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一種電容式觸摸屏的觸控面板及其制造方法

文檔序號(hào):6355581閱讀:282來(lái)源:國(guó)知局
專(zhuān)利名稱(chēng):一種電容式觸摸屏的觸控面板及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及觸摸屏領(lǐng)域,尤其涉及一種電容式觸摸屏的觸控面板及其制造方法。
背景技術(shù)
電容式觸摸屏實(shí)現(xiàn)了多點(diǎn)觸控以及便于操作的放大、縮小、旋轉(zhuǎn)功能,因此越來(lái)越 受人們青睞,但成本較高成為目前電容式觸摸屏推廣的一個(gè)較大阻礙,其中觸控面板的制 造成本較高是非常重要的原因。一般而言,現(xiàn)有的電容式觸摸屏的觸控面板ITO (氧化銦 錫)導(dǎo)電走線在基板的單面或基板的雙面,即,可分為單面多層結(jié)構(gòu)和雙面多層結(jié)構(gòu)。單面多層結(jié)構(gòu)的導(dǎo)電走線方式如圖1所示,一般為搭橋走線結(jié)構(gòu),圖2為其A-A處 的剖面圖,走線呈X向和Y向交叉形式,其包括Y方向?qū)щ娔ぞ€11、X方向?qū)щ娔ぞ€12、絕 緣膜線13、透明導(dǎo)電膜16、基板17。為確保X方向和Y方向的不相互導(dǎo)通,在Y方向?qū)щ娔?線11和X方向?qū)щ娔ぞ€12之間增加絕緣膜線13進(jìn)行隔離,然后再用導(dǎo)電膜線15 (ΙΤ0線 或其他導(dǎo)電金屬線)連接起來(lái),Y方向的另一組導(dǎo)電膜線14用于降低導(dǎo)電膜線11的電阻。 對(duì)于單面多層結(jié)構(gòu)的走線方式,基板單面的ITO導(dǎo)電走線一般為至少兩層ΙΤ0,或一層ITO 配合一層金屬(Mo-Al-Mo或Mo或Cu)走線,ITO導(dǎo)線膜線、絕緣膜線和金屬走線這三層走線 都需要刻蝕,所以至少需要刻蝕三次。雙面多層結(jié)構(gòu)的導(dǎo)電走線方式如圖3、圖4所示,基板34的第一面為Y方向ITO走 線31,另一面為X方向ITO走線32。對(duì)于X方向走線32,基板34邊緣區(qū)域的ITO走線線較 細(xì),所以在細(xì)線處ITO層的上面需要再增加一層金屬線(Mo-Al-Mo或Mo或Cu)層33,金屬 線層33和基板34兩面的ITO層都需要刻蝕,所以至少需要刻蝕三次。上述的單面多層導(dǎo)電走線結(jié)構(gòu)需要在玻璃基板的單面分多次刻蝕多層膜;而雙面 多層導(dǎo)電走線結(jié)構(gòu)需要在基板的兩面都要刻蝕一次甚至多次。因此兩種結(jié)構(gòu)的工藝過(guò)程非 常復(fù)雜,且良率難以控制,導(dǎo)致目前的觸控基板的成本較高。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種電容式觸摸屏的觸控面板及其制造方法,旨在解決現(xiàn)有 技術(shù)存在的ITO走線工藝難度高、成本高、良率低的技術(shù)缺陷。為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的,本發(fā)明提供的電容式觸摸屏的觸控面板包括基板,所述基 板的一面包括透明導(dǎo)電膜,所述透明導(dǎo)電膜上包括多條感應(yīng)導(dǎo)電走線,各感應(yīng)導(dǎo)電走線之 間通過(guò)蝕刻空隙進(jìn)行間隔。進(jìn)一步的,所述基板的另一面設(shè)置一屏蔽的透明導(dǎo)電層。進(jìn)一步的,所述透明導(dǎo)電膜為ITO材料,蝕刻空隙之間形成的ITO方塊電阻為 10Ω/□ 500Ω/口。其中Ω/□為ITO膜阻抗單位,是指一個(gè)正方形的薄膜導(dǎo)電材料邊 到邊之間的電阻。進(jìn)一步的,所述,蝕刻空隙之間形成的ITO方塊電阻為為100 Ω / □ 300 Ω / 口。為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的,本發(fā)明提供的電容式觸摸屏的觸控面板的制作方法包括以下步驟
