專利名稱：光學(xué)觸控系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種互動系統(tǒng)，特別涉及一種光學(xué)觸控系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
光學(xué)觸控系統(tǒng)屬于一種被動式觸控系統(tǒng),不同于主動式觸控系統(tǒng)，用于操控被動式觸控系統(tǒng)的指示物不需消耗任何電力，因此使用者可使用任何物件作為所述指示物，例如使用者的手指。藉此，使用者無需隨身攜帶額外的指向裝置而大幅增加了使用便利性。光學(xué)觸控系統(tǒng)中，如何判定接觸點在二維空間的位置是重要的研究課題。例如，美國專利第6，803，906號，標(biāo)題為“被動式觸控系統(tǒng)及檢測使用者輸入的方法”中公開一種被動式觸控系統(tǒng)9，如圖1所示。所述觸控系統(tǒng)9包含觸控面90、四個二維圖像傳感器91以及處理器92。所述二維圖像傳感器91用于獲取橫跨所述觸控面90的二維圖像，所述處理器92根據(jù)所述二維圖像來計算指向裝置對應(yīng)于所述觸控面90的坐標(biāo)。所述被動式觸控系統(tǒng)9中，所述二維圖像傳感器91所獲取的圖像包含二維圖像信息，因此所述處理器92需要處理較大的資料量。因此，為避免所述處理器92處理過多無效信息，所述被動式觸控系統(tǒng)9在校正階段即在所述二維圖像傳感器91所獲取的二維圖像中選擇子集(subset)以降低資料量，且在正常操作時僅根據(jù)被選擇的子集圖像資料進(jìn)行運算而忽略其他未被選擇的圖像資料。然而，由于這種運作方式，所述被動式觸控系統(tǒng)9至少具有下列問題:(I)校正階段即至少必須增加一個選擇子集的步驟；(2)所選擇出的子集未必是最佳圖像區(qū)塊，例如當(dāng)觸控面90出現(xiàn)彎曲(bending)時，即可能無法選出適當(dāng)?shù)淖蛹鴮?dǎo)致后處理時產(chǎn)生錯誤運算的情形；(3)所選擇出的子集為矩形，其仍包含大量的無效信息，故無法有效降低資料傳輸量及后處理的運算量；以及(4)為了清楚地解析出指向裝置的圖像，而使用了具有較大像素陣列(Pixel array)的圖像傳感器，因此所述圖像傳感器91需要較大的設(shè)置空間，故不適用于具有小面積觸控面的電子產(chǎn)品；但若因此縮小像素陣列尺寸，則無法獲取到指向裝置的清晰圖像，而影響到接觸狀態(tài)的判斷。鑒于此，本發(fā)明提出一種光學(xué)觸控系統(tǒng)，其先將二維信息轉(zhuǎn)換為一維信息后再執(zhí)行指示物定位，即使使用具有較小像素陣列的圖像傳感器仍能夠通過維度轉(zhuǎn)換來增加圖像資料的有效性，可降低資料傳輸量并可適用于體積較小的電子產(chǎn)品。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種光學(xué)觸控系統(tǒng)，該光學(xué)觸控系統(tǒng)可有效降低資料傳輸量及增加可適用產(chǎn)品的范圍。本發(fā)明的另一目的是提供一種光學(xué)觸控系統(tǒng)，該光學(xué)觸控系統(tǒng)不需選擇子集以減少運作復(fù)雜度并可避免因選擇不恰當(dāng)?shù)淖蛹鴮?dǎo)致誤運算的情形。為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供一種光學(xué)觸控系統(tǒng)用于定位指示物的二維坐標(biāo)。本發(fā)明實施方式的光學(xué)觸控系統(tǒng)，包含觸控面、至少一個發(fā)光單元、至少一個圖像傳感模塊以及處理單元。所述發(fā)光單元設(shè)置于所述觸控面上。所述圖像傳感模塊獲取來自所述觸控面、所述指示物及所述發(fā)光單元的光線以形成二維圖像，并將整個所述二維圖像轉(zhuǎn)換為一維特征。