專利名稱：輸入裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及能夠檢測輸入位置的輸入裝置，尤其涉及射出光的部分和受光的部分接近設(shè)置的輸入裝置。
背景技術(shù)：
在下述專利文獻I中公開有在輸入裝置上設(shè)置的非接觸式傳感器。非接觸式傳感器感知外部物體的近接的有無。在專利文獻I中記載有基于非接觸式傳感器的檢測結(jié)果來切換畫面顯示的技術(shù)。在專利文獻2中公開有一種紅外光傳感器，而這樣的紅外光傳感器能夠應用于專利文獻I所示的非接觸式傳感器。
然而，在形成有透明層的輸入裝置(觸摸面板)上配置非接觸式傳感器時，即使外部物體未近接，也存在從光源照射的光在透明層內(nèi)透過而向受光部返回引起的誤檢測的情況。另外，在專利文獻3及專利文獻4中公開了涉及設(shè)置有照度傳感器的輸入裝置的發(fā)明，并記載有基于照度來控制背光燈的亮度的技術(shù)。然而，當在照度傳感器的附近例如配置移動燈，且要在觀察液晶畫面的同時使移動燈點亮來通過相機拍攝人或風景等時，若來自移動燈的光泄漏到照度傳感器上，則照度傳感器可能會誤認為周圍明亮，而降低背光燈亮度，以使液晶畫面變暗。在先技術(shù)文獻專利文獻專利文獻I :國際公開W02007/032353號專利文獻2 :日本特開2008-241807號公報專利文獻3 :日本特開2010-166260號公報專利文獻4 :日本特開2001-223792號公報

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明用于解決上述現(xiàn)有的課題，其目的在于提供一種尤其是能夠抑制射出光的部分與受光的部分接近設(shè)置時因漏光引起的誤檢測的輸入裝置。本發(fā)明提供一種輸入裝置，其能夠檢測操作面的操作位置，且具有透明層，所述輸入裝置的特征在于，具有第一區(qū)域及第二區(qū)域，它們在所述輸入裝置的背面與表面之間能夠使光通過，且位于相互分離的位置；抑制部，在從所述第一區(qū)域的所述背面?zhèn)瘸蛩霰砻鎮(zhèn)壬涑龉鈺r，其用于抑制所述光從所述第一區(qū)域在所述透明層內(nèi)透過而向所述第二區(qū)域內(nèi)進入。根據(jù)本發(fā)明的輸入裝置的結(jié)構(gòu)，能夠抑制在第一區(qū)域內(nèi)從背面?zhèn)瘸虮砻鎮(zhèn)壬涑龅墓庠谕该鲗觾?nèi)透過而向第二區(qū)域內(nèi)進入的情況。因此，在第一區(qū)域的背面?zhèn)扰渲霉獬錾洳浚以诘诙^(qū)域的背面?zhèn)扰渲檬芄獠繒r，能夠抑制從光出射部照射的光在透明層內(nèi)透過而向受光部進入的不良情況，由此，與以往相比，能夠抑制誤檢測。在本發(fā)明中，還可以構(gòu)成為，所述抑制部為在位于所述第一區(qū)域與所述第二區(qū)域之間的所述透明層上形成的間隙部。例如，所述間隙部優(yōu)選以狹縫形狀形成。由此，即使在第一區(qū)域內(nèi)從背面?zhèn)瘸虮砻鎮(zhèn)壬涑龅墓獾囊徊糠窒虻谝粎^(qū)域與第二區(qū)域之間的透明層內(nèi)侵入，所述光也在間隙部的位置處引起漫反射等而衰減。由此，能夠抑制從第一區(qū)域經(jīng)由透明層向第二區(qū)域內(nèi)漏出的光的量。并且，能夠以簡單的結(jié)構(gòu)形成抑制部。另外，在本發(fā)明中，優(yōu)選所述間隙部的所述第一區(qū)域側(cè)的第一側(cè)壁面或所述第二區(qū)域側(cè)的第二側(cè)壁面中的至少一方從所述背面?zhèn)瘸蛩霰砻鎮(zhèn)榷蓛A斜面形成。并且，此時，優(yōu)選在所述第一側(cè)壁面或所述第二側(cè)壁面上施加粗糙面處理、棱鏡或遮光膜。由此，在光從第一區(qū)域側(cè)向間隙部進入時能夠使光有效地擴散。另外，在本發(fā)明中，所述第一區(qū)域及所述第二區(qū)域分別通過由空間形成的第一空間部及第二空間部構(gòu)成。 在本發(fā)明中，可以構(gòu)成為，在所述第一空間部或所述第二空間部中的至少一方，在所述第一空間部與所述第二空間部隔著所述透明層而面對的側(cè)壁面上形成有作為所述抑制部的遮光膜。由此，例如在將遮光膜形成在第二空間部的側(cè)壁面上的情況下，即使在第一空間部內(nèi)從背面?zhèn)瘸虮砻鎮(zhèn)壬涑龅墓獾囊徊糠窒虻谝豢臻g部與第二空間部之間的透明層內(nèi)侵入，通過遮光膜也能夠抑制光向第二空間部內(nèi)漏出的情況。或者，在將遮光膜形成在第一空間部的側(cè)壁面上的情況下，能夠根本上抑制在第一空間部內(nèi)從背面?zhèn)瘸虮砻鎮(zhèn)壬涑龅墓庀虻谝豢臻g部與第二空間部之間的透明層內(nèi)侵入的情況。也可以將遮光膜設(shè)置在第一空間部及第二空間部這雙方的側(cè)壁面上。另外，在本發(fā)明中，可以構(gòu)成為，在所述第一空間部或所述第二空間部中的至少一方，形成使所述第一空間部與所述第二空間部隔著所述透明層而面對的側(cè)壁面粗糙或?qū)λ鰝?cè)壁面施加有棱鏡的所述抑制部。由此，在第二空間部的側(cè)壁面的表面上施加粗加工或棱鏡加工的情況下，即使在第一空間部內(nèi)從背面?zhèn)瘸虮砻鎮(zhèn)壬涑龅墓獾囊徊糠窒虻谝豢臻g部與第二空間部之間的透明層內(nèi)侵入，也能夠有效地使光擴散(漫反射)。因此，能夠抑制在第二空間部內(nèi)向背面方向返回的光的量?；蛘撸乖诘谝豢臻g部內(nèi)從背面?zhèn)瘸虮砻鎮(zhèn)壬涑龅墓獾囊徊糠謹U散，從而能夠抑制光向第一空間部與第二空間部之間的透明層內(nèi)侵入的情況，因此，能夠抑制在第二空間部內(nèi)向背面方向返回的光的量。也可以將粗加工或棱鏡加工形成在第一空間部及第二空間部這雙方的側(cè)壁面上。另外，在本發(fā)明中，可以構(gòu)成為，在隔著所述透明層與所述第一空間部面對的所述第二空間部的側(cè)壁面上形成有從所述背面?zhèn)鹊剿霰砻鎮(zhèn)戎饾u向所述第一空間部的方向傾斜的作為所述抑制部的傾斜面。由此，即使在第一空間部內(nèi)從背面?zhèn)瘸虮砻鎮(zhèn)壬涑龅墓獾囊徊糠衷诘谝豢臻g部與第二空間部之間的透明層內(nèi)透過，通過所述傾斜面也能夠減少向第二空間部內(nèi)的背面方向漏出的光的量。另外，在本發(fā)明中，優(yōu)選所述輸入裝置中設(shè)有傳感器基板，該傳感器基板具有透明基材和透明電極作為所述透明層，且所述輸入裝置中形成有貫通所述傳感器基板的所述第一空間部及所述第二空間部。