專利名稱：一種電容式觸控面板的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種電容式觸控面板，屬觸控面板領域。
背景技術：
電容式觸控面板一般由IC芯片、柔性線路板、玻璃蓋板和傳感器等四部分組成。其中傳感器是電容式觸控面板的核心部件，由驅(qū)動電極和感應電極組成。按照傳感器基材 可分為玻璃結(jié)構(gòu)和PET膜結(jié)構(gòu)；按照傳感器制造工藝可分為黃光工藝和絲網(wǎng)印刷工藝。電容式觸控面板的制造需要用到昂貴的氧化銦錫制作視窗區(qū)的透明導電線路；用鑰鋁鑰、銀或者銅合金制作邊框區(qū)域線路材料。氧化銦錫中的“銦”是稀土元素，隨著國際稀土價格日漸升高，氧化銦錫透明導電膜的制作成本也越來越高；另外由于氧化銦錫需要采用真空磁控濺射的方式均勻鍍在PET膜上面，而PET膜不耐高溫，因此這種原材料制作難度較大，量產(chǎn)水平的氧化銦錫方阻最小只有100 Ω / 口。無法滿足大尺寸產(chǎn)品對方阻的需求。另外，電容式觸控面板透明導電線路和邊框?qū)щ娋€路是分兩次制作完成的，一般先制作視窗區(qū)域的透明導電線路，然后再制作邊框?qū)щ娋€路，工藝相對復雜。最后，電容式觸控面板的主流做法有二種一種是驅(qū)動電極和感應電極分開制作，制作完成后用光學膠貼合在一起；另一種是在透明基材的正反兩面分別制作驅(qū)動電極和感應電極。這兩種結(jié)構(gòu)制作工藝都比較復雜。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術問題是提供一種厚度薄、性能好、制作工藝簡單的電容式觸控面板。為解決上述問題，本發(fā)明所采取的技術方案是
通過磁控濺鍍、蒸鍍、電鍍或涂布等方式在透明基材單面形成一均勻的導電層。該透明基材可以為玻璃、PET、PC、PMMA等光學性能優(yōu)異的材料；該導電層為電阻值較低的金、銀、銅、鋁等金屬。然后在該導電層上涂布光阻、用掩膜版對光阻進行曝光，然后經(jīng)過顯影、蝕刻、剝膜，即完成了傳感器所有電路圖案的布設。根據(jù)人眼的生理構(gòu)造，線條距離72um時，線條間模糊；線條距離40um時，人眼不可分辨。所以本發(fā)明利用這種原理，采用的涂膠、曝光，然后顯影、蝕刻、剝膜這種黃光工藝，做出精細的電路圖案，最細線寬可以做到IOum以下。人眼是無法識別這種線寬IOum左右的網(wǎng)格；同時這種線路網(wǎng)格又有優(yōu)異的導電性能，根據(jù)設計不同，其表面電阻一般小于I Ω / □，有些甚至可以達到O. I Ω / □，這遠遠低于氧化銦錫的方阻。因此可以將這種網(wǎng)格應用于可視區(qū)域，作為透明導電材料使用。尤其適合應用于大尺寸觸控面板。該網(wǎng)格的形狀沒有特別的限定，可以是一條很細的線條彎曲形成各種電路圖案，也可以是三角形、四邊形、五邊形、六邊形…甚至圓形等等。由于該導電材料可同時用于透明導電線路和邊框?qū)щ娋€路的布設，因此可視區(qū)透明導電線路和邊框?qū)щ娋€路是同時制作完成的。
由于本發(fā)明采用的光阻涂布、曝光，然后顯影、蝕刻、剝膜這種黃光工藝，可以加工出非常精細的電路圖案，因此可以把觸控面板驅(qū)動電極和感應電極集中在透明基材的同一面上，驅(qū)動電極的通道在與感應電極通道相交處斷開，通過細導線將該斷開通道導引到FPC熱壓Pin腳位置。因此本發(fā)明所制作的觸控面板具有成本低、性能優(yōu)異、工藝簡單等優(yōu)點。本發(fā)明一種電容式觸控面板的制造包括如下步驟。步驟一在透明基底一面布設一導電層。該透明基材可以選用光學級的玻璃、PET、PC、PMMA或其光學性能優(yōu)異的材料。該導電材料可以是電阻值較低的金、銀、銅、鋁等金屬，考慮到后續(xù)蝕刻加工制程方便，以及蝕刻后產(chǎn)品抗氧化、抗鹽霧試驗要求，該導電材料還會添加鎳、鈦、鑰、鈀等金屬。該不透明導電層可以通過磁控濺鍍、蒸鍍、電鍍或涂布等方式布設。步驟二 在步驟一所述導電層表面涂布光阻。該光阻可以是市售感光干膜，也可以是液態(tài)的光阻膠?？梢允钦怨庾瑁部梢允秦撔怨庾?。步驟三附加掩膜版曝光。掩膜版上繪有電路圖案，將掩膜版附在光阻表面，然后對著掩膜版曝光，掩膜版上的圖案就轉(zhuǎn)移到光阻上面，形成潛影。該掩膜版可以使鉻版、玻璃干版、菲林版等等，考慮到成本及使用效果，優(yōu)選玻璃干版。步驟四顯影。用顯影劑將光阻潛影部分溶解，使該處導電層金屬裸露；剩余光阻仍然保留，用于保護下方的導電層金屬。步驟五蝕刻。用蝕刻劑將上步裸露出的導電金屬蝕刻掉，只留下光阻保護下的導電金屬，從而形成了需要的電路圖案。步驟六剝膜。用剝膜液將光阻從導電層表面剝離。通過上述步驟，就得到了一種電容式觸控面板。