所述處理單元根據(jù)所述一維特征定位所述指示物。本發(fā)明實施方式的光學(xué)觸控系統(tǒng)，包含觸控面、反光鏡、至少一個發(fā)光條及CMOS圖像傳感器。所述反光鏡以及所述發(fā)光條設(shè)置于所述觸控面上。所述CMOS圖像傳感器獲取來自所述觸控面、所述指示物、所述反光鏡及所述發(fā)光條的光線以形成二維圖像，并將整個所述二維圖像轉(zhuǎn)換為一維特征。所述處理單元根據(jù)所述一維特征定位所述指示物。本發(fā)明實施方式的光學(xué)觸控系統(tǒng)，包含觸控面、三個發(fā)光條以及兩個CMOS圖像傳感器。所述發(fā)光條設(shè)置于所述觸控面上。所述CMOS圖像傳感器分別獲取橫跨所述觸控面并包含所述指示物遮蔽所述發(fā)光條的二維圖像，并將整個所述二維圖像轉(zhuǎn)換為一維特征。所述處理單元根據(jù)所述CMOS圖像傳感器輸出的所述一維特征定位所述指示物。在一個實施方式中，所述三個發(fā)光條合成為延伸于所述觸控面的三邊的一個發(fā)光條。一個實施方式中，所述一維特征為所述二維圖像中，每一行像素的亮度和、平均亮度或加權(quán)平均亮度形成的亮度序列(intensity array)。一個實施方式中，·所述處理單元定義所述亮度序列的比例或平移為閾值序列(threshold array)。一個實施方式中，所述處理單元比較所述亮度序列及所述閾值序列以判斷至少一個接觸點，并根據(jù)所述接觸點與所述一維特征的空間關(guān)系定位所述指示物。本發(fā)明的光學(xué)觸控系統(tǒng)中，所述圖像傳感模塊優(yōu)選包含主動式圖像傳感器，例如CMOS圖像傳感器。本發(fā)明的光學(xué)觸控系統(tǒng)由于不需要選擇子集，可簡化操作程序并可避免根據(jù)不適當(dāng)子集運算導(dǎo)致錯誤控制的情形。


圖1示出熟知被動式觸控系統(tǒng)的示意圖。圖2A和2B示出本發(fā)明實施方式的光學(xué)觸控系統(tǒng)的示意圖。圖3A示出本發(fā)明實施方式的光學(xué)觸控系統(tǒng)的圖像傳感模塊所獲取的二維圖像及輸出的一維特征的示意圖，其不包含指示物信息。圖3B示出本發(fā)明實施方式的光學(xué)觸控系統(tǒng)的圖像傳感模塊所獲取的二維圖像及輸出的一維特征的示意圖，其包含兩個指示物信息。圖4示出本發(fā)明一個實施方式的光學(xué)觸控系統(tǒng)的定位方法的流程圖。圖5示出對應(yīng)于圖4的定位方法的光學(xué)觸控系統(tǒng)。圖6示出本發(fā)明另一實施方式的光學(xué)觸控系統(tǒng)的定位方法的流程圖。圖7示出對應(yīng)于圖6的定位方法的光學(xué)觸控系統(tǒng)。圖8示出圖7的光學(xué)觸控系統(tǒng)的兩個圖像傳感模塊所獲取的二維圖像及輸出的一維特征的示意圖。附圖標(biāo)記說明1、I'光學(xué)觸控系統(tǒng)10觸控面IOi觸控面鏡像101-103觸控面的邊111-113發(fā)光單元114點光源
Iir -112'發(fā)光單元鏡像 12、12'圖像傳感模塊13處理單元14傳輸界面單元8指示物8,指示物鏡像S11-S14, S211-S22 步驟Sld—維特征9被動式觸控系統(tǒng)90觸控面91圖像傳感器92處理器
具體實施例方式為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點更明顯，下文將配合附圖，作詳細(xì)說明如下。在本發(fā)明的說明中，相同的構(gòu)件用相同的符號表示，在此先說明。參照圖2A和2B所示，其示出本發(fā)明實施方式的光學(xué)觸控系統(tǒng)的示意圖。光學(xué)觸控系統(tǒng)I用于定位指示物8，并包含觸控面10、至少一個發(fā)光單元(此處示出為三個發(fā)光單元111-113)、至少一個圖像傳感模塊12 (例如圖2A包含一個圖像傳感模塊而圖2B包含兩個圖像傳感模塊)、處理單元13及傳輸界面單元14 ;有些實施方式中，所述發(fā)光單元111-113的三個或其中兩個可合成為單一的發(fā)光單元(詳 述于后)。