另外，在本發(fā)明中，優(yōu)選所述傳感器基板由透明的頂板支承，所述第一空間部及所述第二空間部的表面?zhèn)鹊拈_口部由所述頂板閉塞。由于第一空間部及第二空間部的表面?zhèn)鹊拈_口部閉塞，也此能夠阻止灰塵或水分向第一空間部及第二空間部進入的情況。并且，也能夠良好地保持從第一空間部經(jīng)由頂板的光的出射效率、從頂板側(cè)向第二空間部內(nèi)的受光效率。在本發(fā)明中，優(yōu)選所述輸入裝置中設(shè)有表面由操作面構(gòu)成的輸入?yún)^(qū)域、位于所述輸入?yún)^(qū)域的周圍的非輸入?yún)^(qū)域，在所述輸入?yún)^(qū)域，光沿厚度方向透過，在所述非輸入?yún)^(qū)域，在所述透明層以外設(shè)有裝飾層而以非透光性構(gòu)成，以免光沿厚度方向透過，所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域及所述抑制部設(shè)置在所述非輸入?yún)^(qū)域，在所述裝飾層上的與所述第一區(qū)域及所述第二區(qū)域?qū)χ玫奈恢眯纬捎虚_口部。由此，在非輸入?yún)^(qū)域能夠適當?shù)卦O(shè)置非接觸式傳感器。
另外，在本發(fā)明中，在位于最背面?zhèn)鹊耐该骰纳现辽僭O(shè)有所述抑制部是有效的。另外，本發(fā)明的輸入裝置適合適用于如下結(jié)構(gòu)具有配置在所述第一區(qū)域的背面?zhèn)鹊墓獬錾洳亢团渲迷谒龅诙^(qū)域的背面?zhèn)鹊氖芄獠?。例如，所述光出射部為?gòu)成非接觸式傳感器的光源，所述受光部為構(gòu)成所述非接觸式傳感器的受光元件。由此，能夠抑制從光源照射的光在透明層內(nèi)透過而向受光元件返回的不良情況，由此，與以往相比，能夠抑制非接觸式傳感器的誤檢測?；蛘撸軌蜻m用于如下結(jié)構(gòu)所述光出射部為燈部，所述受光部為照度傳感器。燈部是例如相機攝影時的移動燈，照度傳感器是用于基于周圍的照度來對例如液晶顯示器的背光燈亮度進行調(diào)整的構(gòu)件。根據(jù)本發(fā)明的結(jié)構(gòu)，能夠抑制從燈部照射的光在透明層內(nèi)透過而向照度傳感器漏出的不良情況，由此，與以往相比，能夠抑制照度傳感器的誤檢測。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明的輸入裝置的結(jié)構(gòu)，能夠抑制在第一區(qū)域內(nèi)從背面?zhèn)瘸虮砻鎮(zhèn)壬涑龅墓庠趶牡谝粎^(qū)域向第二區(qū)域方向的透明層內(nèi)透過而向第二區(qū)域內(nèi)進入的情況。因此，在第一區(qū)域的背面?zhèn)扰渲霉獬錾洳浚以诘诙^(qū)域的背面?zhèn)扰渲檬芄獠繒r，能夠抑制從光出射部照射的光在透明層內(nèi)透過而向受光部進入的不良情況，由此，與以往相比，能夠抑制受光部的誤檢測。


圖I是本實施方式的靜電電容式的輸入裝置的分解立體圖。圖2是將圖I所示輸入裝置形成為組裝后的狀態(tài)并沿著A-A線剖開而從箭頭方向觀察到的局部放大縱向剖視圖。圖3(a)是將圖I所示輸入裝置形成為組裝后的狀態(tài)并沿著B_B線剖開而從箭頭方向觀察到的局部放大縱向剖視圖(設(shè)置有非接觸式傳感器的位置處的局部放大縱向剖視圖)，圖3(b)是第一空間部、第二空間部及狹縫部(抑制部)的俯視圖，圖3(c)是用于說明由非接觸式傳感器對外部物體進行檢測的檢測原理的說明圖(與圖3(a)相同的局部縱向剖視圖)。圖4是比較例中的輸入裝置的局部縱向剖視圖。圖5(a)、(b)是表示第一空間部、第二空間部及與圖3(b)不同的狹縫部(抑制部)的形狀的俯視圖。
圖6 (a) 圖6(c)是作為抑制部而示出狹縫部以外的結(jié)構(gòu)的另一實施方式中的輸入裝置的局部縱向剖視圖。圖7是圖6(a)所示的第一空間部及第二空間部的俯視圖。圖8是具備與圖I、圖2不同的傳感器基板的輸入裝置的局部縱向剖視圖。圖9是具備與圖I、圖2不同的傳感器基板的輸入裝置的局部縱向剖視圖。圖10是圖9的輸入裝置中設(shè)置有非接觸式傳感器的位置處的局部縱向剖視圖。圖11(a)是具有與圖I、圖2、圖8 圖10不同的傳感器基板的結(jié)構(gòu)的輸入裝置的局部俯視圖(透明電極的局部俯視圖)，圖11(b)是沿著圖11(a)所示的c-c線剖開而從箭頭方向觀察時的局部縱向剖視圖。
圖12(a)是電阻膜式的輸入裝置中的設(shè)置有非接觸式傳感器的位置處的局部縱向剖視圖，圖12(b)是電阻膜式的輸入裝置中的輸入?yún)^(qū)域處的局部縱向剖視圖。圖13是與圖12結(jié)構(gòu)不同的電阻膜式的輸入裝置中的設(shè)置有非接觸式傳感器的位置處的局部縱向剖視圖。圖14(a)是電阻膜式的輸入裝置中的設(shè)置有移動燈和照度傳感器的位置處的局部縱向剖視圖，圖14(b)是將狹縫部的截面結(jié)構(gòu)放大而示出的局部放大縱向剖視圖，圖14(c)是第一區(qū)域、第二區(qū)域及狹縫部的俯視圖。圖15是靜電電容式的輸入裝置中的設(shè)置有移動燈和照度傳感器的位置處的局部縱向剖視圖。
具體實施例方式圖I是本實施方式的靜電電容式的輸入裝置的分解立體圖。圖2是將圖I所示輸入裝置形成為組裝后的狀態(tài)并沿著A-A線剖開而從箭頭方向觀察到的局部放大縱向剖視圖。圖3(a)是將圖I所示輸入裝置形成為組裝后的狀態(tài)并沿著B-B線剖開而從箭頭方向觀察到的局部放大縱向剖視圖(設(shè)置有非接觸式傳感器的位置處的局部放大縱向剖視圖)。圖3(b)是第一空間部、第二空間部及狹縫部(抑制部)的俯視圖。圖3(c)是用于說明由非接觸式傳感器對外部物體進行檢測的檢測原理的說明圖(與圖3(a)相同的局部縱向剖視圖)。圖4是比較例中的輸入裝置的局部縱向剖視圖。圖5(a)、(b)是表示第一空間部、第二空間部及與圖3(b)不同的狹縫部(抑制部)的形狀的俯視圖。圖6(a) 圖6(c)是作為抑制部而示出狹縫部以外的結(jié)構(gòu)的另一實施方式中的輸入裝置的局部縱向剖視圖。圖7是圖6(a)所示的第一空間部及第二空間部的俯視圖。圖8、圖9是具備與圖I、圖2不同的傳感器基板的輸入裝置的局部縱向剖視圖。圖10是圖9的輸入裝置中設(shè)置有非接觸式傳感器的位置處的局部縱向剖視圖。