本發(fā)明涉及液晶顯示領域，特別涉及一種彩膜基板及其制造方法和觸摸屏。

背景技術：
近來，液晶顯示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)技術有了飛速的發(fā)展，從屏幕的尺寸到顯示的質量都取得了極大的進步，LCD具有體積小、功耗低、無輻射等特點，現已占據了平面顯示領域的主導地位。其中，觸摸屏是將輸入、輸出終端一體化的重要載體之一，近年來，隨著小巧、輕盈的手持設備等一系列產品的問世，市場對觸摸屏的需求激增。圖1為現有技術中的觸摸屏的結構示意圖，如圖1所示，現有技術中的觸摸屏為電壓感應式觸摸屏，所述觸摸屏包括：陣列基板和彩膜基板，所述陣列基板包括柵線1、數據線2和一套獨立的實現觸摸功能的觸控掃描線3、觸控感應線4和感光單元5，所述感光單元5包括兩個獨立的感光結構，觸控掃描線3和觸控感應線4分別連接一個感光結構。當觸摸屏被觸摸時，感光結構會分別向對應的觸控掃描線3或觸控感應線4發(fā)送一個電信號。觸摸屏的控制單元接收到觸控掃描線3和觸控感應線4返回的電信號后可以計算出觸控點的坐標，從而現實對觸摸點的定位。觸摸屏在顯示時，光線經由背光板發(fā)射出來，但是并非所有的光線都能穿過面板，比如信號走線（數據線1、柵線2、觸控掃描線3、觸控感應線4）、薄膜場效應晶體管（ThinFilmTransistor，簡稱TFT）和儲存電容等地方。這些地方除了不完全透光外，而且經過這些地方的光線不受電壓控制，從而無法顯示正確的灰階，所以這些地方都需利用黑矩陣加以遮蔽，以免干擾其它透光區(qū)域?，F有技術將觸控掃描線3和觸控感應線4都設置在已經形成有柵線和數據線的陣列基板上，使得彩膜基板上的黑矩陣的面積必然要增大，使得像素單元的透光區(qū)域減小，從而使得像素單元的開口率下降。將觸控掃描線3和觸控感應線4設置在陣列基板上，還會使得陣列基板上的走線過多，而增加制備觸摸屏的工藝難度，相應的工藝不良也會增多。

技術實現要素：
本發(fā)明提供了一種彩膜基板及其制造方法、觸摸屏和顯示裝置，本發(fā)明能提高像素的開口率，降低觸摸屏的工藝難度，提升了工藝良率。為實現上述目的，本發(fā)明提供一種彩膜基板，包括：襯底基板和位于所述襯底基板上的黑矩陣，所述黑矩陣限定出若干個像素單元，每個所述像素單元內設置有彩膜，該彩膜基板還包括：感光單元、相互絕緣的觸控掃描線和觸控感應線，所述感光單元位于所述像素單元內，所述感光單元、所述觸控掃描線和所述觸控感應線設置于所述黑矩陣所對應的區(qū)域內，所述感光單元與所述觸控掃描線和所述觸控感應線接觸?？蛇x地，所述感光單元為一體化結構，所述感光單元當被特定的光線照射時導通所述觸控掃描線和所述觸控感應線?？蛇x地，所述觸控掃描線上施加時序脈沖信號；所述觸控感應線在感光單元導通時輸出與所述觸控掃描線上時序相同的脈沖信號?？蛇x地，在每個所述像素單元內都設置有所述感光單元，或在間隔的所述像素單元內設置有所述感光單元。可選地，所述感光單元為光敏半導體。為實現上述目的，本發(fā)明還提供一種觸摸屏，包括：相對設置的陣列基板和彩膜基板，所述陣列基板包括：柵線和數據線，所述彩膜基板采用上述的彩膜基板?？蛇x地，所述觸摸屏還包括：信號加載單元和信號處理單元；所述信號加載單元用于向所述觸控掃描線加載所述觸控掃描信號；所述信號處理單元用于接收并處理所述觸控感應線中的所述觸控感應信號?？蛇x地，所述信號加載單元和信號處理單元均設置于所述彩膜基板上，所述信號加載單元與所述觸控掃描線連接；所述信號處理單元與所述觸控感應線連接?？蛇x地，所述信號加載單元和信號處理單元均設置于所述陣列基板上，所述信號加載單元通過柔性電路板與所述觸控掃描線連接，所述信號處理單元通過柔性電路板與所述觸控感應線連接。為實現上述目的，本發(fā)明還提供一種彩膜基板的制造方法，包括：在襯底基板上形成觸控掃描線。