所述觸控面10可由適當(dāng)材質(zhì)所制成，供所述指示物8在它上面進(jìn)行操控。所述指示物8例如可以是使用者的手指、筆、觸控桿等，并無特定限制。所述發(fā)光單元111-113設(shè)置于所述觸控面10上，它可從主動光源或被動光源中進(jìn)行適當(dāng)選擇，其中所述主動光源可主動發(fā)光而所述被動光源可被動地反射主動光源或環(huán)境光源所發(fā)出的光。一種實施方式中，所述發(fā)光單兀111及112為主動光源(例如發(fā)光條)而所述發(fā)光單元113為被動光源(例如反光鏡)用于反射所述發(fā)光單元111及112所發(fā)出的光，此時所述光學(xué)觸控系統(tǒng)I包含一個圖像傳感模塊12，其視角范圍優(yōu)選至少包含所述發(fā)光單元112及113(圖2A);另一實施方式中，所述發(fā)光單元111可不予實施，所述光學(xué)觸控系統(tǒng)I僅包含所述主動光源112及所述被動光源113。藉此，所述指示物8可遮蔽所述發(fā)光單元112以形成遮蔽光影并于所述反光鏡(發(fā)光單元113)形成鏡像，所述處理單元13即可根據(jù)所述遮蔽光影及所述鏡像來定位所述指示物8的二維位置(詳述于后)。另一實施方式中，所述發(fā)光單元111可不予實施，所述光學(xué)觸控系統(tǒng)I僅包含延伸于所述觸控面10的第二邊102及第三邊103的被動光源，所述光學(xué)觸控系統(tǒng)I還包含點光源114用于照明所述被動光源，例如圖2A中，所述點光源114設(shè)置于所述圖像傳感模塊12附近。另一實施方式中，所述發(fā)光單兀111-113均為主動光源,此時所述光學(xué)觸控系統(tǒng)I優(yōu)選包含兩個圖像傳感模塊12及12'，如圖2B所示。此實施方式中，每一圖像傳感模塊12及12'的視角范圍至少包含兩個所述發(fā)光單元111-113，例如所述圖像傳感模塊12的視角范圍優(yōu)選至少包含所述發(fā)光單元112及113 ;所述圖像傳感模塊12'的視角范圍優(yōu)選至少包含所述發(fā)光單元111及113。其他實施方式中，當(dāng)所述發(fā)光單元111-113合成為延伸于所述觸控面10的第一邊101、第二邊102及第三邊103的單一發(fā)光單元時，每一圖像傳感模塊12及12'的視角范圍至少包含所述單一發(fā)光單元的至少一個部分。所述圖像傳感模塊12及12'可分別獲取所述指示物8遮蔽所述發(fā)光單元(或所述發(fā)光單元111-113)的遮蔽光影并通過三角運算定位所述指示物8的二維位置；或者，在映射平面空間中計算圖像傳感模塊位置與遮蔽光影位置連線的聯(lián)立方程式的解(例如圖像傳感模塊12及遮蔽光影的第一連線與圖像傳感模塊12'及遮蔽光影的第二連線的交點)，作為指示物坐標(biāo)。 所述圖像傳感模塊12及12'優(yōu)選包含主動式圖像傳感器，例如CMOS圖像傳感器。所述主動式圖像傳感器具有二維像素陣列，其尺寸優(yōu)選低于640X8像素，因而可適用于觸控面10的面積較小的電子裝置。所述圖像傳感模塊12及12'用于獲取橫跨所述觸控面10的二維圖像，因此當(dāng)所述指示物8靠近或接觸所述觸控面10時，所述圖像傳感模塊12及12'可獲取來自所述觸控面10、所述指示物8及所述發(fā)光單元(或所述發(fā)光單元111-113)的光線以形成所述二維圖像，并將整個所述二維圖像轉(zhuǎn)換為一維特征Sld后(詳述于后)，將所述一維特征輸出至所述處理單元13進(jìn)行后處理以定位所述指示物8?？梢粤私獾氖牵鲜龆S像素陣列的尺寸僅為示例性，并非用于限制本發(fā)明?？梢粤私獾氖牵灰鰣D像傳感模塊12及12'能夠獲取所述指示物8遮蔽所述發(fā)光單元111-113的信息，所述圖像傳感模塊12及12'與所述發(fā)光單元111-113的位置關(guān)系并不限于圖2A和2B所公開的。