圖11 (a)是具有與圖I、圖2、圖8 圖10不同的傳感器基板的結(jié)構(gòu)的輸入裝置的局部俯視圖(透明電極的局部俯視圖)，圖11(b)是沿著圖11(a)所示的c-c線剖開而從箭頭方向觀察時的局部縱向剖視圖。圖12(a)是電阻膜式的輸入裝置中的設(shè)置有非接觸式傳感器的位置處的局部縱向剖視圖，圖12(b)是電阻膜式的輸入裝置中的輸入?yún)^(qū)域處的局部縱向剖視圖。如圖I所示，輸入裝置10具有頂板20、上部基板21、下部基板22及柔性印刷電路板23等而構(gòu)成。頂板20由塑料或玻璃形成。頂板20例如由玻璃形成。如圖I所示，頂板20被區(qū)分為透光性的輸入?yún)^(qū)域11和包圍輸入?yún)^(qū)域11的周圍的被著色了的非透光性的非輸入?yún)^(qū)域12。在非輸入?yún)^(qū)域12中，在頂板20的下表面20b設(shè)有裝飾層18。頂板20的表面為輸入裝置10的表面10a。表面IOa中，輸入?yún)^(qū)域11的位置為通過手指等能夠操作的操作面S。另夕卜，非輸入?yún)^(qū)域12例如以框狀形成。如圖I、圖2所示，在下部基板22的下部透明基材(透明基材)24的表面形成有由ITOdndium Tin Oxide)等的透明導電層構(gòu)成的下部電極(透明電極)14。如圖I所示，在輸入?yún)^(qū)域11以規(guī)定的圖案形狀形成有多根下部電極14。在圖I中，各下部電極14沿著X-Y平面的例如X1-X2方向延伸，且多個各下部電極14在Y1-Y2方向上隔開間隔配置(在圖I中，僅圖示出下部電極14的一部分)。如圖I所示，與在輸入?yún)^(qū)域11形成的各下部電極14電連接的配線部19被拉回到包圍輸入?yún)^(qū)域11的周圍的非輸入?yún)^(qū)域12。配線部19被從非輸入?yún)^(qū)域12的Xl側(cè)區(qū)域及X2側(cè)區(qū)域分別拉回，各配線部19的前端在非輸入?yún)^(qū)域12的Y2側(cè)區(qū)域構(gòu)成連接部17。配線部19由具有Ag、Cu等的金屬層形成。 下部透明基材24由聚對苯二甲酸乙二醇酯等樹脂或玻璃的透明基材構(gòu)成。下部透明基材24可以為在樹脂基材的表背面形成有由聚酯樹脂或環(huán)氧樹脂等絕緣材料構(gòu)成的涂層的形態(tài)。如圖I、圖2所示，在上部基板21的上部透明基材(透明基材)25的表面形成有由ITOdndium Tin Oxide)等的透明導電層構(gòu)成的上部電極13。如圖I所示，在輸入?yún)^(qū)域11以規(guī)定的圖案形狀形成有多根上部電極13。在圖I中，各上部電極13沿著X-Y平面的例如Y1-Y2方向延伸，且多個各上部電極13在X1-X2方向上隔開間隔配置(在圖I中，僅圖示出上部電極13的一部分)。這樣在輸入?yún)^(qū)域11上形成的各上部電極13與各下部電極14正交。在本實施方式中，與各上部電極13電連接的配線部(未圖示)被拉回到非輸入?yún)^(qū)域12。在上部基板21形成的各配線部的前端構(gòu)成圖I所示的連接部15。上部透明基材25由聚對苯二甲酸乙二醇酯等樹脂或玻璃的透明基材構(gòu)成。上部透明基材25可以為在樹脂基材的表背面形成有由聚酯樹脂或環(huán)氧樹脂等絕緣材料構(gòu)成的涂層的形態(tài)。如圖2所示，下部基板22與上部基板21之間經(jīng)由光學透明粘接層(OCA) 26接合。并且，通過下部基板22、光學透明粘接層26及上部基板21的層疊結(jié)構(gòu)構(gòu)成傳感器基板16。另外，如圖2所示，頂板20與上部基板21之間經(jīng)由光學透明粘接層(OCA) 27接合。另外，如圖2所示，在下部基板22的下表面?zhèn)冉?jīng)由光學透明粘接層(OCA) 28而接合有硬質(zhì)涂層薄膜29。并且，在輸入裝置10的與輸入?yún)^(qū)域11對置的背面?zhèn)扰渲糜幸壕э@示器30。在圖I、圖2所示的輸入裝置10中，當手指F接觸操作面S時，具備下部電極14及上部電極13的輸入?yún)^(qū)域11處的靜電電容發(fā)生變化，從而能夠檢測出手指F的接觸位置。需要說明的是，在本實施方式中，“透光性”或“透明”是指可見光線透過率為80%以上的狀態(tài)。并且，優(yōu)選霧度為6以下。如圖3(a)所示，在本實施方式中，在非輸入?yún)^(qū)域12朝向厚度方向(Z)形成有第一空間部(第一區(qū)域)31和第二空間部(第二區(qū)域)32。在圖I中圖示出在與第一空間部31及第二空間部32對置的位置的裝飾層18上形成的開口部18a、18b。如圖3(a)所示，第一空間部31沿高度方向(厚度方向)、(Z)貫通裝飾層18、光學透明粘接層27、傳感器基板16、光學透明粘接層28及硬質(zhì)涂層薄膜29而形成。在該實施方式中，硬質(zhì)涂層薄膜29的背面相當于“輸入裝置10的背面10b”。另外，頂板20的表面相當于“輸入裝置10的表面10a”。因此，第一空間部31從輸入裝置10的背面IOb朝向表面IOa的方向形成，但不貫通頂板20，而形成為第一空間部31的表面?zhèn)鹊拈_口部31a通過頂板20閉塞的狀態(tài)。在圖3(a)所示的下部透明基材(透明基材)24的表面形成有ITO等的透明導電層33。該透明導電層33是與下部電極14相同的層。另外，在圖3(a)所示的上部透明基材(透明基材)25的表面形成有ITO等的透明導電層34。該透明導電層34是與上部電極13相同的層。非輸入?yún)^(qū)域12中的透明導電層33,34是在非輸入?yún)^(qū)域12中的配線部的形成及輸入?yún)^(qū)域11中的各電極13、14的形成后殘 留的部分。在非輸入?yún)^(qū)域12也可以不殘留透明導電層33、34而將其除去，但從制造效率等觀點出發(fā)，優(yōu)選在非輸入?yún)^(qū)域12殘留透明導電層33、34。如圖3(a)所示，在俯視下從第一空間部31離開的位置形成有第二空間部32。因此，第一空間部31與第二空間部32不接觸。第二空間部32沿高度方向(Z)貫通裝飾層18、光學透明粘接層27、傳感器基板16、光學透明粘接層28及硬質(zhì)涂層薄膜29而形成。如圖3(a)所示，第二空間部32從輸入裝置10的背面IOb朝向表面IOa的方向形成，但不貫通頂板20，而形成為第二空間部32的表面?zhèn)鹊拈_口部32a通過頂板20閉塞的狀態(tài)。如圖3(b)所示，第一空間部31及第二空間部32的平面形狀為圓形狀，但對形狀沒有限定。