專利名稱：一種彩膜基板制作方法、彩膜基板及顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)，尤其一種彩膜基板制作方法、彩膜基板及顯示裝置。
背景技術(shù)：
目前，嵌入式觸摸屏采用電壓感應(yīng)方式或是感應(yīng)盒厚變化產(chǎn)生的電容變化的感應(yīng)方式時(shí)，均需要在彩膜基板上制作感應(yīng)電極隔墊物。如圖1所示，感應(yīng)電極隔墊物的高度比支撐隔墊物小，同時(shí)，感應(yīng)電極表面覆蓋導(dǎo)電金屬或ITO層，從而在收到壓力時(shí)，接觸陣列基板 上的感應(yīng)電極，產(chǎn)生電壓或電容變化，實(shí)現(xiàn)觸摸感應(yīng)。目前感應(yīng)電極隔墊物的是采用支撐隔墊物材料制作，而感應(yīng)電極隔墊物和支撐隔墊物的高度不同，且感應(yīng)電極表面需要覆蓋導(dǎo)電金屬或ITO層，而支撐隔墊物需要保證絕緣性，所以需要多次涂覆隔墊物材料，工藝流程復(fù)雜。具體的，在色阻等層制作完畢后，首先制作感應(yīng)電極隔墊物，再覆蓋導(dǎo)電金屬或ITO層，然后再制作支撐隔墊物，從而完成彩膜基板的制作?？梢姡辽傩枰獌纱瓮扛哺魤|物材料分別形成感應(yīng)電極隔墊物和支撐隔墊物，工藝流程復(fù)雜，制程較長。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實(shí)施例提供一種彩膜基板制作方法、彩膜基板及顯示裝置，以降低制作彩膜基板的工藝復(fù)雜度。一種彩膜基板,包括色阻、感應(yīng)電極隔墊物、覆蓋在所述色阻及感應(yīng)電極隔墊物上的導(dǎo)電層，以及與陣列基板絕緣連接的支撐隔墊物，其中，所述感應(yīng)電極隔墊物的材質(zhì)與所述色阻的材質(zhì)相同，且所述感應(yīng)電極隔墊物至少與所述紅色色阻、綠色色阻或藍(lán)色色阻中的一個(gè)位于同一層。一種顯示裝置，包括本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板?！N彩膜基板制作方法，包括同時(shí)制作色阻及感應(yīng)電極隔墊物；在所述色阻及感應(yīng)電極隔墊物上制作導(dǎo)電層；制作支撐隔墊物。本發(fā)明實(shí)施例提供一種彩膜基板制作方法、彩膜基板及顯示裝置，感應(yīng)電極隔墊物的材質(zhì)與色阻的材質(zhì)相同，且感應(yīng)電極隔墊物至少與所述紅色色阻、綠色色阻或藍(lán)色色阻中的一個(gè)位于同一層，感應(yīng)電極隔墊物采用色阻層的堆疊產(chǎn)生，所以可以在色阻圖形形成的同時(shí)形成感應(yīng)電極隔墊物，然后制作導(dǎo)電層，再進(jìn)行支撐隔墊物制作，簡化了工藝制程，降低了制作彩膜基板的工藝復(fù)雜度。


圖1為現(xiàn)有技術(shù)中彩膜基板結(jié)構(gòu)示意圖；圖2a和圖2b為本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板制作方法流程圖；圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的較具體的彩膜基板制作方法流程圖。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明實(shí)施例提供一種彩膜基板制作方法、彩膜基板及顯示裝置，感應(yīng)電極隔墊物的材質(zhì)與色阻的材質(zhì)相同，且感應(yīng)電極隔墊物至少與所述紅色色阻、綠色色阻或藍(lán)色色阻中的一個(gè)位于同一層，感應(yīng)電極隔墊物采用色阻層的堆疊產(chǎn)生，所以可以在色阻圖形形成的同時(shí)形成感應(yīng)電極隔墊物，然后制作導(dǎo)電層，再進(jìn)行支撐隔墊物制作，簡化了工藝制程，降低了制作彩膜基板的工藝復(fù)雜度。如圖2a所示，本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板包括色阻201、感應(yīng)電極隔墊物202、覆蓋在色阻及感應(yīng)電極隔墊物上的導(dǎo)電層203，以及與陣列基板絕緣連接的支撐隔墊物204，其中，感應(yīng)電極隔墊物202的材質(zhì)與色阻201的材質(zhì)相同，且感應(yīng)電極隔墊物202至少與所述紅色色阻、綠色色阻或藍(lán)色色阻中的一個(gè)位于同一層。這樣，就可以同時(shí)制作感應(yīng)電極隔墊物202與色阻201，從而減少工藝流程，降低