所述處理單元13接收來自所述圖像傳感模塊12及12'的一維特征，并根據(jù)指示物信息(即接觸點)位于所述一維特征中的位置以及所述圖像傳感模塊12及12'設(shè)置于所述觸控面10的位置，計算所述指示物8相對所述觸控面10的二維位置；其中，根據(jù)接觸點的一維空間關(guān)系定位所述指示物8的實施方式，例如可參照讓給本發(fā)明相同受讓人的美國專利第7，689，381號，標(biāo)題為“傳感系統(tǒng)”中所公開的。所述傳輸界面單元14用于有線或無線地輸出所述處理單元13所求得的二維位置到外部控制單元以相對控制電子產(chǎn)品執(zhí)行特定功能，其中有線及無線傳輸技術(shù)已為熟知，故于此不再贅述。以下將說明圖像傳感模塊轉(zhuǎn)換二維圖像至一維特征的方式及處理單元判斷至少一個接觸點的方式，其中此處僅以所述圖像傳感模塊12作說明，而所述圖像傳感模塊12'所執(zhí)行的動作也相同。 參照圖3A和3B所示，圖3A示出光學(xué)觸控系統(tǒng)I的圖像傳感模塊12獲取的二維圖像(上圖)及輸出的一維特征(下圖)的示意圖，其不包含指示物信息；圖3B示出光學(xué)觸控系統(tǒng)I的圖像傳感模塊12獲取的二維圖像及輸出的一維特征的示意圖，其包含兩個指示物信息。當(dāng)所述指示物8未靠近或接觸所述觸控面10時(圖3A)，所述圖像傳感模塊12例如獲取高度為H像素且寬度為W像素的二維圖像；其中每一像素的亮度例如以Ixy表示，X表示寬度方向像素位置而I表示高度方向像素位置。所述圖像傳感模塊12根據(jù)整個HXW二維圖像計算每一行像素的亮度和(公式I)、平均亮度(公式2)或加權(quán)平均亮度(公式
3)，
H亮度和4= Σ(1)平均亮度4=(fX)/丑…(2)
產(chǎn)I/加權(quán)平均亮度= (Y4Wlxy) H...(3 )
產(chǎn)I/所述圖像傳感模塊12輸出每一行像素的亮度和、平均亮度或加權(quán)平均亮度的亮度序列Pb = [AJ作為一維特征Sld，其被傳送到所述處理單元13進(jìn)行后處理；其中加權(quán)權(quán)重w可根據(jù)所要處理的像素范圍決定。所述處理單元13接著定義閾值序列用于判定所述指示物8是否接觸所述觸控面
10。一種實施方式中，所述處理單元13將比例乘以所述亮度序列r XPb (例如r = 0.5-0.9,優(yōu)選r = 0.8)或?qū)⑺隽炼刃蛄蠵b進(jìn)行平移作為所述閾值序列?？梢粤私獾氖?，所述比例及平移量可選擇適當(dāng)數(shù)值，例如可根據(jù)系統(tǒng)靈敏度決定，并無特定限制。此外，根據(jù)所獲取的二維圖像的亮度分布，相對不同行的像素可使用不同比例或平移量，例如閾值序列也可為rxXPB，其中rx可隨X值改變并可根據(jù)所要處理的像素范圍決定，并無特定限制。所述閾值序列rXPB*rxXPB可在每次系統(tǒng)開機(jī)時或受到指示時的適當(dāng)時間經(jīng)計算并儲存于所述處理單元13中。當(dāng)所述指示物8靠近或接觸所述觸控面10時(圖3B)，所述圖像傳感模塊12同樣獲取高度為H像素且寬度為W像素的二維圖像,并輸出每一行像素的亮度和、平均亮度或加權(quán)平均亮度的亮度序列作為一維特征Sld，其同樣被傳送至所述處理單元13進(jìn)行后處理。所述處理單元13則比較所述亮度序列Pb'與所述閾值序列rXPB*rxXPB#判斷所述指示物8是否出現(xiàn)于一維特征中。例如，當(dāng)某行像素的亮度和、平均亮度或加權(quán)平均亮度小于相對應(yīng)行的閾值時，則判斷為接觸點，例如圖3B示出接觸點I及接觸點2。所述處理單元13則根據(jù)出現(xiàn)接觸點的位置與寬度W的空間關(guān)系定位所述指示物8。