專利名稱：電子層結(jié)構(gòu)排版方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及化學(xué)排版領(lǐng)域，具體而言，涉及一種電子層結(jié)構(gòu)排版方法和裝置。
背景技術(shù)：
在化學(xué)排版中，電子層結(jié)構(gòu)排版很重要。然而，目前的化學(xué)排版軟件都不支持這種電子層結(jié)構(gòu)排版。因此，用戶多采用畫圖的形式預(yù)先將電子層結(jié)構(gòu)畫好，然后再以插入圖片的方式將電子層結(jié)構(gòu)插入到排版軟件中。但是這種實(shí)現(xiàn)方式會(huì)經(jīng)常使排版人員在兩個(gè)軟件間不停的切換，導(dǎo)致操作不方便的問題。發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在提供一種電子層結(jié)構(gòu)排版方法和裝置，以解決電子層結(jié)構(gòu)排版的問題。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，提供了一種電子層結(jié)構(gòu)排版方法，包括:提供界面以接受用戶輸入元素名稱；在預(yù)先創(chuàng)建的基本庫中查找具有元素名稱的元素記錄；在編輯版面中，以元素記錄的各個(gè)屬性繪制元素的電子層結(jié)構(gòu)。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，提供了一種電子層結(jié)構(gòu)排版裝置，包括:界面模塊，用于提供界面以接受用戶輸入元素名稱；查找模塊，用于在預(yù)先創(chuàng)建的基本庫中查找具有元素名稱的元素記錄；繪制模塊，用于在編輯版面中，以元素記錄的各個(gè)屬性繪制元素的電子層結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明上述實(shí)施例的電子層結(jié)構(gòu)排版方法和裝置根據(jù)元素屬性自動(dòng)繪制元素的電子層結(jié)構(gòu)，所以克服了現(xiàn)有技術(shù)電子層結(jié)構(gòu)排版操作比較繁瑣的問題，提高了化學(xué)排版的效率。


此處所說明的附圖用來提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分，本發(fā)明的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中:
圖1示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的電子層結(jié)構(gòu)排版方法的流程圖2示出了根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的界面的屏幕截圖3示出了根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的界面的屏幕截圖4示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的接受用戶設(shè)置屬性的界面的屏幕截圖5示出了根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的電子層結(jié)構(gòu)排版方法的流程圖6示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的電子層結(jié)構(gòu)排版裝置的示意圖。
具體實(shí)施方式
下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例，來詳細(xì)說明本發(fā)明。
圖1示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的電子層結(jié)構(gòu)排版方法的流程圖，包括:
步驟S10，提供界面以接受用戶輸入元素名稱；
步驟S20，在預(yù)先創(chuàng)建的基本庫中查找具有元素名稱的元素記錄；
步驟S30，在編輯版面中，以元素記錄的各個(gè)屬性繪制元素的電子層結(jié)構(gòu)。其中，基本庫由多條元素記錄構(gòu)成，元素記錄具有各個(gè)屬性，由編輯軟件根據(jù)所述各個(gè)屬性繪制電子層結(jié)構(gòu)。
現(xiàn)有技術(shù)中，要求用戶繪制電子層結(jié)構(gòu)的圖片，然后插入到編輯版面中；而本方法中，用戶只需輸入元素名稱，由編輯軟件自動(dòng)地根據(jù)該元素在基本庫中記錄的各種屬性來繪制元素的電子層結(jié)構(gòu)。因此，本方法克服了現(xiàn)有技術(shù)電子層結(jié)構(gòu)排版操作比較繁瑣的問題，顯著地提高了化學(xué)排版的效率。
另外，由于是通過編輯軟件來繪制電子層結(jié)構(gòu)，所以還可以使電子層結(jié)構(gòu)的編輯風(fēng)格與編輯軟件編輯的化學(xué)排版其他內(nèi)容的編輯風(fēng)格保持一致。
另外，人工地繪制電子層結(jié)構(gòu)容易發(fā)生差錯(cuò)。而采用編輯軟件自動(dòng)繪制電子層結(jié)構(gòu)，只需要預(yù)先制訂了正確的規(guī)則，就能避免發(fā)生各種差錯(cuò)。
優(yōu)選地，各個(gè)屬性包括以下至少一項(xiàng):風(fēng)格，用于指定電子層的形狀，可選值包括扇形和圓形；線寬，用于指定繪制的線寬；間距，用于指定各個(gè)電子層之間的間距；張角，用于指定當(dāng)電子層的風(fēng)格為扇形時(shí)，該扇形的張角；方向，用于指定當(dāng)電子層的風(fēng)格為扇形時(shí)，該扇形的方向；字體，用于指定電子層中文字的字體；字號(hào)，用于指定電子層中文字的字號(hào)。
