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電容式觸摸屏導(dǎo)電線路的生產(chǎn)工藝的制作方法

文檔序號(hào):6424915閱讀:166來源:國(guó)知局
專利名稱:電容式觸摸屏導(dǎo)電線路的生產(chǎn)工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種用于制造印刷電路的方法,尤其是一種電容式觸摸屏導(dǎo)電線路的
生產(chǎn)工藝。
背景技術(shù)
觸摸屏包括電阻式、電容式、紅外和表面聲波式觸摸屏。其中,電容式觸摸屏技術(shù)發(fā)展成為能識(shí)別其表面的多點(diǎn)觸摸,便于使用者通過簡(jiǎn)單的動(dòng)作輕松實(shí)現(xiàn)對(duì)文件、游戲的多種復(fù)雜的操作,具有多點(diǎn)觸控功能,已經(jīng)受到廣泛關(guān)注。電容式觸摸屏的多點(diǎn)觸控功能實(shí)現(xiàn)原理一般是將觸摸屏的ITO薄膜進(jìn)行分區(qū)并設(shè)計(jì)成特定形狀,然后,觸摸屏控制器對(duì)每一個(gè)獨(dú)立的且具有特定形狀的ITO薄膜進(jìn)行電容檢查和控制,識(shí)別它們表面的多點(diǎn)觸摸。 為了將ITO薄膜與觸摸屏控制器電性連接,觸摸屏需要設(shè)計(jì)多股導(dǎo)電線路。制備這類電容式觸摸屏的一個(gè)關(guān)鍵點(diǎn)是在觸摸屏非視窗區(qū)域的有限空間制備這些導(dǎo)電線路,目前采用的工藝過程為先物理真空鍍金屬導(dǎo)電膜,然后曝光、顯影和蝕刻,使金屬導(dǎo)電膜變成金屬導(dǎo)電線路。這些工藝過程的成本都較高,導(dǎo)致電容式觸摸屏的價(jià)格昂貴。為了解決此問題,目前普遍使用的方法是在ITO薄膜上采用絲網(wǎng)印刷導(dǎo)電銀膠,如申請(qǐng)?zhí)枮?00910109340. 7的中國(guó)專利,雖然降低了生產(chǎn)成本,但是存在如下缺陷(1)由于導(dǎo)電銀膠具有滲透作用,印刷細(xì)線路銀膠非常困難,最小只可印刷線寬線距為SOXSOMffl的導(dǎo)電線路;(2)在印刷線路時(shí)容易出現(xiàn)毛邊、鋸齒的現(xiàn)象;(3)在印刷時(shí)容易產(chǎn)生干板現(xiàn)象導(dǎo)致無法連續(xù)性生產(chǎn)。以上生產(chǎn)工藝問題一直是阻礙行業(yè)發(fā)展的瓶頸。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的上述問題,提供一種可制作細(xì)線路且可連續(xù)性生產(chǎn)的電容式觸摸屏導(dǎo)電線路的生產(chǎn)工藝。為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是一種電容式觸摸屏導(dǎo)電線路的生產(chǎn)工藝,其包括下列步驟
(1)將感光干膜貼在ITO-Cu膜的Cu層的表面上,利用制作有Cu導(dǎo)電線路圖案的菲林對(duì)Cu層表面上的感光干膜進(jìn)行曝光,使Cu導(dǎo)電線路圖案對(duì)應(yīng)的感光干膜固化,再去除未固化的感光干膜,然后去除未被感光干膜遮蓋的Cu層,獲得Cu導(dǎo)電線路;
(2)將油墨通過絲網(wǎng)印刷方式在ITO-Cu膜的未被Cu層遮蓋的ITO層的表面形成ITO 導(dǎo)電線路圖形,干燥油墨,再去除未被Cu層和油墨遮蓋的ITO層,獲得ITO導(dǎo)電線路;
(3)去除Cu層和ITO層上的屏蔽油墨。作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選技術(shù)方案,步驟(1)中,所述感光干膜的厚度為15 40Mm。作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選技術(shù)方案,步驟(1)中,所述感光干膜通過熱壓貼合在 ITO-Cu膜的Cu層的表面上,熱壓貼合時(shí)的溫度為110 130°C,速度為1. 0 3. Om/min,壓力為 0. 3 1. OMPa0
作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選技術(shù)方案,步驟(1)中,曝光所采用的光線為紫外光,光能量為4000 6000W,曝光時(shí)間為10 15s。作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選技術(shù)方案,步驟(1)中去除未被感光干膜遮蓋的Cu層所用的褪鍍液包括按重量百分比計(jì)的如下組份=CuCl2 5 8%、乙醇氨10 12%、NaCl 2 4%、檸檬酸鈉0. 02 0. 06%、其余為水。作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選技術(shù)方案,利用所述Cu褪鍍液去除未被感光干膜遮蓋的Cu層的溫度為20 30°C。作為上述技術(shù)方案的優(yōu)選技術(shù)方案,所述步驟(1)和步驟(2)中所采用的干燥方式為紅外線干燥。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是