其他實施方式中，所述圖像傳感模塊12還可包含濾光器設(shè)置于其所包含的像素陣列前方，以使所述像素陣列可以針對某特定區(qū)域進(jìn)行圖像獲取以降低所述特定區(qū)域以外的像素信號對定位程序的影響程度。參照圖4所示，其示出本發(fā)明一個實施方式的光學(xué)觸控系統(tǒng)的定位方法的流程圖，包含下列步驟:以圖像傳感模塊獲取二維圖像(步驟S11);轉(zhuǎn)換所述二維圖像為一維特征(步驟S12);根據(jù)所述一維特征判斷至少一個接觸點(步驟S13);以及根據(jù)所述接觸點定位指示物(步驟S14)。參照圖2A-5所示，圖5示出對應(yīng)于圖4的定位方法的光學(xué)觸控系統(tǒng)。此實施方式中，所述光學(xué)觸控系統(tǒng)包含觸控面10、至少一個發(fā)光條(此處示出為兩發(fā)光條111-112)、反光鏡113、圖像傳感模塊12及處理單元13。所述發(fā)光條111-112及所述反光鏡113均設(shè)置于所述觸控面10上；所述圖像傳感模塊12包含CMOS圖像傳感器，用于獲取所述觸控面10、指示物8、反光鏡113及發(fā)光條111-112的光線以形成二維圖像，并將整個所述二維圖像轉(zhuǎn)換為一維特征。所述處理單元13根據(jù)所述一維特征定位所述指示物8。如前所述，所述發(fā)光條111可不予實施；或者所述發(fā)光條111及112均不予實施，而所述反光鏡113延伸于所述觸控面10的兩個邊，且所述光學(xué)觸控系統(tǒng)I還包含點光源114以照明所述反光鏡113。步驟S11:所述CMOS圖像傳感器獲取如圖3A和3B所示HXW的二維圖像。此實施方式中，由于所述發(fā)光單元113為反光鏡，所述觸控面10、所述發(fā)光單元111-112及所述指示物8會在所述反光鏡113中分別形成觸控面鏡像10'、發(fā)光單元鏡像111' -112'及指示物鏡像8'，因此所述二維圖像中將包含至少一個指示物信息，如圖3B所示。步驟S12:所述圖像傳感模塊12根據(jù)公式(I)至(3)其中之一計算出每行像素的亮度和、平均亮度或加權(quán)平均亮度后，輸出每一行像素的亮度和、平均亮度或加權(quán)平均亮度的亮度序列Pb作為一維特征。
步驟S13:所述處理單元13根據(jù)所述亮度序列Pb決定閾值序列r XPb或rxXPB，并根據(jù)所述亮度序列Pb與所述閾值序列rXPB或rxXPB的比較結(jié)果判斷至少一個接觸點，此時所述一維特征示出為兩個接觸點；其中一個接觸點對應(yīng)于所述指示物8而另一接觸點對應(yīng)于所述指示物鏡像8'。步驟S14:所述處理單元13根據(jù)所述接觸點與寬度W的空間關(guān)系對所述指示物8進(jìn)行定位。如前所述，所述定位方式可使用熟知方式，故于此不再贅述。參照圖6所示，其示出本發(fā)明另一實施方式的光學(xué)觸控系統(tǒng)的定位方法的流程圖，包含下列步驟:以第一圖像傳感模塊獲取第一二維圖像(步驟S211);轉(zhuǎn)換所述第一二維圖像為第一一維特征(步驟S212);根據(jù)所述第一一維特征判斷第一接觸點(步驟S213);以第二圖像傳感模塊獲取第二二維圖像(步驟S221);轉(zhuǎn)換所述第二二維圖像為第二一維特征(步驟S222);根據(jù)所述第二一維特征判斷第二接觸點(步驟S223);以及根據(jù)所述第一接觸點及所述第二接觸點定位指示物(步驟S22)。參照圖2B和6-8所示，圖7示出對應(yīng)于圖6的定位方法的光學(xué)觸控系統(tǒng)；圖8示出圖7的光學(xué)觸控系統(tǒng)的兩個圖像傳感模塊所獲取的二維圖像及輸出的一維特征的示意圖。此實施方式中，所述光學(xué)觸控系統(tǒng)包含觸控面10、三個發(fā)光條111-113、兩圖像傳感模塊12及12'及處理單元13。所述發(fā)光條111-113均設(shè)置于所述觸控面10上；所述圖像傳感模塊12及12'包含CMOS圖像傳感器，用于分別獲取橫跨所述觸控面10并包含所述指示物8遮蔽所述發(fā)光條111-113的二維圖像，并將整個所述二維圖像轉(zhuǎn)換為一維特征。