步驟a、在觸控面板基板的一面鍍一層透明導(dǎo)電膜;
步驟b、光刻所述的透明導(dǎo)電膜,并蝕刻出多條感應(yīng)導(dǎo)電走線,感應(yīng)導(dǎo)電走線之間通過(guò) 蝕刻空隙進(jìn)行間隔,形成單面圖案。進(jìn)一步的,在基板的另一面也鍍一層透明的屏蔽導(dǎo)電膜。進(jìn)一步的,所述步驟a中的透明導(dǎo)電膜為ITO導(dǎo)電膜。相比于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明提供的電容式觸摸屏的觸控面板及其制造方法只需要單 面單層刻蝕一次ITO線路,涉及的工藝流程短,其良率可以得到大大提高,成本得到降低。 另外,因只是單面蝕刻走線,簡(jiǎn)單的光刻生產(chǎn)線即可生產(chǎn)此類(lèi)功能玻璃,解決了目前電容觸 摸屏觸控面板需要依賴(lài)高的光刻生產(chǎn)線制作的瓶頸。


圖1是現(xiàn)有單面多層導(dǎo)電走線結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏布線結(jié)構(gòu)圖。圖2是圖1中A-A處剖面結(jié)構(gòu)圖。圖3是現(xiàn)有雙面多層導(dǎo)電走線結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏布線結(jié)構(gòu)圖。圖4是現(xiàn)有雙面多層導(dǎo)電走線結(jié)構(gòu)的電容式觸摸屏布線的剖面結(jié)構(gòu)圖。圖5是本發(fā)明電容式觸摸屏的觸控面板的較佳實(shí)施例的ITO走線示意圖。圖6是圖5中所示結(jié)構(gòu)的剖面示意圖。圖7、圖8、圖9、圖10、圖11、圖12是本發(fā)明電容式觸摸屏的觸控面板的其他單面 單層典型布線結(jié)構(gòu)圖。
具體實(shí)施例方式為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白,以下結(jié)合附圖及實(shí)施例,對(duì) 本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解,此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明,并 不用于限定本發(fā)明。參見(jiàn)圖5中所示,本發(fā)明較佳實(shí)施例提供的電容式觸摸屏的觸控面板采用單面單 層ITO走線方式,其包括基板73,基板73的正面設(shè)置ITO導(dǎo)電走線71,其觸控區(qū)域的ITO 為直角梯形。作為較佳實(shí)施例,在基板73的背面可以設(shè)置一層ITO屏蔽層72(此屏蔽層72 不需要刻蝕,也不需要任何的處理,為整面狀),也就是觸控面板在生產(chǎn)時(shí),只需要刻蝕一次 正面ITO導(dǎo)電膜。圖7、圖8、圖9、圖10、圖11、圖12為本發(fā)明所述電容式觸摸屏的觸控面板的幾種
其他典型單面單層ITO導(dǎo)電走線結(jié)構(gòu)圖,每一種圖案都是一種走線方式,其共同特征是在 同一面上蝕刻出多條感應(yīng)導(dǎo)電走線,感應(yīng)導(dǎo)電走線之間通過(guò)蝕刻空隙進(jìn)行間隔。本發(fā)明所提供的上述電容式觸摸屏的觸控面板的制作方法包括以下步驟 步驟1、在觸控面板的基板73的一面上鍍一層透明的導(dǎo)電膜;
步驟2、在基板73的另一面鍍一層透明的屏蔽導(dǎo)電膜;
步驟3、光刻步驟1中所述的透明導(dǎo)電膜,并蝕刻出多條感應(yīng)導(dǎo)電走線,感應(yīng)導(dǎo)電走線 之間通過(guò)蝕刻空隙進(jìn)行間隔,形成單面圖案?;逭婧捅趁娴腎TO方塊電阻一般為10Ω/ D(ITC)膜阻抗單位,是指一個(gè)正方形的薄膜導(dǎo)電材料邊到邊之間的電阻) 500Ω/ 口。為了防止ITO走線明顯露出,確保 有較好的視覺(jué)效果,上述步驟1中所述的ITO導(dǎo)電膜的方塊電阻可以設(shè)置在100Ω/ □ 300 Ω / □,這樣既能保證觸摸的靈敏度,又能確??涛g的ITO走線不能被肉眼輕易看出而 影響到產(chǎn)品的視覺(jué)效果。