專利名稱：光學(xué)式觸控面板及其制造方法以及光學(xué)式觸控顯示面板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種觸控面板，尤其涉及一種光學(xué)式觸控面板及光學(xué)式觸控顯示面板。
背景技術(shù)：
將觸控面板(touchpanel)整合于液晶顯示器(Liquid Crystal Display, IXD)不但可讓使用者進(jìn)行便利、快速的輸入，且可提供互動(dòng)的存取功能，因此已逐漸應(yīng)用于一些便攜電子裝置中，例如移動(dòng)電話、個(gè)人數(shù)字助理(PDA)或筆記本電腦。目前，有技術(shù)通過在液晶顯示器的像素陣列(pixelarray)中嵌入光感測元件來實(shí)現(xiàn)觸控與顯示功能的整合。具體而言，觸控感應(yīng)方式為背光模塊提供的感應(yīng)光源(諸如紅外光)會穿過顯示器，再經(jīng)由反射物(諸如手指)反射至光感測元件。如此，通過光感測 元件在照光下因產(chǎn)生光電流所造成的壓降來判定是否有觸碰事件的發(fā)生。然而，由于光感測元件與讀取電路是位于液晶顯示器的像素陣列側(cè)，因此會壓縮像素陣列側(cè)的透光區(qū)面積，導(dǎo)致顯示器的穿透率降低。在此狀況下，背光模塊必須提供更高的功率才可以達(dá)到相同的感應(yīng)信號，導(dǎo)致需耗費(fèi)更多的電力，此外，由于光感測元件的解析力(resolution)受限于顯示器的解析力，故難以將光感測元件的解析力提升成大于顯示器的解析力。

發(fā)明內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，本發(fā)明提供一種光學(xué)式觸控面板，具有較佳的穿透率與觸控靈敏度。本發(fā)明另提供一種光學(xué)式觸控面板的制造方法，以制作上述光學(xué)式觸控面板。本發(fā)明又提供一種光學(xué)式觸控顯示面板，具有較高的開口率，且其中感測元件具有較佳的解析度。本發(fā)明再提供一種光學(xué)式觸控顯示面板的制造方法，以制作上述光學(xué)式觸控面板。本發(fā)明提出一種光學(xué)式觸控面板，其包括第一基板、紅外光濾光層、第一圖案化導(dǎo)電層、第一介電層、通道層、第二圖案化導(dǎo)電層、透明電極、第二介電層、紅外光感測層以及圖案化遮光導(dǎo)電層。第一基板具有內(nèi)表面。紅外光濾光層配置于基板的內(nèi)表面上。第一圖案化導(dǎo)電層包括至少一柵極以及至少一條與柵極連接的掃描線，其中柵極與掃描線位于基板的內(nèi)表面上。第一介電層配置于基板上，以覆蓋柵極、掃描線。通道層配置于第一介電層上，且位于柵極上方。第二圖案化導(dǎo)電層包括至少一源極與至少一漏極，分別位于通道層的兩側(cè)，且電性連接通道層。透明電極配置于紅外光濾光層上，電性連接源極與漏極其中之一。第二介電層覆蓋第二圖案化導(dǎo)電層以及部分透明電極。紅外光感測層配置于透明電極上。圖案化遮光導(dǎo)電層包括感測電極與遮光電極，感測電極配置于紅外光感測層上，遮光電極配置于第二介電層上，且對準(zhǔn)通道層。
本發(fā)明另提出一種光學(xué)式觸控面板的制造方法。于基板的內(nèi)表面上形成紅外光濾光層。于基板上形成第一圖案化導(dǎo)電層，包括至少一柵極以及至少一條與柵極連接的掃描線，其中柵極與掃描線位于基板的內(nèi)表面上。于基板上形成第一介電層，以覆蓋柵極、掃描線。于第一介電層上形成通道層，其中通道層位于柵極上方。于基板上形成第二圖案化導(dǎo)電層，第二圖案化導(dǎo)電層包括至少一源極與至少一漏極，分別位于通道層的兩側(cè)，且電性連接通道層。于紅外光濾光層上形成透明電極，電性連接源極與漏極其中之一。于基板上形成第二介電層，覆蓋第二圖案化導(dǎo)電層以及部分透明電極。于透明電極上形成紅外光感測層。于基板上形成圖案化遮光導(dǎo)電層，包括感測電極與遮光電極，感測電極配置于紅外光感測層上，遮光電極配置于第二介電層上，且對準(zhǔn)通道層。