工藝復(fù)雜度。其中，導(dǎo)電層可以是導(dǎo)電金屬層或者ITO (氧化銦錫)層，也可以由導(dǎo)電金屬層和ITO層復(fù)合而成。支撐隔墊物需要與陣列基板絕緣，所以可以直接使用絕緣物制作支撐隔墊物，并將支撐隔墊物設(shè)置在導(dǎo)電層上。進(jìn)一步，制作紅色色阻、綠色色阻或藍(lán)色色阻的同時(shí)，只要使感應(yīng)電極隔墊物采用紅色色阻、綠色色阻、藍(lán)色色阻中的至少一層在對(duì)應(yīng)位置進(jìn)行圖形堆疊即可，這樣就可以使得感應(yīng)電極隔墊物與色阻同時(shí)制作，不必單獨(dú)制作感應(yīng)電極隔墊物，從而減少工藝流程。如圖2b所示，本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板中，由多個(gè)顏色的色阻進(jìn)行圖形堆疊制作感應(yīng)電極隔墊物較佳，這樣，即可進(jìn)一步確保感應(yīng)電極隔墊物具有足夠的高度，提高觸控靈敏度。本發(fā)明實(shí)施例還相應(yīng)提供一種顯示裝置，該顯示裝置包括本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板。本發(fā)明實(shí)施例還相應(yīng)提供一種彩膜基板制作方法，如圖3所示，該方法包括步驟S301、同時(shí)制作色阻及感應(yīng)電極隔墊物；步驟S302、在色阻及感應(yīng)電極隔墊物上制作導(dǎo)電層；步驟S303、制作支撐隔墊物。由于在步驟S301中同時(shí)制作了色阻及感應(yīng)電極隔墊物，所以將兩個(gè)步驟合并成一步完成，減少了工藝流程。其中，導(dǎo)電層可以是導(dǎo)電金屬層或者ITO層，也可以由導(dǎo)電金屬層和ITO層復(fù)合而成，所以在步驟S302中，在色阻及感應(yīng)電極隔墊物上制作導(dǎo)電層，具體包括
在色阻及感應(yīng)電極隔墊物上制作導(dǎo)電金屬層；和/或在色阻及感應(yīng)電極隔墊物上制作ITO層。支撐隔墊物需要與陣列基板絕緣，所以可以直接使用絕緣物制作支撐隔墊物，并將支撐隔墊物設(shè)置在導(dǎo)電層上，此時(shí)，步驟S303中，制作支撐隔墊物，具體為在導(dǎo)電層上制作支撐隔墊物。制作紅色色阻、綠色色阻或藍(lán)色色阻的同時(shí)，只要使感應(yīng)電極隔墊物采用紅色色阻、綠色色阻、藍(lán)色色阻中的至少一層在對(duì)應(yīng)位置進(jìn)行圖形堆疊即可，此時(shí)，步驟S301中，同時(shí)制作色阻及感應(yīng)電極隔墊物，具體為同時(shí)制作紅色色阻、綠色色阻或藍(lán)色色阻中的至少一個(gè)及感應(yīng)電極隔墊物。進(jìn)一步，在步驟S301中，同時(shí)制作色阻及感應(yīng)電極隔墊物，可以具體為在制作色阻的同時(shí)，采用色阻積層的方式制作感應(yīng)電極隔墊物，如果感應(yīng)電極隔墊物和色阻的高度差異較大，可以采用半色調(diào)曝光或者灰階曝光的方式進(jìn)行層積高度調(diào)整，得到不同高度的色阻及感應(yīng)電極隔墊物。通常，在制作色阻前，還需要制作黑矩陣，此時(shí)，步驟S301在同時(shí)制作色阻及感應(yīng)電極隔墊物之前，還包括在基板上制作黑矩陣。具體的，如圖4所示，制作彩膜基板的較具體的方法包括步驟S401、進(jìn)行基板清洗；步驟S402、在基板上制作黑矩陣；步驟S403、同時(shí)制作色阻及感應(yīng)電極隔墊物；步驟S404、在色阻及感應(yīng)電極隔墊物上制作導(dǎo)電層；步驟S405、在導(dǎo)電層上制作支撐隔墊物。通過上述步驟，即可完成彩膜基板中色阻、感應(yīng)電極隔墊物及支撐隔墊物的制作，減少了工藝流程，降低了工藝復(fù)雜度。