然而為圓形的情況能夠使后述的非接觸式傳感器的光的射出效率、受光效率良好，從而優(yōu)選。如圖3(a)所示，在第一空間部31與第二空間部32之間形成有狹縫部36。狹縫部36沿高度方向(Z)貫通光學透明粘接層27、傳感器基板16、光學透明粘接層28及硬質(zhì)涂層薄膜29而形成。如圖3(a)所示，狹縫部36從輸入裝置10的背面IOb朝向表面IOa的方向形成，但不貫通裝飾層18及頂板20,而形成為狹縫部36的表面?zhèn)鹊拈_口部36a通過裝飾層18及頂板20閉塞的狀態(tài)。如此，由于狹縫部36未貫通裝飾層18，因此成為從輸入裝置10的表面IOa側(cè)無法觀察到狹縫部36的狀態(tài)。需要說明的是，也可以貫通裝飾層18來形成狹縫部36，這種情況下，例如，能夠?qū)ⅹM縫部36作為一個構(gòu)思來構(gòu)成。在此，透明層是指下部透明基材24、透明導電層33 (下部電極14)、上部透明基材25、透明導電層34(上部電極13)、光學粘接層26等位于比頂板20靠內(nèi)方(背面?zhèn)?的位置的由透明材料形成的層中的至少一個。本實施方式中的狹縫部36優(yōu)選在第一空間部31與第二空間部32之間形成于透過光的全部的透明層。如圖3(b)所示，優(yōu)選狹縫部36的長度尺寸LI比第一空間部31及第二空間部32的最大開口寬度(直徑)T1、T2大。另外，本實施方式中的狹縫形狀是指與寬度尺寸Τ3相比，長度尺寸LI充分大的形態(tài)的形狀。作為縱橫尺寸比(長度尺寸LI/寬度尺寸T3)，優(yōu)選10 500左右。如圖3(a)所示，在本實施方式中，在輸入裝置10的背面IOb側(cè)，在與第一空間部31對置的位置設(shè)置有LED等光源41，在與第二空間部32對置的位置設(shè)置有受光元件42。這樣，在輸入裝置10的背面IOb側(cè)配置有由光源41和受光元件42構(gòu)成的非接觸式傳感器43。當前，如圖3(c)所示，外部物體40接近頂板20的表面IOa(在圖3(c)中，外部物體40與表面IOa接觸)。如圖3(c)所示，從光源41發(fā)出的光(例如，紅外線IR)在第一空間部31內(nèi)從背面IOb向表面IOa的方向移動，并透過透明基材的頂板20而向表面IOa的外側(cè)射出。此時，光IR由接近表面IOa的外部物體40反射，再次透過頂板20而在第二空間部32內(nèi)向背面IOb方向返回來。然后，在第二空間部32的背面IOb設(shè)置的受光元件42接受光IR，從而檢測出外部物體40接近輸入裝置10。另一方面，如圖3(a)所示，在外部物體40未接近的狀態(tài)下，從光源41照射的光IR在第一空間部31內(nèi)從背面IOb側(cè)向表面IOa的外側(cè)穿過，因此光IR未被受光兀件42檢測 出。因此能夠得到外部物體40未接近這樣的檢測結(jié)果。通過上述的檢測結(jié)果，例如若得到外部物體40接近的檢測結(jié)果，則可以進行使操作面S上的操作無效等各種控制。然而，由于第一空間部31的側(cè)壁由構(gòu)成傳感器基板16的下部透明基材24或上部透明基材25等透明層的側(cè)壁構(gòu)成，因此光IR中的一部分的光IRl容易侵入透明層內(nèi)。需要說明的是，在圖3(a)中，為了方便，用箭頭表示光IRl進入到下部透明基材2和上部透明基材25內(nèi)的情況，但不意味著光IRl的侵入僅限定為上述的透明層。在此，如圖4所示的比較例那樣，在第一空間部31與第二空間部32之間未形成狹縫部36的形態(tài)下，在第一空間部31內(nèi)從背面IOb側(cè)朝向表面IOa側(cè)射出的光IR中的一部分的光IRl在下部透明基材24或上部透明基材25等透明層內(nèi)沿平面方向透過。并且，在透明層內(nèi)透過后的光IRl中的一部分的光IR2在第二空間部32內(nèi)朝向背面IOb側(cè)前進，到達受光元件42。向受光元件42進入的光IR2的量若小則沒有問題，但在圖4所示的比較例的結(jié)構(gòu)中，從第一空間部31的背面IOb側(cè)朝向表面IOa側(cè)射出的光位于第一空間部31與第二空間部32之間的透明層內(nèi)透過時沒有障礙，并且也絲毫未對使在透明層內(nèi)透過的光在第二空間部32內(nèi)難以向背面IOb的方向返回的結(jié)構(gòu)下工夫。與此相對，在圖3(a)所示的本實施方式中，在從位于第一空間部31與第二空間部32之間的硬質(zhì)涂層薄膜29到傳感器基板16的透明層中形成有狹縫部36。因此，即使在第一空間部31內(nèi)從背面IOb側(cè)朝向表面IOa側(cè)射出的光IR中的一部分的光IRl侵入到透明層內(nèi)，在狹縫部36的位置也進行衰減(擴散)，因此能夠使透過第一空間部31與第二空間部32之間的光的量比圖4的比較例小，因此，與圖4的比較例相比，能夠形成為難以產(chǎn)生非接觸式傳感器43的誤檢測的結(jié)構(gòu)。狹縫部36的平面形狀不局限于直線狀。例如圖5(a)所示，若狹縫部36的平面形狀為波狀或鋸刃狀等以小的周期重復凹凸的形狀，則能夠使侵入到透明層內(nèi)的光在狹縫部36的位置進行漫反射，從而更加優(yōu)選。如圖5(b)所示，可以在第一空間部31與第二空間部32之間形成多個狹縫部45、46。此時，如圖5(a)所示，若形成為如下形態(tài)則更優(yōu)選，該形態(tài)為使接近來自光源41的光的出射側(cè)即第一空間部31的狹縫部45形成為波形形狀等，來使光漫反射，且使接近第二空間部32的狹縫部46例如形成為圓弧狀，來使光向第二空間部32的進入進一步衰減?？梢酝ㄟ^激光加工來形成狹縫部36、45、46。需要說明的是，可以將圖3 (b)所示的狹縫部36的寬度尺寸T3等進一步擴寬而將狹縫形狀以外的形狀的間隙部(抑制部)形成在第一空間部31與第二空間部32之間。但是，當將寬度尺寸T3過于擴寬時，則第一空間部31與間隙部(抑制部)的間隔以及第二空間部32與間隙部(抑制部)的間隔變窄，從而在配置非接觸式傳感器43的位置處的輸入裝置10的機械強度容易變?nèi)?。另外，當為狹縫形狀時，例如可以通過激光簡單地加工成圖5所示那樣的波形形狀等。因此，優(yōu)選在第一空間部31與第二空間部32之間形成的間隙部為狹縫形狀。另外，在以狹縫部36、45、46或狹縫以外的形狀形成間隙部(抑制部)的情況下，可以將該間隙部內(nèi)作為用于裝入其它的傳感器或元件的空間來利用，或者也可以通過其它 的構(gòu)件填埋間隙部內(nèi)的一部分或全部。