本發(fā)明又提出一種光學(xué)式觸控顯不面板,其包括第一基板、紅外光濾光層、第一圖案化導(dǎo)電層、第一介電層、通道層、第二圖案化導(dǎo)電層、透明電極、第二介電層、紅外光感測層、圖案化遮光導(dǎo)電層、第二基板以及顯不介質(zhì)層。第一基板具有內(nèi)表面。紅外光濾光層配置于基板的內(nèi)表面上。第一圖案化導(dǎo)電層包括至少一柵極以及至少一條與柵極連接的掃描線，其中柵極與掃描線位于基板的內(nèi)表面上。第一介電層配置于基板上，以覆蓋柵極、掃描 線。通道層配置于第一介電層上，且位于柵極上方。第二圖案化導(dǎo)電層包括至少一源極與至少一漏極，分別位于通道層的兩側(cè)，且電性連接通道層。透明電極配置于紅外光濾光層上，電性連接源極與漏極其中之一。第二介電層覆蓋第二圖案化導(dǎo)電層以及部分透明電極。紅外光感測層配置于透明電極上。圖案化遮光導(dǎo)電層包括感測電極與遮光電極，感測電極配置于紅外光感測層上，遮光電極配置于第二介電層上，且對準(zhǔn)通道層。第二基板跟第一基板相對設(shè)置，且第二基板面向第一基板的內(nèi)表面。顯示介質(zhì)層設(shè)置在第一基板與第二基板之間。本發(fā)明再提出一種光學(xué)式觸控顯示面板的制造方法。提供基板，基板具有內(nèi)表面。于基板的內(nèi)表面上形成紅外光濾光層。于基板上形成第一圖案化導(dǎo)電層，包括至少一柵極以及至少一條與柵極連接的掃描線，其中柵極與掃描線位于基板的內(nèi)表面上。于基板上形成第一介電層，以覆蓋柵極、掃描線。于第一介電層上形成通道層，其中通道層位于柵極上方。于基板上形成第二圖案化導(dǎo)電層，第二圖案化導(dǎo)電層包括至少一源極與至少一漏極，分另Ij位于通道層的兩側(cè)，且電性連接通道層。于紅外光濾光層上形成透明電極，電性連接源極與漏極其中之一。于基板上形成第二介電層，覆蓋第二圖案化導(dǎo)電層以及部分透明電極。于透明電極上形成紅外光感測層。于基板上形成圖案化遮光導(dǎo)電層，包括感測電極與遮光電極，感測電極配置于紅外光感測層上，遮光電極配置于第二介電層上，且對準(zhǔn)通道層。提供第二基板，使第二基板與第一基板相對設(shè)置，且第二基板面向第一基板的內(nèi)表面。于第一基板與第二基板之間形成顯示介質(zhì)層?；谏鲜?，本發(fā)明的光學(xué)式觸控面板與光學(xué)式觸控顯示面板具有較佳的穿透率與觸控靈敏度。其中，于光學(xué)式觸控面板與光學(xué)式觸控顯示面板的制造方法中，遮光電極是與感測電極一起制作，因此可具有較簡易的工藝與較低的制作成本。此外，由于遮光電極對準(zhǔn)通道層，因此能避免通道層受到光照射等影響，以提升通道層的穩(wěn)定性。故，光學(xué)式觸控面板與光學(xué)式觸控顯示面板具有較佳的元件特性。為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉實(shí)施例，并配合所附圖式作詳細(xì)說明如下。


圖IA至圖II為本發(fā)明第一實(shí)施例的光學(xué)式觸控面板的制造方法的剖面示意圖。圖2A至圖21為本發(fā)明第二實(shí)施例的光學(xué)式觸控面板的制造方法的剖面示意圖。圖3A與圖3D是本發(fā)明第三實(shí)施例的光學(xué)式觸控顯示面板的制造方法的剖面示意圖。其中，附圖標(biāo)記說明如下10 :光學(xué)式觸控顯示面板
100 :光學(xué)式觸控面板110、200:基板IlOa:內(nèi)表面IlOb:外表面120:第一圖案化導(dǎo)電層130:第二圖案化導(dǎo)電層140:圖案化遮光導(dǎo)電層142:遮光電極300 :顯示介質(zhì)層BLU :背光源CH :通道層DE:漏極El:感測電極 F :手指GE :柵極GI :第一介電層IRF :紅外光濾光層IRS :紅外光感測層L、L，光線0C:歐姆接觸層OCP :歐姆接觸圖案PVl :第二介電層PV2 :保護(hù)層S :光感測元件SE :源極Tl:信號讀出晶體管T2 :主動(dòng)元件TE:透明電極Wl:開口