相比于現(xiàn)有的觸控基板制造技術(shù),本發(fā)明提供的電容式觸摸屏的觸控面板及其制 作方法只需要單面單層刻蝕一次ITO線路,涉及的工藝流程短,其良率可以得到大大提高, 成本得到降低。另外,因只是單面蝕刻走線,簡(jiǎn)單的光刻生產(chǎn)線即可生產(chǎn)此類(lèi)功能玻璃,解 決了目前電容觸摸屏觸控面板需要依賴(lài)高的光刻生產(chǎn)線制作的瓶頸。以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本發(fā)明。凡在本發(fā)明的精 神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種電容式觸摸屏的觸控面板,其包括基板,其特征在于,所述基板的一面包括透明 導(dǎo)電膜,所述透明導(dǎo)電膜上包括多條感應(yīng)導(dǎo)電走線,各感應(yīng)導(dǎo)電走線之間通過(guò)蝕刻空隙進(jìn) 行間隔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容式觸摸屏的觸控面板,其特征在于,所述基板的另一面 設(shè)置一屏蔽的透明導(dǎo)電層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容式觸摸屏的觸控面板,其特征在于,所述透明導(dǎo)電膜為 ITO材料,蝕刻空隙之間形成的ITO方塊電阻為10 Ω / □ 500 Ω / 口。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電容式觸摸屏的觸控面板,其特征在于,所述,蝕刻空隙之間 形成的ITO方塊電阻為為100 Ω / □ 300 Ω / 口。
5.一種電容式觸摸屏的觸控面板的制作方法,其特征在于包括以下步驟步驟a、在觸控面板基板的一面鍍一層透明導(dǎo)電膜;步驟b、光刻所述的透明導(dǎo)電膜,并蝕刻出多條感應(yīng)導(dǎo)電走線,感應(yīng)導(dǎo)電走線之間通過(guò) 蝕刻空隙進(jìn)行間隔,形成單面圖案。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電容式觸摸屏的觸控面板的制作方法,其特征在于,在基板 的另一面也鍍一層透明的屏蔽導(dǎo)電膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電容式觸摸屏的觸控面板的制作方法,其特征在于,所述步 驟a中的透明導(dǎo)電膜為ITO導(dǎo)電膜。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種電容式觸摸屏的觸控面板及其制造方法,所述基板的一面包括透明導(dǎo)電膜,所述透明導(dǎo)電膜上包括多條感應(yīng)導(dǎo)電走線,各感應(yīng)導(dǎo)電走線之間通過(guò)蝕刻空隙進(jìn)行間隔。所述電容式觸摸屏的觸控面板制作方法包括以下步驟在觸控面板基板的一面鍍一層透明導(dǎo)電膜;光刻所述的透明導(dǎo)電膜,并蝕刻出多條感應(yīng)導(dǎo)電走線,感應(yīng)導(dǎo)電走線之間通過(guò)蝕刻空隙進(jìn)行間隔,形成單面圖案。本發(fā)明提供的電容式觸摸屏的觸控面板及其制造方法只需要單面單層刻蝕一次線路,工藝流程短,良率得到大大提高,成本得到降低。另外,因只是單面蝕刻走線,簡(jiǎn)單的光刻生產(chǎn)線即可生產(chǎn)此類(lèi)功能玻璃,解決了目前電容觸摸屏觸控面板需要依賴(lài)高的光刻生產(chǎn)線制作的瓶頸。
文檔編號(hào)G06F3/044GK102073431SQ20111005384
公開(kāi)日2011年5月25日 申請(qǐng)日期2011年3月7日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月7日
發(fā)明者周自立, 姚伏恒 申請(qǐng)人:深圳市中顯微電子有限公司
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