例如，可以將接下來說明的遮光膜形成在所述間隙部內(nèi)。在圖6(a)所示的另一實施方式中，在第二空間部32的側(cè)壁上形成有遮光膜(抑制部)47。遮光膜47在第二空間部32的高度方向(Z)的整個區(qū)域形成。如圖6(a)、圖7所示，遮光膜47需要至少形成在隔著第一空間部31與第二空間部32之間的透明層而面對的側(cè)壁面32b上。即，在面對的側(cè)壁面32b的相反側(cè)的側(cè)壁面32c上不需要形成遮光膜47。如圖7所示，在考慮將第一空間部31的兩端和第二空間部32的兩端分別由直線D、E連結(jié)而形成的從直線D通過各空間部31、32的內(nèi)側(cè)的側(cè)壁直到直線E的路徑時，所述內(nèi)側(cè)的側(cè)壁為“面對區(qū)域”。但是，也可以不在整個面對區(qū)域形成遮光膜47。S卩，雖然優(yōu)選在整個面對區(qū)域形成遮光膜47，但即使局部不形成(尤其是兩側(cè)部分)，也能夠使向受光元件42返回的光的量比比較例小，能夠防止非接觸式傳感器的誤檢測。如圖6(a)所示，通過將遮光膜47形成在第二空間部32的側(cè)壁面32b上，從而即使在第一空間部31內(nèi)從背面IOb側(cè)朝向表面IOa側(cè)射出的光IR中的一部分的光IRl向第一空間部31與第二空間部32之間的透明層內(nèi)侵入，也能夠通過遮光膜47抑制光向第二空間部32內(nèi)漏出的情況。或者，也可以將遮光膜47形成在第一空間部31的側(cè)壁面31b上。這種情況下，能夠根本上抑制在第一空間部31內(nèi)從背面IOb側(cè)朝向表面IOa側(cè)射出的光IR向第一空間部31與第二空間部32之間的透明層內(nèi)侵入的情況。也可以將遮光膜47設(shè)置在第一空間部31及第二空間部32這雙方的側(cè)壁面31b、32b上。另外，如上所述，不用將遮光膜47形成在側(cè)壁的整個周圍，只要僅形成在第一空間部31和第二空間部32隔著透明層而面對的側(cè)壁面31b、32b上即可。在接合頂板20之前，且在對具有傳感器基板16、光學透明粘接層28及硬質(zhì)涂層薄膜29的輸入裝置通過激光等形成沿厚度方向貫通的第一空間部31及第二空間部32之后，在第二空間部32或第一空間部31的側(cè)壁面31b、32b上涂敷遮光膜47，接著，經(jīng)由光學透明粘接層27來接合頂板20。接著，在圖6(b)所示的實施方式中，對第二空間部32的側(cè)壁表面實施粗加工。粗加工部(抑制部)48在第二空間部32的高度方向(Z)的整個區(qū)域形成。如圖6(b)所示，粗加工部48需要至少形成在隔著第一空間部31與第二空間部32之間的透明層而面對的側(cè)壁面32b上。即，在面對的側(cè)壁面32b的相反側(cè)的側(cè)壁面32c上不需要形成粗加工部48。
如圖6(b)所示，通過將粗加工部48形成在第二空間部32的側(cè)壁面32b上，從而即使在第一空間部31內(nèi)從背面IOb側(cè)朝向表面IOa側(cè)射出的光IR中的一部分的光IRl向第一空間部31與第二空間部32之間的透明層內(nèi)侵入，通過粗加工部48也能夠使光IRl漫反射(擴散)。因此，與比較例相比，能夠抑制在第二空間部32內(nèi)向背面IOb的方向返回的光的量?；蛘撸诘谝豢臻g部31的側(cè)壁面31b上形成粗加工部48的情況下，與比較例相t匕，通過粗加工部48 (漫反射面)能夠抑制在第一空間部31內(nèi)從背面IOb側(cè)朝向表面IOa側(cè)射出的光IR向第一空間部31與第二空間部32之間的透明層內(nèi)侵入的光的量。還可以在第一空間部31及第二空間部32這雙方的側(cè)壁面31b、32b的表面上形成粗加工部48。另夕卜，不用將粗加工部48形成在側(cè)壁的整個周圍，只要僅形成在第一空間部31和第二空間部32隔著透明層而面對的側(cè)壁面31b、32b上即可。在接合頂板20之前，且在對具有傳感器基板16、光學透明粘接層28及硬質(zhì)涂層薄膜29的輸入裝置形成沿厚度方向貫通的第一空間部31及第二空間部32之后，通過砂紙或利用熱進行熔化等物理處理，或者通過使用了溶劑等的化學處理來對第二空間部32或第一空間部31的側(cè)壁面31b、32b實施表面粗加工。需要說明的是，在難以僅對第二空間部 32或第一空間部31的側(cè)壁面31b、32b進行表面粗加工的情況下，也可以對第二空間部32或第一空間部31的側(cè)壁的整個周圍實施表面粗加工。之后，經(jīng)由光學透明粘接層27來接合頂板20。接著，在圖6(c)的結(jié)構(gòu)中，在隔著第二空間部32的透明層而與第一空間部31對置的側(cè)壁面32b上形成有傾斜面(抑制部)49，該傾斜面49從背面IOb側(cè)到表面IOa側(cè)逐漸向第一空間部31的方向傾斜。在圖6(c)所示的結(jié)構(gòu)中，第二空間部32中的與側(cè)壁面32b相反側(cè)的側(cè)壁面32c也形成為向與傾斜面49相同的方向傾斜的傾斜面50，但側(cè)壁面32c也可以為垂直面。然而，在通過激光傾斜地切割第二空間部32時，如圖6(c)所示，不僅是側(cè)壁面32b，相反側(cè)的側(cè)壁面32c也被傾斜切割，從而形成為相互平行的傾斜面49、50。由此，在第一空間部31內(nèi)從背面IOb側(cè)朝向表面IOa側(cè)射出的光IR中的一部分的光IRl在第一空間部31與第二空間部32之間的透明層內(nèi)透過而向第二空間部32內(nèi)漏出時，通過傾斜面49進行擴散，而一部分的光IR3在第二空間部32內(nèi)容易向與背面29b反方向(即，表面IOa方向)進行折射而漏出，因此，能夠減少在第二空間部32內(nèi)向背面29b方向漏出的光的量。在圖2中，在使下部基板22的下部電極14及上部基板21的上部電極13全部朝向表面IOa側(cè)的狀態(tài)下，將下部基板22與上部基板21之間經(jīng)由光學透明粘接層26接合，但也可以如圖8所示，形成使下部基板22的下部電極14朝向表面IOa側(cè)，并使上部基板21的上部電極13朝向背面IOb側(cè)的狀態(tài)，來將下部基板22與上部基板21之間經(jīng)由光學透明粘接層26接合，或者，還可以如圖9所示，形成為在一個基材38的上下表面形成有下部電極14及上部電極13的形態(tài)。圖9是輸入裝置10的輸入?yún)^(qū)域11的結(jié)構(gòu)。