(1)本發(fā)明提供的電容式觸摸屏導(dǎo)電線路的生產(chǎn)工藝,利用PHOTO法(照相平板印刷法) 在ITO-Cu膜上制作Cu導(dǎo)電線路,相較于現(xiàn)有技術(shù)的絲網(wǎng)印刷銀膠法,本發(fā)明制作的Cu導(dǎo)電線路更細(xì),可做到的線寬線距為50X50Mffl,有利于制作更多的Cu導(dǎo)電線路;
(2)本發(fā)明提供的電容式觸摸屏導(dǎo)電線路的生產(chǎn)工藝,其制作的Cu導(dǎo)電線路,相較于現(xiàn)有技術(shù)的銀膠線路,具有很好的流暢性,且線路無毛邊、無鋸齒現(xiàn)象;
(3)本發(fā)明提供的電容式觸摸屏導(dǎo)電線路的生產(chǎn)工藝,可連續(xù)性生產(chǎn),避免了印刷銀膠時(shí)由于干板現(xiàn)象而無法連續(xù)性生產(chǎn),大大提高了生產(chǎn)效率。


圖1是本發(fā)明實(shí)施例所用ITO-Cu膜的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明提供的電容式觸摸屏導(dǎo)電線路的生產(chǎn)工藝,先利用PHOTO法(平板印刷法) 在ITO-Cu膜上制作Cu導(dǎo)電線路,再利用常規(guī)方法在ITO層上制作ITO導(dǎo)電線路,最后得到觸摸屏導(dǎo)電線路。以各實(shí)施例所用的ITO-Cu膜的結(jié)構(gòu)示意圖如圖1所示,ITO-Cu膜由從下至上的防刮層(Clear hardcoating) 1、PET層2、底面鍍膜層(Undercoating)3、ITO層和 Cu層5。下面對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說明。實(shí)施例1
(1)制作Cu導(dǎo)電線路
a、將ITO-Cu膜貼于基板上,利用壓膜機(jī)將感光干膜(本實(shí)施例中采用的感光干膜為 LAMINAR E9500,厚度為30Mm )貼于ITO-Cu膜的Cu層5的表面上,其中壓膜溫度為110°C, 壓膜速度為1. Om/min,壓膜壓力為0. 3 MPa0在4000W的UV光照射下,利用制作有Cu導(dǎo)電線路圖案的菲林對(duì)Cu層5表面上的感光干膜進(jìn)行曝光,曝光時(shí)間為10s。然后利用顯影工藝線對(duì)未曝光的感光干膜部分進(jìn)行沖洗顯影,顯影溫度為25°C,顯影液噴壓為20kg/cm2,顯影時(shí)材料輸送速度為2. Om/min。顯影后,即在ITO-Cu膜上覆蓋了與菲林上的Cu導(dǎo)電線路圖案一致的屏蔽感光干膜。b、利用Cu褪鍍液去除未被感光干膜遮蓋的Cu層5,褪鍍溫度為25°C,Cu褪鍍液噴壓為0.5 kg/cm2,材料傳輸速度為2.5m/min。Cu層5褪鍍完畢后,材料繼續(xù)進(jìn)行水洗并風(fēng)切干燥,獲得Cu導(dǎo)電線路。
本實(shí)施例中,Cu褪鍍液的各組份配比為(按重量百分比)=CuCl2 5%、乙醇氨 12%、NaCl 4%、檸檬酸鈉0.05%、其余為水。Cu褪鍍液去除未被感光油墨遮蓋的Cu層的反應(yīng)式如下
Cu (NH3) 4C1+Cu=2Cu (NH3)2Cl (1) [Cu (NH3) 2] Cl+2NH4Cl+2NH3+l/202=2 [Cu (NH3) 4] C12+H20 (2 ) 由于Cu褪鍍液呈堿性,不會(huì)對(duì)ITO層(氧化銦錫)造成損壞。NaCl用于維持反應(yīng)體系中Cl_的濃度。(2)制作ITO導(dǎo)電線路
在全自動(dòng)印刷機(jī)上,利用耐酸網(wǎng)版對(duì)已褪鍍多余Cu層5的ITO-Cu膜的未被Cu層5遮蓋的ITO層4的表面絲網(wǎng)印刷耐酸油墨,UV干燥后,利用ITO膜蝕刻線,在酸槽中蝕刻沒有耐酸保護(hù)的ITO層4,獲得ITO導(dǎo)電線路。酸槽噴壓為0. ^g/cm2,酸槽傳輸速度為1. Sm/ min0(3)在堿槽中去除Cu層5上的屏蔽感光干膜和ITO層4上的屏蔽油墨。堿槽噴壓為0.5 kg/cm2,堿槽傳輸速度為2.0m/min。經(jīng)水洗和風(fēng)切干燥后,即得到了含ITO圖層和 Cu導(dǎo)電線路的ITO膜。最后,將印刷蝕刻好的ITO膜經(jīng)線路組合,鐳射凹槽,鐳射外形,半成品脫泡,半成品測(cè)試,半成品與面版的組合,成品脫泡,成品功能測(cè)試,即得到以Cu取代銀膠作為導(dǎo)電線路的電容式觸摸屏。實(shí)施例2
與實(shí)施例1不同的是,步驟(a)中,所用感光干膜的厚度為15ΜΠ1,可以制作更細(xì)的Cu導(dǎo)電線路。實(shí)施例3