在所述襯底基板上形成觸控感應線，觸控掃描線和觸控感應線相互絕緣。在所述襯底基板上形成感光單元，所述感光單元與所述觸控掃描線和所述觸控感應線接觸。在所述襯底基板上形成黑矩陣和彩膜，所述黑矩陣限定出若干個像素單元，每個所述像素單元內設置有彩膜，所述感光單元位于所述像素單元內，所述感光單元、所述觸控掃描線和所述觸控感應線設置于所述黑矩陣所對應的區(qū)域內。本發(fā)明具有以下有益效果：本發(fā)明提供一種彩膜基板及其制造方法和觸摸屏，通過將實現觸摸功能的感光單元、觸控掃描線和觸控感應線設置在彩膜基板上，可有效提高像素單元的開口率，同時也降低了觸摸屏的工藝難度，提升了工藝良率。附圖說明圖1為現有技術中的觸摸屏的結構示意圖；圖2為本發(fā)明實施例一提供的彩膜基板的示意圖；圖3為本發(fā)明實施例一提供的彩膜基板上的等效電路圖；圖4為觸控掃描線施加信號的時序圖；圖5為本發(fā)明實施例二提供的觸摸屏上的等效電路圖；圖6為本發(fā)明實施例二提供的觸摸屏中的陣列基板的示意圖；圖7為本發(fā)明實施例三提供的彩膜基板的制造方法的流程圖。具體實施方式為使本領域的技術人員更好地理解本發(fā)明的技術方案，下面結合附圖對本發(fā)明提供的彩膜基板及其制造方法和觸摸屏進行詳細描述。實施例一圖2為本發(fā)明實施例一提供的彩膜基板的示意圖，如圖2所示，該彩膜基板包括：襯底基板和位于襯底基板上的黑矩陣，黑矩陣限定出若干個像素單元，每個像素單元內設置有彩膜，彩膜基板還包括：感光單元5、觸控掃描線3和觸控感應線4，感光單元5位于像素單元內，感光單元5、觸控掃描線3和觸控感應線4設置于與黑矩陣對應的區(qū)域內，感光單元5與觸控掃描線3和觸控感應線4接觸。其中，感光單元5、觸控掃描線3和觸控感應線4設置于與黑矩陣對應的區(qū)域內具體指：觸控掃描線3和觸控感應線4可以位于黑矩陣的下方或者上方，或者部分位于上方，另一部分位于下方，例如，觸控掃描線位于黑矩陣的下方，觸控感應線位于黑矩陣的上方，黑矩陣可以遮蔽觸控掃描線3和觸控感應線4，但感光單元5必須位于黑矩陣遠離陣列基板的一側，或者說必須使感光單元5位于能夠接收外界光線的一側。如果觸摸感應線和/或觸摸掃描線與感光單元不在黑矩陣的同一側，可通過過孔或其他方式將觸摸感應線和/或觸摸掃描線與感光單元連接。在圖2中，襯底基板、黑矩陣均未示出。其中，每個像素單元內的彩膜層可以包括紅、綠、藍三色彩膜，也可以包括紅、綠、藍、白四色彩膜區(qū)域，還可以包括紅、綠、藍、黃四色彩膜區(qū)域或者其他能夠實現正常顯示的多個彩膜區(qū)域。本實施例以包括紅、綠、藍三色彩膜區(qū)域為例進行說明。本方案中，感光單元5具體可以設置在紅色彩膜區(qū)域內，也可以設置在綠色彩膜區(qū)域內，或者設置在藍色彩膜區(qū)域內，優(yōu)選設置在藍色彩膜區(qū)域內，由于人眼對藍色的敏感度比較低，這樣設置，可以使人眼不太容易察覺到由于設置感光單元5而導致的顯示效果的差異，保證較好的顯示效果。在本發(fā)明的實施一的技術方案中，將實現觸控功能的觸控掃描線3和觸控感應線4設置在彩膜基板上，可減小陣列基板中像素單元內布線的復雜度，降低了陣列基板的工藝難度，提升了工藝良率。需要說明的是，本發(fā)明中彩膜基板上的黑矩陣的位置與陣列基板上的柵線和數據線的位置相對應。彩膜區(qū)域與柵線和數據線在陣列基板上限定的像素單元相對應。下面將結合圖2詳細的闡述本發(fā)明的技術方案的原理，本發(fā)明將觸控掃描線3和觸控感應線4都設置在彩膜基板上，而且觸控掃描線3和觸控感應線4都設置在黑矩陣的下方或者黑矩陣的上方或者其中之一設置在黑矩陣的上方，另一個設置在黑矩陣的下方，使得彩膜基板上的觸控掃描線3和觸控感應線4的位置與陣列基板上的柵線和數據線的位置對應，因而，原本只能遮蔽柵線和數據線的黑矩陣即使不增大面積也能實現對觸控掃描線3和觸控感應線4的遮蔽，因此像素單元的透光區(qū)域也不會減小，所以相較現有技術本發(fā)明有效提高了像素單元的開口率。