所述處理單元13則根據(jù)所述CMOS圖像傳感器輸出的所述一維特征定位所述指示物8。如前所述，所述發(fā)光條111-113也可合成為單一發(fā)光條并延伸于所述觸控面10的三個邊。步驟S211及S221:所述CMOS圖像傳感器分別獲取HXW的二維圖像，如圖8所示。步驟S212及S222:所述圖像傳感模塊12及12'根據(jù)公式⑴至(3)其中之一分別計算出每行像素的亮度和、平均亮度或加權(quán)平均亮度后，輸出每一行像素的亮度和、平均亮度或加權(quán)平均亮度的亮度序列Pb作為一維特征Sld、S1/。步驟S213及S223:所述處理單元13定義閾值序列r XPb或rxXPB，并根據(jù)所述亮度序列Pb與所述閾值序列rXPB或rxXPB的比較結(jié)果判斷接觸點，此時每一個一維特征示出為接觸點(亮度凹部)。步驟S22:所述處理單元13根據(jù)所述接觸點與寬度W的空間關(guān)系對定位所述指示物8。如前所述，所述定位方式可使用熟知方式，故于此不再贅述。本發(fā)明中，由于所述圖像傳感模塊12及12'具有較小的像素陣列，因此可有效降低元件尺寸以適用于體積較小的電子產(chǎn)品。通過二維與一維的轉(zhuǎn)換，即使縮小像素陣列的尺寸，仍能夠有效判斷接觸點位置。此外，所述圖像傳感模塊12及12'僅輸出一維特征至所述處理單元13，可有效降低所述圖像傳感模塊12及12'與所述處理單元13間的資料傳輸容量，并可降低所述處理單元13的資料處理量。綜上所述，熟知被動式觸控系統(tǒng)具有處理資料量大、不適用于體積小的電子產(chǎn)品、運作過程復(fù)雜以及不易決定適當(dāng)像素子集等問題。本發(fā)明還提出一種光學(xué)觸控系統(tǒng)，即使縮小像素陣列尺寸仍能夠正確對指示物進(jìn)行定位，并具有資料量小及運作簡單等優(yōu)點，并且可適用于較廣泛的電子產(chǎn)品。雖然本發(fā)明已以上述實施方式公開，然而它并非用于限制本發(fā)明，任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，可以作各種變動與修改。因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所附的權(quán)利要求書所界定的為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)觸控系統(tǒng)，用于定位指示物，所述光學(xué)觸控系統(tǒng)包含: 觸控面； 至少一個發(fā)光單元，設(shè)置于所述觸控面上； 至少一個圖像傳感模塊，獲取所述觸控面、所述指示物及所述發(fā)光單元的光線以形成二維圖像，并將整個所述二維圖像轉(zhuǎn)換為一維特征；以及處理單元，根據(jù)所述一維特征定位所述指示物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)觸控系統(tǒng)，其中所述一維特征為所述二維圖像中每一行像素的亮度和、平均亮度或加權(quán)平均亮度形成的亮度序列。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)觸控系統(tǒng)，其中所述處理單元定義所述亮度序列的比例或平移為閾值序列。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)觸控系統(tǒng)，其中所述處理單元比較所述亮度序列及所述閾值序列以判斷至少一個接觸點，并根據(jù)所述接觸點定位所述指示物。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)觸控系統(tǒng)，其中所述至少一個發(fā)光單元包含反光鏡及至少一個發(fā)光條，或包含延伸于所述觸控面的兩個邊的反光鏡及一個點光源；所述光學(xué)觸控系統(tǒng)包含一個圖像傳感模塊。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)觸控系統(tǒng)，其中所述發(fā)光單元包含三個發(fā)光條，或包含延伸于所述觸控面的三個 邊的發(fā)光條；所述光學(xué)觸控系統(tǒng)包含兩個圖像傳感模塊。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)觸控系統(tǒng)，其中所述圖像傳感模塊包含CMOS圖像傳感器。