另一方面，圖10是圖9所示的輸入裝置的非輸入?yún)^(qū)域12中設(shè)置有非接觸式傳感器43的部分處的結(jié)構(gòu)。在圖10中，代表性地將圖3(a)所示的狹縫部36形成在第一空間部31與第二空間部32之間，但當然也可以使用圖6所示的“抑制部”。在圖10中，對與圖3(a)相同的層標注與圖3(a)相同的符號。通過圖10的結(jié)構(gòu)，能夠抑制在第一空間部31與第二空間部32之間的透明層中透過的光，從而能夠抑制非接觸式傳感器43的誤檢測。在圖9中，在一個基材38的兩面形成有下部電極14和上部電極13，但也可以如圖11(a)、(b)所示，在基材38的相同的面?zhèn)刃纬扇康碾姌O。圖11(a)是局部俯視圖，但省略了圖11(b)所示的絕緣層等。另外，圖11(b)是沿著圖11(a)所示的C-C線剖開而從箭頭方向觀察時的局部縱向剖視圖。在圖ll(a)、(b)中，在一個基材38的表面上排列多個電極51、55，其中，將電極55朝向X方向連接，并且利用絕緣層53覆蓋在電極55的連結(jié)部52上。并且，在絕緣層53上形成用于連接各電極51的連結(jié)部54，經(jīng)由連結(jié)部54將各電極51沿Y方向相連。在圖11的結(jié)構(gòu)中，在相同的基材38的相同的表面形成沿X方向相連的電極55和沿Y方向相連的電極51。需要說明的是，靜電電容式傳感器的結(jié)構(gòu)也可以是圖2、圖8、圖9、圖11以外的結(jié)構(gòu)。圖I至圖11所示的傳感器基板16的結(jié)構(gòu)為靜電電容式，但也可以如圖12所示那 樣為電阻膜式。圖12(a)是電阻膜式的輸入裝置的非輸入?yún)^(qū)域中設(shè)置有非接觸式傳感器43的位置處的局部縱向剖視圖，圖12(b)是電阻膜式的輸入裝置的輸入?yún)^(qū)域處的局部縱向剖視圖。如圖12(a)、(b)所示，形成由下部透明基材60及在下部透明基材60的內(nèi)表面形成的下部電阻層(下部電極)62構(gòu)成的下部基板65、由上部透明基材61及在上部透明基材61的內(nèi)表面形成的上部電阻層(上部電極)63構(gòu)成的上部基板66，如圖12(b)所示，在輸入?yún)^(qū)域11中，下部電阻層62與上部電阻層63之間為空氣層64。雖然未圖示，但在空氣層64中設(shè)有多個隔點。并且，具有在輸入?yún)^(qū)域11的周圍擴展的裝飾層18的非輸入?yún)^(qū)域12中，下部基板65與上部基板66之間通過光學透明粘接層67接合。圖12(a)、(b)所示的頂板68為撓性的透明基材，頂板68與上部基板66之間經(jīng)由光學透明粘接層69接合。當對輸入?yún)^(qū)域11中的頂板68的表面68a (輸入裝置的表面)進行按壓時，頂板68及上部基板66撓曲而與下部基板65接觸。并且，得到與電阻層62、63的接觸位置處的分割電阻對應的電壓，由此能夠檢測操作位置。如圖12(a)所示，在電阻膜式的輸入裝置中，在第一空間部31與第二空間部32之間設(shè)置例如與圖3 (a)同樣的狹縫部36 (抑制部)，由此能夠抑制光在第一空間部31與第二空間部32之間的透明層內(nèi)透過，因此，能夠抑制非接觸式傳感器43的誤檢測。在此，透明層是指下部透明基材60、透明的下部電阻層62、上部透明基材61、透明的上部電阻層63、光學透明粘接層67等位于比頂板68靠內(nèi)方(背面?zhèn)?的位置的由透明材料形成的層的至少一個。圖3(a)、圖6(a) (C)中列舉出的各抑制部也可以分別組合使用。例如，可以使用圖3 (a)所示的狹縫部36和圖6 (a)所示的遮光膜47這雙方。另外，輸入裝置的結(jié)構(gòu)層也可以為上述列舉出的結(jié)構(gòu)以外的結(jié)構(gòu)。例如，可以為沒有圖3(a)等所示的硬質(zhì)涂層薄膜29的結(jié)構(gòu)。另外，傳感器基板16的結(jié)構(gòu)也可以如圖8以后所示的那樣選擇各種結(jié)構(gòu)，沒有限定。另外，形成為傳感器基板16由透明的頂板20、68支承，且貫通傳感器基板16而形成的第一空間部31及第二空間部32的一方的開口部31a、32a由頂板20、68閉塞的狀態(tài)。在本實施方式的結(jié)構(gòu)中，能夠良好地保持非接觸式傳感器43的通過第一空間部31的光的出射效率、通過第二空間部32的受光效率。并且，由于第一空間部31及第二空間部32的開口部31a、32a閉塞，因此能夠阻止灰塵或水分向第一空間部31及第二空間部32進入的情況，不會對非接觸式傳感器43帶來不良影響。本實施方式中的第一空間部31、第二空間部32及抑制部形成在具有裝飾層18而使光不會沿高度方向(Z)透過的非輸入?yún)^(qū)域12。并且，在裝飾層18上的與第一空間部31及第二空間部32對置的位置形成有開口部18a、18b (參照圖3)。由此，在非輸入?yún)^(qū)域12能夠適當?shù)剡M行來自非接觸式傳感器43的光的射出及受光。本實施方式中的輸入裝置不僅包括圖3(a)所示那樣實際上設(shè)置了非接觸式傳感器43的狀態(tài)，還包括設(shè)置非接觸式傳感器43的狀態(tài)之前的狀態(tài)(能夠設(shè)置非接觸式傳感器43的輸入裝置)。
并且，本實施方式中的輸入裝置沒有僅限定為設(shè)置非接觸式傳感器43。即，在第一空間部31的背面?zhèn)燃暗诙臻g部32的背面?zhèn)扰渲煤畏N元件、傳感器等可以任意決定。本實施方式的輸入裝置是用于抑制光在第一空間部31與第二空間部32之間的透明層透過，或者即使透過也使光不向第二空間部32的背面?zhèn)确祷氐慕Y(jié)構(gòu)，利用這樣的本實施方式的特征，如何使用第一空間部31及第二空間部32可以由客戶等選定。在上述的結(jié)構(gòu)中，都為設(shè)有第一空間部31和第二空間部32的結(jié)構(gòu)，但也可以如圖13所示那樣不形成空間部。圖13與圖12同樣，為電阻膜式的輸入裝置，在背面?zhèn)扰渲糜杏晒庠?1和受光元件42構(gòu)成的非接觸式傳感器43。如圖13所示，下部基板65和上部基板66在非輸入?yún)^(qū)域12的位置經(jīng)由光學透明粘接層67接合。在輸入?yún)^(qū)域11中，在下部基板65與上部基板66之間形成有空氣層64，在空氣層64中設(shè)有多個隔點70。