與實(shí)施例1不同的是,步驟(b)中,所采用的Cu褪鍍液的各組份配比為(按重量百分比)=CuCl2 8%、乙醇氨10%、NaCl 2%、檸檬酸鈉0. 05%、其余為水。實(shí)施例4
與實(shí)施例1不同的是,步驟(b)中,所采用的Cu褪鍍液的各組份配比為(按重量百分比)=CuCl2 7 %、乙醇氨11%、NaCl 2. 5%、檸檬酸鈉0. 06%、其余為水。實(shí)施例5
與實(shí)施例1不同的是,步驟(b)中,所采用的Cu褪鍍液為常規(guī)Cu褪鍍液,其組分主要為氨水和I^eCl3t5以上僅為本發(fā)明的具體實(shí)施例,并不以此限定本發(fā)明的保護(hù)范圍;在不違反本發(fā)明構(gòu)思的基礎(chǔ)上所作的任何替換與改進(jìn),均屬本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種電容式觸摸屏導(dǎo)電線路的生產(chǎn)工藝,其特征在于,包括下列步驟(1)將感光干膜貼在ITO-Cu膜的Cu層的表面上,利用制作有Cu導(dǎo)電線路圖案的菲林對(duì)Cu層表面上的感光干膜進(jìn)行曝光,使Cu導(dǎo)電線路圖案對(duì)應(yīng)的感光干膜固化,再去除未固化的感光干膜,然后去除未被感光干膜遮蓋的Cu層,獲得Cu導(dǎo)電線路;(2)將油墨通過絲網(wǎng)印刷方式在ITO-Cu膜的未被Cu層遮蓋的ITO層的表面形成ITO 導(dǎo)電線路圖形,干燥油墨,再去除未被Cu層和油墨遮蓋的ITO層,獲得ITO導(dǎo)電線路;(3)去除Cu層上的屏蔽感光干膜和ITO層上的屏蔽油墨。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容式觸摸屏導(dǎo)電線路的生產(chǎn)工藝,其特征在于步驟(1) 中,所述感光干膜的厚度為15 40Mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容式觸摸屏導(dǎo)電線路的生產(chǎn)工藝,其特征在于步驟(1) 中,所述感光干膜通過熱壓貼合在ITO-Cu膜的Cu層的表面上,熱壓貼合時(shí)的溫度為110 130°C,壓力為 0. 3 1. 0MPa。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容式觸摸屏導(dǎo)電線路的生產(chǎn)工藝,其特征在于步驟(1) 中,曝光所采用的光線為紫外光,光能量為4000 6000W,曝光時(shí)間為10 15s。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容式觸摸屏導(dǎo)電線路的生產(chǎn)工藝,其特征在于步驟(1) 中去除未被感光干膜遮蓋的Cu層所用的Cu褪鍍液包括按重量百分比計(jì)的如下組份=CuCl2 5 8%、乙醇氨10 1覬、NaCl 2 4%、檸檬酸鈉0. 02 0. 06%、其余為水。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電容式觸摸屏導(dǎo)電線路的生產(chǎn)工藝,其特征在于步驟(1) 中,利用所述Cu褪鍍液去除未被感光干膜遮蓋的Cu層的溫度為20 30°C。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容式觸摸屏導(dǎo)電線路的生產(chǎn)工藝,其特征在于所述步驟 (1)和步驟(2)中所采用的干燥方式為紅外線干燥。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種電容式觸摸屏導(dǎo)電線路的生產(chǎn)工藝,其包括下列步驟(1)將感光干膜貼在ITO-Cu膜的Cu層的表面上,曝光,使Cu導(dǎo)電線路圖案對(duì)應(yīng)的感光干膜固化,再去除未固化的感光干膜,然后去除未被感光干膜遮蓋的Cu層,獲得Cu導(dǎo)電線路;(2)將油墨通過絲網(wǎng)印刷方式在ITO-Cu膜的未被Cu層遮蓋的ITO層的表面形成ITO導(dǎo)電線路圖形,干燥油墨,再去除未被Cu層和油墨遮蓋的ITO層,獲得ITO導(dǎo)電線路;(3)去除Cu層和ITO層上的屏蔽油墨。本發(fā)明的電容式觸摸屏導(dǎo)電線路的制造方法,其制作的Cu導(dǎo)電線路更細(xì),具有很好的流暢性,且線路無毛邊、無鋸齒現(xiàn)象,而且,可連續(xù)性生產(chǎn)。
文檔編號(hào)G06F3/044GK102156602SQ20111013843
公開日2011年8月17日 申請(qǐng)日期2011年5月26日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月26日
發(fā)明者王雪镅, 白震勇 申請(qǐng)人:意力(廣州)電子科技有限公司
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