本發(fā)明實(shí)施例提供一種彩膜基板制作方法、彩膜基板及顯示裝置，感應(yīng)電極隔墊物的材質(zhì)與色阻的材質(zhì)相同，且感應(yīng)電極隔墊物至少與所述紅色色阻、綠色色阻或藍(lán)色色阻中的一個(gè)位于同一層，感應(yīng)電極隔墊物采用色阻層的堆疊產(chǎn)生，所以可以在色阻圖形形成的同時(shí)形成感應(yīng)電極隔墊物，然后制作導(dǎo)電層，再進(jìn)行支撐隔墊物制作，簡化了工藝制程，降低了制作彩膜基板的工藝復(fù)雜度。顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種彩膜基板，其特征在于，包括色阻、感應(yīng)電極隔墊物、覆蓋在所述色阻及感應(yīng)電極隔墊物上的導(dǎo)電層，以及與陣列基板絕緣連接的支撐隔墊物，其中，所述感應(yīng)電極隔墊物的材質(zhì)與所述色阻的材質(zhì)相同，且所述感應(yīng)電極隔墊物至少與所述紅色色阻、綠色色阻或藍(lán)色色阻中的一個(gè)位于同一層。
2.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述導(dǎo)電層具體為導(dǎo)電金屬層和/或氧化銦錫ITO層。
3.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述支撐隔墊物設(shè)置在所述導(dǎo)電層上。
4.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-3任一所述的彩膜基板。
5.一種彩膜基板制作方法，其特征在于，包括同時(shí)制作色阻及感應(yīng)電極隔墊物；在所述色阻及感應(yīng)電極隔墊物上制作導(dǎo)電層；制作支撐隔墊物。
6.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述在所述色阻及感應(yīng)電極隔墊物上制作導(dǎo)電層，具體包括在所述色阻及感應(yīng)電極隔墊物上制作導(dǎo)電金屬層；和/或在所述色阻及感應(yīng)電極隔墊物上制作ITO層。
7.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，同時(shí)制作色阻及感應(yīng)電極隔墊物，具體為 同時(shí)制作紅色色阻、綠色色阻或藍(lán)色色阻中的至少一個(gè)及感應(yīng)電極隔墊物。
8.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述同時(shí)制作色阻及感應(yīng)電極隔墊物，具體為在制作色阻的同時(shí)，采用色阻積層的方式制作感應(yīng)電極隔墊物。
9.如權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，所述在制作色阻的同時(shí)，采用色阻積層的方式制作感應(yīng)電極隔墊物，具體包括采用半色調(diào)曝光或者灰階曝光的方式進(jìn)行層積高度調(diào)整，得到不同高度的色阻及感應(yīng)電極隔墊物。
10.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，在所述同時(shí)制作色阻及感應(yīng)電極隔墊物之前，還包括在基板上制作黑矩陣。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種彩膜基板制作方法、彩膜基板及顯示裝置，涉及顯示技術(shù)，感應(yīng)電極隔墊物的材質(zhì)與色阻的材質(zhì)相同，且感應(yīng)電極隔墊物至少與所述紅色色阻、綠色色阻或藍(lán)色色阻中的一個(gè)位于同一層，感應(yīng)電極隔墊物采用色阻層的堆疊產(chǎn)生，所以可以在色阻圖形形成的同時(shí)形成感應(yīng)電極隔墊物，然后制作導(dǎo)電層，再進(jìn)行支撐隔墊物制作，簡化了工藝制程，降低了制作彩膜基板的工藝復(fù)雜度。
文檔編號(hào)G06F3/041GK103019448SQ20121056474
公開日2013年4月3日 申請(qǐng)日期2012年12月21日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月21日
發(fā)明者李娟 申請(qǐng)人:北京京東方光電科技有限公司