圖I :為透明基板布設導電層、涂布光阻后的剖面示意圖。圖2 :為該透明基板附加掩膜版、曝光的剖面示意圖。圖3 :為該透明基板顯影后的剖面示意圖。圖4 :為該透明基板蝕刻后的剖面示意圖。圖5 :為該透明基板剝膜后的剖面示意圖。圖6 :為加工完成后的觸控面板俯視效果圖。圖7 :為該觸控面板局部線路放大示意圖。
具體實施例方式下面是本發(fā)明的具體實施例來進一步描述。( I)把透明基材I放在濺射鍍膜設備內(nèi)，以真空磁控濺鍍的方式，在透明基材I的表面形成導電層2。該透明基材選用光學級的聚對苯二甲酸乙二醇酯(簡稱PET)，厚度125微米。該導電材料選擇銅鎳鈦。鍍膜以卷到卷的方式進行。(2)把上述濺鍍導電材料的柔性透明基材的導電面布設光阻3。該光阻采用正性液態(tài)光阻膠。涂布光阻后的材料剖面結(jié)構(gòu)如圖I所示。
(3)把(2)所述材料光阻面附加掩膜版4，通過曝光，把掩膜版上的圖案轉(zhuǎn)移到光阻上面。該掩膜版采用玻璃干版。掩膜曝光時的材料剖面狀態(tài)如圖2所示，5代表曝光時的平行光線。(4)把(3)所述材料進行顯影操作，使部分導電材料裸露、部分導電材料被光阻保護。顯影后材料的剖面結(jié)構(gòu)如圖3所示。
(5)把(4)所述材料進行蝕刻操作。在40攝氏度溫度下使用鹽酸蝕刻，去除裸露的導電材料銅鎳鈦。蝕刻后材料的剖面結(jié)構(gòu)如圖4所示。(6)把(5)所述材料進行剝膜操作，去除光阻。這樣就得到了我們所需要的觸控面板電路圖案。圖5為該產(chǎn)品剖面結(jié)構(gòu)，其中VA代表該觸控面板視窗區(qū)域，F(xiàn)代表該觸控面板的邊框區(qū)域；a代表視窗區(qū)細網(wǎng)格導電圖案；b代表邊框區(qū)導線圖案。(7)圖6為該產(chǎn)品俯視圖、圖7為該產(chǎn)品局部放大圖?？梢钥闯鲆暣皡^(qū)域內(nèi)的電路圖案為鏤空網(wǎng)格構(gòu)成，網(wǎng)格線寬9um，網(wǎng)格大小300um*300um ;邊框區(qū)域為實心金屬導線。本發(fā)明雖由上述實施例來描述，但仍可變化其形態(tài)與細節(jié)，在不脫離本發(fā)明的精神下制作。上述為本發(fā)明最合理的使用方法，僅為本發(fā)明可以具體實施的方式之一，但并不以此為限。本專業(yè)技術人員理解，在本發(fā)明權(quán)利要求所限定的精神和范圍內(nèi)可對其進行許多改變，修改，甚至等效，但都將落入本發(fā)明的保護范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種電容式觸控面板，其特征在于驅(qū)動電路和感應電路位于透明基材的同一面。
2.如權(quán)利要求I所述的觸控面板，其特征還在于驅(qū)動路和感應電路都是由視窗區(qū)的透明電路圖案和邊框?qū)Ь€圖案組成。
3.一種電容式觸控面板，其特征在于視窗區(qū)的透明電路圖案和邊框?qū)Ь€圖案是同時被制作出來的。
4.如權(quán)利要求3所述的觸控面板，其特征還在于視窗區(qū)域的透明電路圖案是由很細的金屬網(wǎng)格組成的。
5.如權(quán)利要求3所述的觸控面板，其特征還在于視窗區(qū)的透明電路圖案和邊框?qū)Ь€圖案是通過曝光蝕刻工藝制作的。
6.如權(quán)利要求3所述的觸控面板，其特征還在于視窗區(qū)的透明電路圖案和邊框?qū)Ь€圖案是由電阻比較小的金、銀、銅、鋁或者這些金屬與其他金屬的合金組成，考慮到曝光蝕刻工藝的特點，優(yōu)選銅、以及銅合金。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種電容式觸控面板及其制造方法。具體過程為在一透明基材單面布設導電層；上述材料經(jīng)過上光阻、曝光、顯影、蝕刻等過程，形成電路圖形；所述電路圖案包括可視區(qū)的細網(wǎng)格圖案(a)和邊框區(qū)的導線圖案(b)。此結(jié)構(gòu)觸控面板具有厚度薄、性能好、制作工藝簡單等優(yōu)點。
文檔編號G06F3/044GK102929462SQ20121041958
公開日2013年2月13日 申請日期2012年10月29日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月29日
發(fā)明者王科磊, 楊松義, 張記寧, 潘紹明, 楊勝利 申請人:煙臺正海科技有限公司