在繪制電子層結(jié)構(gòu)時(shí)，通常關(guān)注的排版要素包括風(fēng)格、線寬、間距、張角、方向、字體和字號(hào)等。本優(yōu)選實(shí)施例中，在元素記錄中設(shè)置以上屬性，從而可以利用這些設(shè)置的屬性規(guī)定上述排版要素，得到用戶期望的排版效果。
優(yōu)選地，風(fēng)格的缺省值為扇形，線寬的缺省值為0.3pt，間距的缺省值為100%，張角的缺省值為60度，方向的缺省值為O度，字體的缺省值為Times New Roman，字號(hào)的缺省值為10.6pt。發(fā)明人根據(jù)長期的實(shí)踐，總結(jié)出上述數(shù)值是用戶排版電子層結(jié)構(gòu)時(shí)最常采用的樹脂，因此將這些數(shù)值設(shè)置為缺省值，可以進(jìn)一步減輕用戶的操作負(fù)擔(dān)。
優(yōu)選地，各個(gè)屬性包括:數(shù)值，用于指定各個(gè)電子層的電子數(shù)量，可選值包括標(biāo)準(zhǔn)和自定義；當(dāng)數(shù)值為標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，允許設(shè)置價(jià)態(tài)，價(jià)態(tài)缺省值為O ;當(dāng)數(shù)值為自定義時(shí)，允許用戶設(shè)置各電子層的電子數(shù)量。
優(yōu)選地，步驟S30包括:當(dāng)數(shù)值為標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，根據(jù)化學(xué)規(guī)則繪制各個(gè)電子層的電子數(shù)量；當(dāng)數(shù)值為自定義時(shí)，根據(jù)用戶設(shè)置的各電子層的電子數(shù)量繪制各個(gè)電子層的電子數(shù)量。
在本優(yōu)選實(shí)施例中，進(jìn)一步允許用戶更改各個(gè)電子層的電子數(shù)量，從而可以更好地滿足用戶的排版需求。
圖2示出了根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的界面的屏幕截圖；圖3示出了根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的界面的屏幕截圖；圖4示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的接受用戶設(shè)置屬性的界面的屏幕截圖。
圖2所示是數(shù)值為標(biāo)準(zhǔn)時(shí)的界面，用戶只需輸入化學(xué)元素的質(zhì)子數(shù)，外層電子總數(shù)以及排列順序?qū)⒂沙绦蜃詣?dòng)排出，這是一種符合化學(xué)規(guī)則的排版形式。圖3所示是數(shù)值為自定義時(shí)的界面，在這種格式下，用戶可以自定義外層電子總數(shù)以及外層電子每一層的排列數(shù)量。在圖2-圖4中，在界面中呈現(xiàn)各個(gè)屬性的缺省值，但允許用戶進(jìn)行修改，在界面中接受用戶對(duì)屬性進(jìn)行賦值。
如圖2-圖4所示，在界面中提供預(yù)覽窗口，在預(yù)覽窗口中，以元素記錄的各個(gè)屬性繪制元素的電子層結(jié)構(gòu)。每當(dāng)用戶修改界面上的屬性值時(shí)，程序?qū)⑿薷暮蟮慕Y(jié)果預(yù)覽顯示在此界面上，這樣用戶就可以預(yù)先確定編輯軟件將繪制的電子層結(jié)構(gòu)的排版效果。
圖5示出了根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的電子層結(jié)構(gòu)排版方法的流程圖，包括:
步驟S502，預(yù)先構(gòu)建所有化學(xué)元素的基本庫，對(duì)于任意一個(gè)化學(xué)元素，用以下結(jié)構(gòu)表不:
Struct ChemElement { UINT ProtonNum; //必有屬性，元素的質(zhì)子數(shù)，標(biāo)準(zhǔn)和自定義形式都要用到。std::vector<int> CusElectronCountArr; //自定義形式電子層數(shù)組，保存電子層數(shù)以及每層的電子數(shù)。int ElementValenceOxidation; //元素化合價(jià)，可選屬性。
float LineWidth;//繪制是的線寬，可選屬性。
float CircleDensity;//繪制電子層時(shí)每層之間的間距，可選屬性。
float OpenAngle;//繪制的電子層張開角度，可選屬性。
float OpenDirection; //繪制的電子層張角的方向，可選屬性。std::wstring Font;//繪制是使用的字體，可選屬性。float FontSize;//繪制時(shí)使用的字號(hào)，可選屬性。
}
用鈉原 子舉例:程序啟動(dòng)時(shí),為鈉原子賦初值，
ProtonNum = 11 ；
CusElectronCountArr.push_back(2)；
CusElectronCountArr.push_back(8)；
CusElectronCountArr.push_back(I)；
ElementValenceOxidation = 0 ；
Lineffidth = 0.3 ；
CircleDensity = 100% ；
OpenAngle = 60 ；
OpenDirection = 0 ；
Font = L” 微軟雅黑”
FontSize = 10.5 ；
對(duì)所有的化學(xué)元素都做了以上的賦值處理之后，將所有的結(jié)構(gòu)保存，這就是化學(xué)元素的基本庫。
用戶在化學(xué)排版過程中，當(dāng)需要排入電子層結(jié)構(gòu)時(shí)，彈出如圖2的界面。用戶在此界面中填寫符合自己要求的數(shù)據(jù)，其中質(zhì)子數(shù)為必填寫的項(xiàng)。注:每當(dāng)用戶修改任意一項(xiàng)數(shù)據(jù)時(shí)，會(huì)有結(jié)果預(yù)覽在界面上。用戶填寫完畢后，點(diǎn)擊確定。