具體實(shí)施方式
第一實(shí)施例圖IA至圖II為本發(fā)明第一實(shí)施例的光學(xué)式觸控面板的制造方法的剖面示意圖。請參照圖1A，首先，提供基板110，其中基板110具有內(nèi)表面IlOa與外表面110b，其中外表面IlOb面向使用者。接著，于基板110的內(nèi)表面IlOa上形成紅外光濾光層IRF。在本實(shí)施例中，紅外光濾光層IRF的材質(zhì)例如是包括鍺化合物或鍺硅化合物。請參照圖1B，然后，于基板110上形成第一圖案化導(dǎo)電層120，第一圖案化導(dǎo)電層120包括至少一柵極GE以及至少一條與柵極GE連接的掃描線(未標(biāo)示)，其中柵極GE與掃描線位于基板110的內(nèi)表面IlOa上。第一圖案化導(dǎo)電層120的材質(zhì)例如是導(dǎo)電良好的金屬或金屬疊層。請參照圖1C，接著，于基板110上形成第一介電層GI，以覆蓋柵極GE與掃描線SL。在本實(shí)施例中，第一介電層GI例如是還覆蓋紅外光濾光層IRF。第一介電層GI的材質(zhì)可以是高介電系數(shù)的氧化硅或氮化硅等絕緣材質(zhì)。然后，于紅外光濾光層IRF上形成透明電極 TE。透明電極TE的材質(zhì)可以是金屬氧化物，如銦錫氧化物、銦鋅氧化物、鋁錫氧化物、鋁鋅氧化物、銦鍺鋅氧化物、或其它合適的氧化物、或者是上述至少二個(gè)的堆疊層。請參照圖1D，接著，于第一介電層GI上形成通道層CH，其中通道層CH位于柵極GE上方。在本實(shí)施例中，于通道層CH形成后，可進(jìn)一步形成歐姆接觸層OC于對應(yīng)的通道層CH上，以降低通道層CH與后續(xù)膜層(源極以及漏極)之間的阻值。請參照圖1E，接著，于基板110上形成第二圖案化導(dǎo)電層130，第二圖案化導(dǎo)電層130包括至少一源極SE與至少一漏極DE，分別位于通道層CH的兩側(cè)，且電性連接通道層CH，其中透明電極TE電性連接源極SE與漏極DE其中之一。在本實(shí)施例中，第二圖案化導(dǎo)電層130的形成方法例如是形成一金屬層或金屬疊層，再圖案化此金屬層或金屬疊層，以形成源極SE與漏極DE，同時(shí)，以源極SE與漏極DE為罩幕移除部分的歐姆接觸層OC以形成歐姆接觸圖案0CP。此處，柵極GE、通道層CH、源極SE與漏極DE構(gòu)成多個(gè)信號讀出晶體管Tl。請參照圖1F，而后，于基板110上形成第二介電層PVl，覆蓋第二圖案化導(dǎo)電層130以及部分透明電極TE。此外，第二介電層PVl例如是覆蓋源極SE與漏極DE。在本實(shí)施例中，還包括圖案化第二介電層PVl以于其中形成一開口 W1，暴露出透明電極TE。第二介電層PVl的材質(zhì)例如是無機(jī)材料(例如氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、硅鋁氧化物或上述至少二種材料的堆疊層)、有機(jī)材料或上述的組合。當(dāng)然，本實(shí)施例不以此為限，凡是可以提供絕緣特性的材料都可以選擇性地應(yīng)用于本實(shí)施例。請參照圖1G，接著，于透明電極TE上形成紅外光感測層IRS，紅外光感測層IRS經(jīng)由開口 Wl與透明電極TE接觸。紅外光感測層IRS的材質(zhì)例如包括富鍺化合物、富硅化合物或是富鍺硅化合物，可以有較佳的感測效果。其中，富鍺化合物例如包括富鍺氧化鍺、富錯(cuò)氣化錯(cuò)、富錯(cuò)碳化錯(cuò)、富錯(cuò)氣氧化錯(cuò)、富錯(cuò)碳氧化錯(cuò)、富錯(cuò)氫!氧化錯(cuò)、富錯(cuò)氫!氣化錯(cuò)、富錯(cuò)氫碳化鍺。富硅化合物例如包括富硅氧化硅、富硅氮化硅、富硅碳化硅、富硅氮氧化硅、富硅碳氧化硅、富硅氫氧化硅、富硅氫氮化硅、富硅氫碳化硅。富鍺硅化合物例如包括富鍺硅氧化鍺硅、富鍺硅氮化鍺硅、富鍺硅碳化鍺硅、富鍺硅氮氧化鍺硅、富鍺硅碳氧化鍺硅、富鍺硅氫氧化鍺硅、富鍺硅氫氮化鍺硅、富鍺硅氫碳化鍺硅。以上僅用于舉例說明，并不限制紅外光感測層IRS的材質(zhì)。