8.一種光學(xué)觸控系統(tǒng)，用于定位指示物，所述光學(xué)觸控系統(tǒng)包含: 觸控面； 反光鏡，設(shè)置于所述觸控面上； 至少一個發(fā)光條，設(shè)置于所述觸控面上； CMOS圖像傳感器，獲取所述觸控面、所述指示物、所述反光鏡及所述發(fā)光條的光線以形成二維圖像，并將整個所述二維圖像轉(zhuǎn)換為一維特征；以及處理單元，根據(jù)所述一維特征定位所述指示物。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)觸控系統(tǒng)，其中所述一維特征為所述二維圖像中每一行像素的亮度和、平均亮度或加權(quán)平均亮度形成的亮度序列。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)觸控系統(tǒng)，其中所述處理單元定義所述亮度序列的比例或平移為閾值序列。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光學(xué)觸控系統(tǒng)，其中所述處理單元比較所述亮度序列及所述閾值序列以判斷至少一個接觸點，并根據(jù)所述接觸點定位所述指示物。
12.一種光學(xué)觸控系統(tǒng)，用于定位指示物，所述光學(xué)觸控系統(tǒng)包含: 觸控面； 三個發(fā)光條，置于所述觸控面上； 兩個CMOS圖像傳感器，分別獲取橫跨所述觸控面并包含所述指示物遮蔽所述發(fā)光條的二維圖像，并將整個所述二維圖像轉(zhuǎn)換為一維特征；以及 處理單元，根據(jù)所述CMOS圖像傳感器輸出的所述一維特征定位所述指示物。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光學(xué)觸控系統(tǒng)，其中所述一維特征為所述二維圖像中每一行像素的亮度和、平均亮度或加權(quán)平均亮度形成的亮度序列。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的光學(xué)觸控系統(tǒng)，其中所述處理單元定義所述亮度序列的比例或平移為閾值序列。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的光學(xué)觸控系統(tǒng)，其中所述處理單元比較所述亮度序列及所述閾值序列以判斷接觸點，并根據(jù)所述接觸點定位所述指示物。
16.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光學(xué)觸控系統(tǒng),其中所述三個發(fā)光條合成延伸于所述觸控面的三邊的一 個發(fā)光條。
全文摘要
一種光學(xué)觸控系統(tǒng)，包含至少一個發(fā)光單元、至少一個圖像傳感模塊及處理單元。所述圖像傳感模塊用于獲取指示物及所述發(fā)光單元的光線以形成二維圖像并將整個所述二維圖像轉(zhuǎn)換為一維特征。所述處理單元根據(jù)所述一維特征定位所述指示物。
文檔編號G06F3/042GK103186291SQ201110451259
公開日2013年7月3日 申請日期2011年12月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月29日
發(fā)明者蘇宗敏, 林志新, 柯怡賢, 高銘璨 申請人:原相科技股份有限公司