此時(shí)程序可以創(chuàng)建一個(gè)與化學(xué)元素結(jié)構(gòu)相同的結(jié)構(gòu)，用來保存用戶填寫的數(shù)據(jù)。結(jié)構(gòu)名稱和內(nèi)容如下:
權(quán)利要求
1.一種電子層結(jié)構(gòu)排版方法,其特征在于,包括: 提供界面以接受用戶輸入元素名稱； 在預(yù)先創(chuàng)建的基本庫中查找具有所述元素名稱的元素記錄； 在編輯版面中，以所述元素記錄的各個(gè)屬性繪制所述元素的電子層結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述各個(gè)屬性包括以下至少一項(xiàng): 風(fēng)格，用于指定電子層的形狀，可選值包括扇形和圓形； 線寬，用于指定繪制的線寬； 間距，用于指定各個(gè)電子層之間的間距； 張角，用于指定當(dāng)電子層的風(fēng)格為扇形時(shí)，所述扇形的張角； 方向，用于指定當(dāng)電子層的風(fēng)格為扇形時(shí)，所述扇形的方向； 字體，用于指定電子層中文字的字體； 字號(hào)，用于指定電子層中文字的字號(hào)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述風(fēng)格的缺省值為扇形，所述線寬的缺省值為0.3pt，所述間距的缺省值為100%，所述張角的缺省值為60度，所述方向的缺省值為O度,所述字體的缺省值為Times New Roman,所述字號(hào)的缺省值為10.6pt。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述各個(gè)屬性包括: 數(shù)值，用于指定各個(gè)電子層的電子數(shù)量，可選值包括標(biāo)準(zhǔn)和自定義； 當(dāng)所述數(shù)值為標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，允許設(shè)置價(jià)態(tài)，價(jià)態(tài)缺省值為O ; 當(dāng)所述數(shù)值為自定義時(shí)，允許用戶設(shè)置各電子層的電子數(shù)量。
5.根據(jù)權(quán)利要求 4所述的方法，其特征在于，以所述元素記錄的各個(gè)屬性繪制所述元素的電子層結(jié)構(gòu)包括: 當(dāng)所述數(shù)值為標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，根據(jù)化學(xué)規(guī)則繪制各個(gè)電子層的電子數(shù)量； 當(dāng)所述數(shù)值為自定義時(shí)，根據(jù)用戶設(shè)置的各電子層的電子數(shù)量繪制各個(gè)電子層的電子數(shù)量。
6.根據(jù)權(quán)利要求2-5任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在所述界面中呈現(xiàn)各個(gè)所述屬性的缺省值。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，還包括: 在所述界面中接受用戶對(duì)所述屬性進(jìn)行賦值。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，還包括: 在所述界面中提供預(yù)覽窗口，在所述預(yù)覽窗口中，以所述元素記錄的各個(gè)屬性繪制所述元素的電子層結(jié)構(gòu)。
9.一種電子層結(jié)構(gòu)排版裝置，其特征在于，包括: 界面模塊，用于提供界面以接受用戶輸入元素名稱； 查找模塊，用于在預(yù)先創(chuàng)建的基本庫中查找具有所述元素名稱的元素記錄； 繪制模塊，用于在編輯版面中，以所述元素記錄的各個(gè)屬性繪制所述元素的電子層結(jié)構(gòu)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于，所述各個(gè)屬性包括以下至少一項(xiàng): 風(fēng)格，用于指定電子層的形狀，可選值包括扇形和圓形； 線寬，用于指定繪制的線寬；間距，用于指定各個(gè)電子層之間的間距；張角，用于指定當(dāng)電子層的風(fēng)格為扇形時(shí)，所述扇形的張角；方向，用于指定當(dāng)電子層的風(fēng)格為扇形時(shí)，所述扇形的方向；字體，用于指定電子層中文字的字體；字號(hào)，用于指定電子層中 文字的字號(hào)。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種電子層結(jié)構(gòu)排版方法，包括提供界面以接受用戶輸入元素名稱；在預(yù)先創(chuàng)建的基本庫中查找具有元素名稱的元素記錄；在編輯版面中，以元素記錄的各個(gè)屬性繪制元素的電子層結(jié)構(gòu)。本發(fā)明提供了一種電子層結(jié)構(gòu)排版裝置，包括界面模塊，用于提供界面以接受用戶輸入元素名稱；查找模塊，用于在預(yù)先創(chuàng)建的基本庫中查找具有元素名稱的元素記錄；繪制模塊，用于在編輯版面中，以元素記錄的各個(gè)屬性繪制元素的電子層結(jié)構(gòu)。本發(fā)明提高了化學(xué)排版的效率。
文檔編號(hào)G06F17/24GK103150295SQ20111040641
公開日2013年6月12日 申請(qǐng)日期2011年12月6日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月6日
發(fā)明者謝國超, 趙志剛 申請(qǐng)人:北大方正集團(tuán)有限公司, 北京北大方正電子有限公司