請參照圖1H，然后，于基板110上形成圖案化遮光導(dǎo)電層140，包括感測電極El與遮光電極142，感測電極El配置于紅外光感測層IRS上，遮光電極142配置于第二介電層PVl上，且對準(zhǔn)通道層CH。此處，透明電極TE、紅外光感測層IRS與感測電極El構(gòu)成多個(gè)光感測元件S，且各信號讀出晶體管Tl分別與對應(yīng)的光感測元件S電性連接。再者，遮光電極142可遮蔽背光對通道層CH造成的干擾。如此一來，可降低信號讀出晶體管Tl因照光所產(chǎn)生的光漏電流，進(jìn)而提升信號讀出晶體管Tl的光電特性。
請參照圖II，本實(shí)施例的光學(xué)式觸控面板100可進(jìn)一步包括一背光源BLU，例如是紅外光背光源，用于增進(jìn)觸控感測的效果，其中圖案化遮光導(dǎo)電層140位于背光源BLU與通道層CH之間。具體而言,在本實(shí)施例的光學(xué)式觸控面板100中，上述各膜層位于基板110與背光源BLU之間。是以，本實(shí)施例的光學(xué)式觸控面板100可以在不用額外配置其他保護(hù)裝置下，避免信號讀出晶體管Tl以及光感測元件S受到外在環(huán)境以及人為因素的影響而造成其損傷。其中，遮光電極142可遮蔽背光對通道層CH造成的干擾，此外，由于遮光電極142是與感測電極El —起形成，因此，本實(shí)施例的光學(xué)式觸控面板100可具有較簡易的工藝以及較低的工藝成本。在此種架構(gòu)下，當(dāng)使用者未觸碰光學(xué)式觸控面板100時(shí)，電流由信號讀出(未繪示)傳輸至源極SE后再傳輸至漏極DE。而當(dāng)使用者以手指F或是任何可反光的元件觸碰觸控面板100的外表面時(shí)，背光源BLU所發(fā)出的光線L會被手指F反射，反射的光線L’會被光感測層IRS所吸收而產(chǎn)生光電流，進(jìn)而使感測電極El產(chǎn)生壓降(即感測電極El與共用線(未繪示)之間有壓差)。此壓降會通過信號讀出線(未繪示)而被晶片讀取，以判定出使用者觸碰的位置。當(dāng)然，本申請的觸控面板的架構(gòu)(光源以及膜層的配置)不限于此。至于詳細(xì)的信號讀出電路設(shè)計(jì)架構(gòu)以及其平面走線布局，均為本領(lǐng)域通常知識者所熟知，因此不再贅述。在本實(shí)施例中，光學(xué)式觸控面板100包括基板110、紅外光濾光層IRF、第一圖案化導(dǎo)電層120、第一介電層GI、通道層CH、第二圖案化導(dǎo)電層130、透明電極TE、第二介電層PV1、紅外光感測層IRS以及圖案化遮光導(dǎo)電層140?；?10具有內(nèi)表面110a。紅外光濾光層IRF配置于基板110的內(nèi)表面IlOa上。第一圖案化導(dǎo)電層120包括至少一柵極GE以及至少一條與柵極GE連接的掃描線(未繪不)，其中柵極GE與掃描線位于基板110的內(nèi)表面IlOa上。第一介電層GI配置于基板110上，以覆蓋柵極GE與掃描線。通道層CH配置于第一介電層GI上，且位于柵極GE上方。第二圖案化導(dǎo)電層130包括至少一源極SE與至少一漏極DE，分別位于通道層CH的兩側(cè)，且電性連接通道層CH。透明電極TE配置于紅外光濾光層IRF上，電性連接源極SE與漏極DE其中之一。第二介電層PVl覆蓋第二圖案化導(dǎo)電層130以及部分透明電極TE。紅外光感測層IRS配置于透明電極TE上。圖案化遮光導(dǎo)電層140包括感測電極El與遮光電極142，感測電極El配置于紅外光感測層IRS上，遮光電極142配置于第二介電層PVl上，且對準(zhǔn)通道層CH。在本實(shí)施例中，由于遮光電極142可遮蔽背光對通道層CH造成的干擾。如此一來，可降低信號讀出晶體管Tl因照光所產(chǎn)生的光漏電流，進(jìn)而提升信號讀出晶體管Tl的光電特性。此外，由于遮光電極142是與感測電極El —起形成，因此，本實(shí)施例的光學(xué)式觸控面板100可具有較簡易的工藝以及較低的工藝成本。
