體，包括第一表面；金屬?gòu)椘?，活?dòng)地設(shè)置于所述第一表面，能夠在第一位 置和第二位置之間動(dòng)作，在所述第一位置時(shí)，所述金屬?gòu)椘钩鲇谒龅谝槐砻?；在所述?二位置時(shí)，所述金屬?gòu)椘挥谒龅谝槐砻鎯?nèi)，或者凸出于所述第一表面的高度小于在所 述第一位置時(shí)凸出于所述第一表面的高度。本實(shí)用新型具體實(shí)施例中，所述金屬?gòu)椘ㄟ^一端可轉(zhuǎn)動(dòng)與架體本體連接，另一 端為自由端的形式，實(shí)現(xiàn)金屬?gòu)椘幕顒?dòng)結(jié)構(gòu)。如圖2至圖4，支撐架體10包括架體本體 11、金屬?gòu)椘?2和磁性元件13。金屬?gòu)椘?2連接設(shè)置于第一表面111，所述磁性元件13連 接設(shè)置于第二表面112，且金屬?gòu)椘?2和磁性元件13分別在第一表面111和第二表面112 上的位置對(duì)應(yīng)。其中該金屬?gòu)椘?2的第一端121彎折為鉤狀，鉤設(shè)于第一表面111上形成的柱體 113上，且能夠繞該柱體113相對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)。所述金屬?gòu)椘?2的第二端122呈自由狀態(tài)，當(dāng)?shù)?一端121相對(duì)來回轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，第二端122在第一位置和第二位置之間動(dòng)作。在第一位置，第二 端122凸出或者露出于第一表面111 ；在第二位置，第二端122轉(zhuǎn)動(dòng)至位于架體本體11的 內(nèi)部。當(dāng)各支撐架體10之間重合疊加放置在一起時(shí)，利用上方磁性元件13的磁性吸引 力，使下方的金屬?gòu)椘?2向上轉(zhuǎn)動(dòng)，最終下方金屬?gòu)椘?2的彎曲頂部與上方的磁性元件13 連接，下方金屬?gòu)椘?2的第二端122與支撐架體10的第一表面111連接，利用金屬?gòu)椘畛渖稀⑾聝蓪又渭荏w之間的空隙，達(dá)到屏蔽電磁輻射的目的。當(dāng)將其中一支撐架體10平 移拉出時(shí)，該被拉出的支撐架體10上的金屬?gòu)椘?2由于脫離上方的磁性元件，在重力作用 下，而向下轉(zhuǎn)動(dòng)，第二端旋轉(zhuǎn)至位于支撐架體的內(nèi)部，金屬?gòu)椘?2的彎曲頂部下移，因此在 繼續(xù)拉動(dòng)支撐架體的過程中，金屬?gòu)椘?2不會(huì)對(duì)放置于上方支撐架體內(nèi)的硬盤造成損傷。本實(shí)用新型具體實(shí)施例所述支撐架體及具有該支撐架體的計(jì)算機(jī)，將EMI彈片設(shè) 置為可活動(dòng)結(jié)構(gòu)形式，且利用EMI彈片與磁性元件之間的作用，使得多個(gè)支撐架體疊加放 置時(shí)，EMI彈片自動(dòng)吸附于上方的支撐架體，當(dāng)欲將其中一支撐架體移出時(shí)，EMI彈片又會(huì) 自動(dòng)縮回，以避免突出的EMI彈片對(duì)計(jì)算機(jī)元部件造成損傷。以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技 術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和 潤(rùn)飾也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求一種計(jì)算機(jī)用支撐架體，其特征在于，所述支撐架體包括架體本體，包括第一表面；多個(gè)金屬?gòu)椘顒?dòng)地設(shè)置于所述第一表面，且具有第一位置和第二位置，在所述第一位置時(shí)，所述金屬?gòu)椘钩鲇谒龅谝槐砻?；在所述第二位置時(shí)，所述金屬?gòu)椘挥谒龅谝槐砻鎯?nèi)，或者凸出于所述第一表面的高度小于在所述第一位置時(shí)凸出于所述第一表面的高度。