如圖13所示，在非輸入?yún)^(qū)域12中，在透明的頂板(面板)68的下表面?zhèn)仍O(shè)有裝飾層18。如圖13所示，在高度方向上與光源41對置的裝飾層18上形成有第一開口部18a，在高度方向上與受光元件42對置的裝飾層18上形成有第二開口部18b。圖13所示的光源41與第一開口部18a之間為第一區(qū)域71，受光元件42與第二開口部18b之間為第二區(qū)域72。在第一區(qū)域71及第二區(qū)域72上未設(shè)置圖12所示那樣的空間。如圖13所示，在第一區(qū)域71與第二區(qū)域72之間，在構(gòu)成下部基板65的透明基材(塑料基材)73上形成有狹縫部36。在丙烯酸樹脂等塑料基材上可以通過注射模塑成形等形成狹縫部36。圖13所示的狹縫部36在高度方向上為直線形狀，但如后述那樣形成為傾斜面的情況通過注射模塑成形也能夠容易形成。另外，可以在狹縫部36的側(cè)壁上施加粗糙面處理或棱鏡?；蛘咭部梢孕纬蔀槭┘訄D6(a)中所示的遮光膜47的結(jié)構(gòu)。從圖13所示的光源41照射的光通過第一區(qū)域71而從第一開口部18a向外方輸出。此時，即使一部分的光通過透明的塑料基材73而向第二區(qū)域72的方向傳播，通過在中途存在狹縫部36，光在狹縫部36處擴散，從而能夠抑制光到達第二區(qū)域72及受光元件42的情況。在此，透明塑料基材73相當于透明層。另外，不僅可以將狹縫部36形成于塑料基材73，也可以形成于位于塑料基材73與裝飾層18之間的透明基材或光學透明粘接層的區(qū)域。這種情況下，透明基材及光學透明粘接層也相當于透明層。圖13中作為電阻膜式的輸入裝置而進行了說明，但在靜電電容式的輸入裝置中也同樣能夠適用。在圖14(a)所示的另一輸入裝置中，取代圖3至圖13所示的非接觸式傳感器43，而設(shè)置移動燈75及照度傳感器76。如圖14所示，在高度方向上與移動燈75對置的裝飾層18上形成有第一開口部18a，在高度方向上與照度傳感器76對置的裝飾層18上形成有第二開口部18b。圖14(a)所示的移動燈75與第一開口部18a之間為第一區(qū)域77，照度傳感器76與第二開口部18b之間為第二區(qū)域78。在相機攝影時從移動燈75向要拍攝的人物等照射光。此時，在輸入?yún)^(qū)域11，攝影風景從液晶顯示器30顯現(xiàn)出。照度傳感器76接受外部的光，并與其對應而對液晶顯示器30的背光燈亮度進行調(diào)整。例如若周圍明亮則降低背光燈亮度而使畫面變暗，若周圍暗則提高背光燈亮度而使畫面變明亮。此時，即使從移動燈75照射的光的一部分朝向第二區(qū)域78而透過透明的塑料基材73，由于在其中途存在狹縫部80， 因此光IR2如圖14(a)所示那樣擴散而能夠抑制光IR2從第二區(qū)域78到達照度傳感器76。因此，能夠抑制照度傳感器76的誤檢測。在此，透明塑料基材73相當于透明層。以下，對于圖14(b)、圖14(c)也同樣。如圖14(a)、(b)所示，狹縫部80的第一區(qū)域77側(cè)的第一側(cè)壁面80a及第二區(qū)域78側(cè)的第二側(cè)壁面80b分別以所述狹縫部80的第一側(cè)壁面80a與第二側(cè)壁面80b之間的寬度尺寸從背面IOb側(cè)朝向表面IOa側(cè)逐漸減小的方式傾斜。通過這樣使狹縫部80的側(cè)壁面傾斜，能夠有效地使光擴散。尤其是在第一側(cè)壁面80a和第二側(cè)壁面80b上使傾斜角度不同，從而在狹縫部80內(nèi)能夠使光有效地擴散，能夠抑制光向第二區(qū)域78及照度傳感器76漏出的情況。如圖14(b)所示，在第一側(cè)壁面80a及第二側(cè)壁面80b上，在高度方向上形成有多個沿狹縫部80的長度方向延伸的橫列棱鏡82?；蛘咭部梢詫Φ谝粋?cè)壁面80a及第二側(cè)壁面80b進行梨皮面處理(粗糙面處理)。由此，能夠使從第一區(qū)域77側(cè)向狹縫部80侵入的光、或從狹縫部80向第二區(qū)域78側(cè)侵入的光更有效地擴散，從而能夠有效地抑制向照度傳感器76進入的光的量?？梢詫ΚM縫部80的側(cè)面整個區(qū)域?qū)嵤﹫D14(b)所示的橫列棱鏡82或梨皮面處理，或者也可以僅對第一側(cè)壁面80a和第二側(cè)壁面80b中的一方實施。另外，也可以在狹縫部80施加圖6 (a)中所示的遮光膜47。圖14(c)是示出在裝飾部18形成的第一開口部18a、第二開口部18b及狹縫部80的平面形狀的圖，而在圖14(c)中，第一開口部18a形成為大致矩形形狀。但是，也可以與第二開口部18b同樣地形成為圓形狀，各開口部18a、8b還可以形成為圓形、矩形以外的形狀。另外，狹縫部80的平面形狀不僅可以形成為圖14(c)所示的一定寬度的直線狀，而且也可以形成為圖5所示那樣的波狀等。圖14是電阻膜式的輸入裝置，但如圖15所示，也可以在靜電電容式的輸入裝置中適用圖14的結(jié)構(gòu)。圖15所示的靜電電容式的輸入裝置中，在由玻璃或塑料等形成的頂板(面板)20的背面的非輸入?yún)^(qū)域12形成有裝飾層18，在裝飾層18上，在高度方向上與移動燈75對置的位置形成有第一開口部18a，在高度方向上與照度傳感器76對置的位置形成有第二開口部18b。第一開口部18a與移動燈75之間為第一區(qū)域90，第二開口部18b與照度傳感器76之間為第二區(qū)域91。如圖15所示，構(gòu)成靜電電容式傳感器的下部基板85與上部基板86經(jīng)由光學透明粘接層87接合，作為靜電電容式傳感器的結(jié)構(gòu)例如與圖2同樣，但不局限于此。在此，下部基板85相當于透明層。在圖15中，在下部基板85上形成有狹縫部80，但也可以如圖15的點線所示那樣，狹縫部80連續(xù)而形成到上部基板86。這種情況下，下部基板85、上部基板86、光學透明粘接層87等位于比頂板20靠內(nèi)方(背面?zhèn)?的位置的由透明材料形成的層為透明層。需要說明的是，透明層是指上述列舉出的由透明材料形成的層中的至少一個，用于形成狹縫部80的層沒有限定為圖15所記載的層。在將圖14及圖15所示的移動燈75和照度傳感器76組合而得到的輸入裝置中， 也可以將第一區(qū)域及第二區(qū)域雙方或一方形成為空間部。在形成為空間部的情況下，也可以將圖6中說明的遮光膜47等施加在空間部內(nèi)。