第二實(shí)施例圖2A至圖21為本發(fā)明第二實(shí)施例的光學(xué)式觸控面板的制造方法的剖面示意圖。由于第二實(shí)施例的光學(xué)式觸控面板的構(gòu)件與第一實(shí)施例中所述者相同，因此以下針對步驟流程與不同處進(jìn)行說明，其余部分可參照第一實(shí)施例，于此不贅述。請參照圖2A，首先，提供基板110，其中基板110具有內(nèi)表面110a。接著，于基板110的內(nèi)表面IlOa上形成第一圖案化導(dǎo)電層120，第一圖案化導(dǎo)電層120包括至少一柵極GE以及至少一條與柵極GE連接的掃描線(未標(biāo)示)。請參照圖2B，然后，于基板110上形成第一介電層GI，以覆蓋柵極GE與掃描線SL。接著，于基板110的內(nèi)表面IlOa上形成紅外光濾光層IRF。在本實(shí)施例中，紅外光濾光層IRF例如是形成于第一介電層GI上。請參照圖2C，而后，于紅外光濾光層IRF上形成透明電極TE。
請參照圖2D，接著，于第一介電層GI上形成通道層CH，其中通道層CH位于柵極GE上方。在本實(shí)施例中，于通道層CH形成后，可進(jìn)一步形成歐姆接觸圖案OCP于對應(yīng)的通道層CH上。請參照圖2E，然后，于基板110上形成第二圖案化導(dǎo)電層130，第二圖案化導(dǎo)電層130包括至少一源極SE與至少一漏極DE，分別位于通道層CH的兩側(cè)，且電性連接通道層CH，其中透明電極TE電性連接源極SE與漏極DE其中之一。此處，柵極GE、通道層CH、源極SE與漏極DE構(gòu)成多個(gè)信號讀出晶體管Tl。請參照圖2F，而后，于基板110上形成第二介電層PVl，覆蓋第二圖案化導(dǎo)電層130以及部分透明電極TE。其中，第二介電層PVl例如是覆蓋源極SE與漏極DE。在本實(shí)施例中，還包括圖案化第二介電層PVl以于其中形成一開口 W1，暴露出透明電極TE。請參照圖2G，接著，于透明電極TE上形成紅外光感測層IRS，紅外光感測層IRS經(jīng)由開口 Wl與透明電極TE接觸。請參照圖2H，然后，于基板110上形成圖案化遮光導(dǎo)電層140，包括感測電極El與遮光電極142，感測電極El配置于紅外光感測層IRS上，遮光電極142配置于第二介電層PVl上，且對準(zhǔn)通道層CH。此處，透明電極TE、紅外光感測層IRS與感測電極El構(gòu)成多個(gè)光感測元件S，且各信號讀出晶體管Tl分別與對應(yīng)的光感測元件S電性連接。相較于第一實(shí)施例，本實(shí)施例是先制作第一圖案化導(dǎo)電層120，再制作紅外光濾光層IRF，也就是說，使用者可以根據(jù)需求交換第一圖案化導(dǎo)電層120與紅外光濾光層IRF的制作順序，如此所制作出的光學(xué)式觸控面板100仍具有第一實(shí)施例中所述的相同特性。第三實(shí)施例圖3A與圖3D是本發(fā)明第三實(shí)施例的光學(xué)式觸控顯示面板的制造方法的剖面示意圖。請參照圖3A，首先，提供第一基板110，其中第一基板110的內(nèi)表面IlOa上已形成有如圖IH所示的結(jié)構(gòu)。其中，如圖IH所示的結(jié)構(gòu)可以通過第一實(shí)施例或第二實(shí)施例中所述的方法制作。請參照圖3B，接著，于第一基板110的內(nèi)表面IlOa上可先形成黑色矩陣BM。然后，可于第一基板110的內(nèi)表面IlOa上形成彩色濾光層CF。繼之,可在第一基板110的內(nèi)表面I IOa上形成保護(hù)層PV2以及透明導(dǎo)電層TCL，其中保護(hù)層PV2覆蓋黑色矩陣BM與彩色濾光層CF。在本實(shí)施例中，彩色濾光層CF例如是包括紅色濾光層、綠光濾光層以及藍(lán)光濾光層。黑色矩陣BM例如是配置于彩色濾光層CF之間。請參照圖3C，而后，提供第二基板200，使第二基板200與第一基板110相對設(shè)置，且第二基板200面向第一基板110的內(nèi)表面110a。提供第二基板200的步驟包括組立第一基板110與第二基板200。在本實(shí)施例中，第二基板200例如是像素陣列基板，其包括多個(gè)主動(dòng)元件T2。