2.如權(quán)利要求1所述的支撐架體，其特征在于，所述金屬?gòu)椘牡谝欢丝赊D(zhuǎn)動(dòng)地與所 述第一表面連接，第二端為自由端，所述第一端相對(duì)于所述第一表面來回轉(zhuǎn) 動(dòng)，所述金屬?gòu)?片在所述第一位置和所述第二位置之間動(dòng)作。
3.如權(quán)利要求2所述的支撐架體，其特征在于，所述第一端鉤設(shè)于所述第一表面上。
4.如權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的支撐架體，其特征在于，所述架體本體還包括一第二 表面，所述第二表面與所述第一表面相對(duì)，在所述第二表面上，與所述金屬?gòu)椘鄬?duì)的位置 設(shè)置有一磁性元件。
5.一種計(jì)算機(jī)，其特征在于，包括主機(jī)機(jī)箱；硬盤；用于裝設(shè)所述硬盤的支撐架體，插設(shè)于所述主機(jī)機(jī)箱內(nèi)，所述支撐架體包括架體本 體，包括第一表面；多個(gè)金屬?gòu)椘?，活?dòng)地設(shè)置于所述第一表面，且具有第一位置和第二位 置，在所述第一位置時(shí)，所述金屬?gòu)椘钩鲇谒龅谝槐砻?；在所述第二位置時(shí)，所述金屬 彈片位于所述第一表面內(nèi)，或者凸出于所述第一表面的高度小于在所述第一位置時(shí)凸出于 所述第一表面的高度。
6.如權(quán)利要求5所述的計(jì)算機(jī)，其特征在于，所述金屬?gòu)椘牡谝欢丝赊D(zhuǎn)動(dòng)地與所述 第一表面連接，第二端為自由端，所述第一端相對(duì)于所述第一表面來回轉(zhuǎn)動(dòng)，在所述第一位 置時(shí)所述第二端凸出所述第一表面，在所述第二位置時(shí)所述第二端位于所述第一表面內(nèi)。
7.如權(quán)利要求6所述的計(jì)算機(jī)，其特征在于，所述第一端鉤設(shè)于所述第一表面的柱體上。
8.如權(quán)利要求5至7任一項(xiàng)所述的計(jì)算機(jī)，其特征在于，所述架體本體還包括一第二表 面，所述第二表面與所述第一表面相對(duì)，在所述第二表面上，與所述金屬?gòu)椘鄬?duì)的位置設(shè) 置有一磁性元件。
9.如權(quán)利要求8所述的計(jì)算機(jī)，其特征在于，所述支撐架體至少為兩個(gè)，包括第一支撐 架體和第二支撐架體，所述第一支撐架體疊加放置于所述第二支撐架體之上。
10.如權(quán)利要求9所述的計(jì)算機(jī)，其特征在于，所述第一支撐架體的所述磁性元件吸附 所述第二支撐架體的所述金屬?gòu)椘龅诙渭荏w的所述金屬?gòu)椘瑥乃龅诙恢脛?dòng) 作至位于所述第一位置；所述第一支撐架體從所述第二支撐架體上移開，所述第二支撐架 體的所述金屬?gòu)椘瑥乃龅谝晃恢脛?dòng)作至位于所述第二位置，所述第一支撐架體的所述磁 性元件與所述第二支撐架體的所述金屬?gòu)椘蛛x。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種計(jì)算機(jī)用支撐架體及計(jì)算機(jī)，所述支撐架體包括架體本體，包括第一表面；多個(gè)金屬?gòu)椘顒?dòng)地設(shè)置于所述第一表面，且具有第一位置和第二位置，在所述第一位置時(shí)，所述金屬?gòu)椘钩鲇谒龅谝槐砻?；在所述第二位置時(shí)，所述金屬?gòu)椘挥谒龅谝槐砻鎯?nèi)，或者凸出于所述第一表面的高度小于在所述第一位置時(shí)凸出于所述第一表面的高度。本實(shí)用新型將支撐架體上的抗電磁干擾(EMI)彈片設(shè)置為可活動(dòng)結(jié)構(gòu)形式，不會(huì)對(duì)設(shè)置于支撐架體內(nèi)的元部件產(chǎn)生劃傷。
文檔編號(hào)G06F1/18GK201628905SQ201020145978
公開日2010年11月10日 申請(qǐng)日期2010年3月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年3月29日
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