符號說明10輸入裝置IOa 表面IOb 背面11輸入?yún)^(qū)域12非輸入?yún)^(qū)域13上部電極14下部電極16傳感器基板18裝飾層20、68 頂板21、66上部基板22、65下部基板24、60下部透明基材25,61上部透明基材26、27、28、67、69光學透明粘接層29硬質(zhì)涂層薄膜31第一空間部31b、32b、80a、80b 側(cè)壁面32第二空間部36、45、46、80 狹縫部40外部物體41 光源42受光元件43非接觸式傳感器47遮光膜48粗加工部
49、50 傾斜面71、77 第一區(qū)域
72、78 第二區(qū)域73塑料基材75移動燈76照度傳感器82橫列棱鏡
權(quán)利要求
1.一種輸入裝置，其能夠檢測操作面的操作位置，且具有透明層，所述輸入裝置的特征在于，具有 在所述輸入裝置的背面與表面之間能夠使光通過，且位于相互分離的位置的第一區(qū)域及第ニ區(qū)域； 在從所述第一區(qū)域的所述背面?zhèn)瘸蛩霰砻鎮(zhèn)壬涑龉鈺r，用于抑制所述光從所述第一區(qū)域在所述透明層內(nèi)透過而向所述第二區(qū)域內(nèi)進入的抑制部。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的輸入裝置，其中， 所述抑制部是在位于所述第一區(qū)域與所述第二區(qū)域之間的所述透明層上形成的間隙 部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的輸入裝置，其中， 所述間隙部形成為狹縫狀。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的輸入裝置，其中， 所述間隙部的所述第一區(qū)域側(cè)的第一側(cè)壁面或所述第二區(qū)域側(cè)的第二側(cè)壁面中的至少一方從所述背面?zhèn)瘸蛩霰砻鎮(zhèn)刃纬蔀閮A斜面。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的輸入裝置，其中， 對所述第一側(cè)壁面或所述第二側(cè)壁面施加粗糙面處理、棱鏡或遮光膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求I至5中任一項所述的輸入裝置，其中， 所述第一區(qū)域及所述第二區(qū)域分別構(gòu)成由空間形成的第一空間部及第ニ空間部。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的輸入裝置，其中， 在所述第一空間部或所述第二空間部中的至少一方，在所述第一空間部與所述第二空間部隔著所述透明層而面對的側(cè)壁面上形成有作為所述抑制部的遮光膜。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的輸入裝置，其中， 在所述第一空間部或所述第二空間部中的至少一方，形成使所述第一空間部與所述第ニ空間部隔著所述透明層而面對的側(cè)壁面粗糙或?qū)λ鰝?cè)壁面施加有棱鏡的所述抑制部。
9.根據(jù)權(quán)利要求6至8中任一項所述的輸入裝置，其中， 在隔著所述透明層而與所述第一空間部面對的所述第二空間部的側(cè)壁面上形成有從所述背面?zhèn)鹊剿霰砻鎮(zhèn)戎饾u向所述第一空間部的方向傾斜的作為所述抑制部的傾斜面。
10.根據(jù)權(quán)利要求6至9中任一項所述的輸入裝置，其中， 所述輸入裝置設(shè)有傳感器基板，該傳感器基板具有透明基材和透明電極作為所述透明層，所述輸入裝置形成有貫通所述傳感器基板的所述第一空間部及所述第二空間部。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的輸入裝置，其中， 所述傳感器基板由透明的頂板支承，所述第一空間部及所述第二空間部的表面?zhèn)鹊拈_ロ部由所述頂板閉塞。
12.根據(jù)權(quán)利要求I至11中任一項所述的輸入裝置，其中， 所述輸入裝置設(shè)有表面由操作面構(gòu)成的輸入?yún)^(qū)域、位于所述輸入?yún)^(qū)域的周圍的非輸入?yún)^(qū)域，在所述輸入?yún)^(qū)域中，光沿著厚度方向透過，在所述非輸入?yún)^(qū)域中，在所述透明層以外設(shè)有裝飾層而以非透光性構(gòu)成，以免光沿厚度方向透過，所述第一區(qū)域、所述第二區(qū)域及所 述抑制部設(shè)置在所述非輸入?yún)^(qū)域，在所述裝飾層上的與所述第一區(qū)域及所述第二區(qū)域?qū)χ玫奈恢眯纬捎虚_ロ部。
13.根據(jù)權(quán)利要求I至12中任一項所述的輸入裝置，其中， 在位于最背面?zhèn)鹊耐该骰纳现辽僭O(shè)有所述抑制部。
14.根據(jù)權(quán)利要求I至13中任一項所述的輸入裝置，其中， 所述輸入裝置具有配置在所述第一區(qū)域的背面?zhèn)鹊墓獬錾洳亢团渲迷谒龅诙^(qū)域的背面?zhèn)鹊氖芄獠俊?br> 15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的輸入裝置，其中， 所述光出射部是構(gòu)成非接觸式傳感器的光源，所述受光部是構(gòu)成所述非接觸式傳感器的受光元件。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的輸入裝置，其中， 所述光出射部為燈部，所述受光部為照度傳感器。
全文摘要
本發(fā)明提供一種在配置了非接觸式傳感器時能夠抑制誤檢測的輸入裝置。本發(fā)明的輸入裝置能夠檢測操作面的操作位置，且具有透明層，所述輸入裝置具有第一區(qū)域(第一空間部)、(31)及第二區(qū)域(第二空間部)、(32)，它們在所述輸入裝置的背面(10b)與表面(10a)之間能夠使光通過，且位于相互分離的位置；抑制部(例如狹縫部(36))，在從所述第一區(qū)域(31)的所述背面(10b)側(cè)朝向所述表面(10a)側(cè)射出光時，其用于抑制所述光在位于所述第一區(qū)域(31)與所述第二區(qū)域(32)之間的所述透明層透過而向所述第二區(qū)域(32)內(nèi)進入。
文檔編號G06F3/041GK102834797SQ201180018540
公開日2012年12月19日 申請日期2011年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月9日
發(fā)明者杉井詠一, 堀野武信, 笹川英人, 鈴木潤 申請人:阿爾卑斯電氣株式會社