第一基板110上的信號讀出晶體管Tl例如是與其中一個(gè)主動(dòng)元件T2對應(yīng)設(shè)置，以及第一基板110上的光感測元件S例如是與其中一個(gè)主動(dòng)元件T2對應(yīng)設(shè)置。如此一來，可以避免信號讀出晶體管Tl與光感測元件S的設(shè)置壓縮第二基板200側(cè)的透光區(qū)面積。接著，于第一基板110與第二基板200之間形成顯示介質(zhì)層300。顯示介質(zhì)層300例如是液晶層，顯示介質(zhì)層300亦可以是有機(jī)發(fā)光材料層，此皆為本領(lǐng)域通常知識者所熟知，因此不再贅述。請參照圖3D，提供背光源BLU，其中第二基板200位于背光源BLU與第一基板110之間。若顯不介質(zhì)層300使用有機(jī)發(fā)光材料層時(shí),亦可部分使用紅外光有機(jī)發(fā)光材料層,作為背光源BLU。在此種架構(gòu)下，當(dāng)使用者未觸碰光學(xué)式觸控顯示面板10時(shí)，電流由信號讀出 (未繪示)傳輸至源極SE后再傳輸至漏極DE。而當(dāng)使用者以手指F或是任何可反光的元件觸碰光學(xué)式觸控顯不面板10的外表面時(shí),背光源BLU所發(fā)出的光線L會被手指F反射，反射的光線L’會被光感測層IRS所吸收而產(chǎn)生光電流，進(jìn)而使感測電極El產(chǎn)生壓降(即感測電極El與共用線(未繪示)之間有壓差)。此壓降會通過信號讀出線(未繪示)而被晶片讀取，以判定出使用者觸碰的位置。當(dāng)然，本申請的光學(xué)式觸控顯示面板的架構(gòu)(光源以及膜層的配置)不限于此。在一變化實(shí)施例中(未繪示)，紅外光濾光層IRF亦可以包括藍(lán)光濾光層、綠光濾光層與紅光濾光層的疊層替代，如此，紅外光濾光層IRF例如是可以與彩色濾光層CF —起制作，以簡化光學(xué)式觸控顯不面板的工藝。此外，在一實(shí)施例中(未繪不)，彩色濾光層CF與黑色矩陣BM也可以是制作在第二基板200上，以將彩色濾光層CF直接整合于像素陣列基板上(Color Filter on Array, COA),或是將彩色濾光層CF直接整合于像素陣列基板下(Array on Color Filter, A0C)o在本實(shí)施例中，由于遮光電極142可遮蔽背光對通道層CH造成的干擾。如此一來，可降低信號讀出晶體管Tl因照光所產(chǎn)生的光漏電流，進(jìn)而提升信號讀出晶體管Tl的光電特性。此外，由于遮光電極142是與感測電極El —起形成，因此，本實(shí)施例的光學(xué)式觸控顯示面板10可具有較簡易的工藝以及較低的工藝成本。綜上所述，本發(fā)明的光學(xué)式觸控面板與光學(xué)式觸控顯示面板具有較佳的穿透率與觸控靈敏度。其中，于光學(xué)式觸控面板與光學(xué)式觸控顯示面板的制造方法中，遮光電極是與感測電極一起制作，因此可具有較簡易的工藝與較低的制作成本。此外，由于遮光電極對準(zhǔn)通道層，因此能避免通道層受到光照射等影響，以提升通道層的穩(wěn)定性。故，光學(xué)式觸控面板與光學(xué)式觸控顯示面板具有較佳的元件特性。雖然本發(fā)明已以實(shí)施例揭示如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何本領(lǐng)域普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作些許的更動(dòng)與潤飾，故本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視所附的權(quán)利要求所界定的范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)式觸控面板，包括 一第一基板，具有一內(nèi)表面； 一紅外光濾光層，配置于該基板的該內(nèi)表面上； 一第一圖案化導(dǎo)電層，包括至少一柵極以及至少一條與該柵極連接的掃描線，其中該柵極與該掃描線位于該基板的該內(nèi)表面上； 一第一介電層，配置于該基板上，以覆蓋該柵極、該掃描線； 一通道層，配置于該第一介電層上，且位于該柵極上方； 一第二圖案化導(dǎo)電層，包括至少一源極與至少一漏極，分別位于該通道層的兩側(cè)，且電性連接該通道層； 一透明電極，配置于該紅外光濾光層上，電性連接該源極與該漏極其中之一； 一第二介電層，覆蓋該第二圖案化導(dǎo)電層以及部分該透明電極； 一紅外光感測層，配置于該透明電極上；以及 一圖案化遮光導(dǎo)電層，包括一感測電極與一遮光電極，該感測電極配置于該紅外光感測層上，該遮光電極配置于該第二介電層上，且對準(zhǔn)該通道層。
2.如權(quán)利要求I所述的光學(xué)式觸控面板，其中該紅外光濾光層的材質(zhì)包括鍺化合物或鍺硅化合物。
3.如權(quán)利要求I所述的光學(xué)式觸控面板，其中該紅外光濾光層包括一藍(lán)光濾光層、一綠光濾光層與一紅光濾光層的疊層。
4.如權(quán)利要求I所述的光學(xué)式觸控面板，其中還包括一彩色濾光層，設(shè)置于該第一基板的該內(nèi)表面上。
5.如權(quán)利要求I所述的光學(xué)式觸控面板，其中還包括一黑色矩陣，設(shè)置于該第一基板的該內(nèi)表面上。
6.如權(quán)利要求I所述的光學(xué)式觸控面板，其中該紅外光感測層的材質(zhì)包括富鍺化合物、富硅化合物或是富鍺硅化合物。
7.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)式觸控面板，其中該些富鍺化合物包括富鍺氧化鍺、富鍺氮化鍺、富鍺碳化鍺、富鍺氮氧化鍺、富鍺碳氧化鍺、富鍺氫氧化鍺、富鍺氫氮化鍺、富鍺氫碳化錯(cuò)。
8.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)式觸控面板，其中該些富硅化合物包括富硅氧化硅、富硅氮化硅、富硅碳化硅、富硅氮氧化硅、富硅碳氧化硅、富硅氫氧化硅、富硅氫氮化硅、富硅氫碳化娃。
9.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)式觸控面板，其中該些富鍺硅化合物包括富鍺硅氧化鍺硅、富鍺硅氮化鍺硅、富鍺硅碳化鍺硅、富鍺硅氮氧化鍺硅、富鍺硅碳氧化鍺硅、富鍺硅氫氧化鍺硅、富鍺硅氫氮化鍺硅、富鍺硅氫碳化鍺硅。
10.如權(quán)利要求I所述的光學(xué)式觸控面板，其中該第二介電層具有一開口，暴露出該透明電極，該紅外光感測層經(jīng)由該開口與該透明電極接觸。
11.如權(quán)利要求I所述的光學(xué)式觸控面板，還包括一背光源，其中該圖案化遮光導(dǎo)電層位于該背光源與該些通道層之間。
12.—種光學(xué)式觸控面板的制造方法,包括 提供一基板，該基板具有一內(nèi)表面；于該基板的該內(nèi)表面上形成一紅外光濾光層； 于該基板上形成一第一圖案化導(dǎo)電層，包括至少一柵極以及至少一條與該柵極連接的掃描線，其中該柵極與該掃描線位于該基板的該內(nèi)表面上； 于該基板上形成一第一介電層，以覆蓋該柵極、該掃描線； 于該第一介電層上形成一通道層，其中該通道層位于該柵極上方； 于該基板上形成一第二圖案化導(dǎo)電層，該第二圖案化導(dǎo)電層包括至少一源極與至少一漏極，分別位于該通道層的兩側(cè)，且電性連接該通道層； 于該紅外光濾光層上形成一透明電極，電性連接該源極與該漏極其中之一； 于該基板上形成一第二介電層，覆蓋該第二圖案化導(dǎo)電層以及部分該透明電極；于該透明電極上形成一紅外光感測層；以及 于該基板上形成一圖案化遮光導(dǎo)電層，包括一感測電極與一遮光電極，該感測電極配置于該紅外光感測層上，該遮光電極配置于該第二介電層上，且對準(zhǔn)該通道層。
13.如權(quán)利要求12所述的光學(xué)式觸控面板的制造方法，其中該紅外光濾光層的材質(zhì)包括鍺化合物或鍺硅化合物。
14.如權(quán)利要求12所述的光學(xué)式觸控面板的制造方法，其中該紅外光濾光層包括一藍(lán)光濾光層、一綠光濾光層與一紅光濾光層的疊層。
15.如權(quán)利要求12所述的光學(xué)式觸控面板的制造方法,還包括于該第一基板的該內(nèi)表面上形成一彩色濾光層。
16.如權(quán)利要求12所述的光學(xué)式觸控面板的制造方法,還包括于該第一基板的該內(nèi)表面上形成一黑色矩陣。
17.如權(quán)利要求12所述的光學(xué)式觸控面板的制造方法,其中該第二介電層具有一開口，暴露出該透明電極，該紅外光感測層經(jīng)由該開口與該透明電極接觸。
18.—種光學(xué)式觸控顯不面板,包括 一第一基板，具有一內(nèi)表面； 一紅外光濾光層，配置于該基板的該內(nèi)表面上 一第一圖案化導(dǎo)電層，包括至少一柵極以及至少一條與該柵極連接的掃描線，其中該柵極與該掃描線位于該基板的該內(nèi)表面上； 一第一介電層，配置于該基板上，以覆蓋該柵極、該掃描線； 一通道層，配置于該第一介電層上，且位于該柵極上方； 一第二圖案化導(dǎo)電層，包括至少一源極與至少一漏極，分別位于該通道層的兩側(cè)，且電性連接該通道層； 一透明電極，配置于該紅外光濾光層上，電性連接該源極與該漏極其中之一； 一第二介電層，覆蓋該第二圖案化導(dǎo)電層以及部分該透明電極； 一紅外光感測層，配置于該透明電極上； 一圖案化遮光導(dǎo)電層，包括一感測電極與一遮光電極，該感測電極配置于該紅外光感測層上，該遮光電極配置于該第二介電層上，且對準(zhǔn)該通道層； 一第二基板，跟該第一基板相對設(shè)置，且該第二基板面向該第一基板的該內(nèi)表面；以及 一顯不介質(zhì)層，設(shè)置在該第一基板與該第二基板之間。
19.一種光學(xué)式觸控面板的制造方法,包括于一第一基板的一內(nèi)表面上形成一紅外光濾光層； 于該第一基板上形成一第一圖案化導(dǎo)電層，包括至少一柵極以及至少一條與該柵極連接的掃描線，其中該柵極與該掃描線位于該第一基板的該內(nèi)表面上； 于該第一基板上形成一第一介電層，以覆蓋該柵極、該掃描線； 于該第一介電層上形成一通道層，其中該通道層位于該柵極上方； 于該第一基板上形成一第二圖案化導(dǎo)電層，該第二圖案化導(dǎo)電層包括至少一源極與至少一漏極，分別位于該通道層的兩側(cè)，且電性連接該通道層； 于該紅外光濾光層上形成一透明電極，電性連接該源極與該漏極其中之一； 于該第一基板上形成一第二介電層，覆蓋該第二圖案化導(dǎo)電層以及部分該透明電極； 于該透明電極上形成一紅外光感測層； 于該第一基板上形成一圖案化遮光導(dǎo)電層，包括一感測電極與一遮光電極，該感測電極配置于該紅外光感測層上，該遮光電極配置于該第二介電層上，且對準(zhǔn)該通道層； 提供一 第二基板，使該第二基板與該第一基板相對設(shè)置，且該第二基板面向該第一基板的該內(nèi)表面；以及 于該第一基板與該第二基板之間形成一顯不介質(zhì)層。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光學(xué)式觸控面板及其制造方法以及光學(xué)式觸控顯示面板。所述光學(xué)式觸控面板，包括下列構(gòu)件。紅外光濾光層配置于基板的內(nèi)表面上。第一圖案化導(dǎo)電層包括位于基板的內(nèi)表面上的柵極及掃描線。第一介電層覆蓋柵極、掃描線。通道層配置于第一介電層上，且位于柵極上方。第二圖案化導(dǎo)電層包括源極與漏極，分別位于通道層的兩側(cè)。透明電極配置于紅外光濾光層上，電性連接源極與漏極其中之一。第二介電層覆蓋第二圖案化導(dǎo)電層以及部分透明電極。紅外光感測層配置于透明電極上。圖案化遮光導(dǎo)電層包括感測電極與遮光電極，感測電極配置于紅外光感測層上，遮光電極配置于第二介電層上，且對準(zhǔn)通道層。本發(fā)明具有較佳的穿透率與觸控靈敏度。
文檔編號G06F3/042GK102830859SQ201210327759
公開日2012年12月19日 申請日期2012年9月6日 優(yōu)先權(quán)日2012年6月27日
發(fā)明者張?zhí)旌? 章鈞, 范己文, 陳德銘, 卓恩宗, 張鈞杰 申請人:友達(dá)光電股份有限公司