較優(yōu)地，感光單元5為一體化結構，感光單元5當被特定的光線照射時導通觸控掃描線3和觸控感應線4。進一步地，觸控掃描線3上施加時序脈沖信號；觸控感應線4在感光單元5導通時輸出與觸控掃描線3上時序相同的脈沖信號。本發(fā)明實施例一提供的彩膜基板在進行觸控定位時可采用逐行掃描的工作方式。圖3為本發(fā)明實施例一提供的彩膜基板上的等效電路圖，圖4為觸控掃描線施加信號的時序圖，如圖3和圖4所示，外部的控制單元接收到開始觸控信號的同時外部控制單元向觸控掃描線施加信號，該信號為時序脈沖信號。觸控掃描線3逐行的接收到脈沖信號，即第一行觸控掃描線接收到第一個脈沖信號的下降沿對應第二行觸控掃描線接收到的第一個脈沖信號的上升沿，第二行觸控掃描線的接收到的第一個脈沖信號的下降沿對應第三行觸控掃描線接收到的第一個脈沖信號的上升沿，如此順序掃描，直到完成所有觸控掃描線3的掃描，再從第一行開始重復上述過程。在進行逐行掃描的過程中，如沒有觸摸動作，由于感光單元5的導電性能很差，因此，觸控感應線4會輸出一個低電平信號或者沒有信號輸出；若有觸摸動作，使得感光單元5被特定的光線照射，感光單元5將導通觸控掃描線3和觸控感應線4，觸控感應線4輸出的信號會發(fā)生變化，觸控感應線4會輸出與觸控掃描線5上時序相同的脈沖信號，外部的處理單元接收到觸控感應線4輸出的脈沖信號并通過判斷此脈沖信號來判斷觸控發(fā)生的位置，即X坐標的位置可以通過觸控感應線4的位置確定，Y坐標的位置可以通過將觸控感應線4中的脈沖信號與每行觸控掃描線3中的脈沖信號相對比得到。下面對上述位置確定進行舉例說明。假設在第二行第三個像素的位置發(fā)生觸控動作，將該點坐標定義為（3，2），則第二行觸控掃描線與第三列像素對應的觸控感應線通過感光單元導通，第三列的觸控感應線會輸出一個波形與第二行觸控掃描線中脈沖信號的波形相同的脈沖信號，但強度可能會略有差別，通過將觸控感應線輸出的脈沖信號的波形與各條觸控掃描線的波形進行對比，可以確定觸控位置的Y坐標，X坐標可以通過輸出脈沖信號的的觸控感應線的位置確定。當觸摸點的位置為多個時，處理單元會接收到多個脈沖信號，但是由于采用這種逐行掃描的方式，使得處理單元在接收到每個脈沖信號的時序是不同的，處理單元可通過時序區(qū)別出每個脈沖信號，并通過計算可得出每個脈沖信號所對應的位置，即實現了多點觸控功能。本發(fā)明實施一中的觸控掃描線3的數量為n行，觸控感應線4的數量為m列，感光單元5的數量為m×n，則該彩膜基板的觸控單元的數量為m×n。在實際設計過程中，觸控單元的數量可根據實際情況進行設定。感光單元5為采用一體化結構，同時觸控模塊采用逐行掃描的工作方式，可有效的防止在觸摸時“鬼點”的出現。所謂鬼點是在多點觸摸屏上出現的，例如，現有技術中的觸摸屏有兩點觸摸時，在屏上位置會出現兩個橫坐標點、兩個縱坐標點，綜合起來就是4個點，但實際上只觸摸了兩個點，另外兩個點就是鬼點。當然，利用感光單元5、觸控掃描線3和觸控感應線4對觸摸點定位的工作方式還可有多種，上述的將感光單元設計為一體化結構以及利用逐行掃描這種工作方式均為本發(fā)明的優(yōu)選方案，并不構成對本發(fā)明的限定。可選地，在每個像素單元內都設置有感光單元5，或在間隔的像素單元內設置有感光單元5。在每個像素單元內都設置感光單元5可實現對觸摸點的精準定位。在實際使用中也可在間隔的像素單元內設置感光單元5，因為像素單元的尺寸較小，而利用手指觸摸屏幕時，手指的接觸面積一般都會比較大，因此可以不必在每個像素單元內都設置感光單元5?？蛇x地，感光單元5為光敏半導體。本發(fā)明實施例一提供了一種彩膜基板，將實現觸摸功能的感光單元、觸控掃描線和觸控感應線設置在彩膜基板上。本發(fā)明實施例一的技術方案不但能有效提高像素單元的開口率，而且也降低了觸摸屏的工藝難度，提升了工藝良率，同時還能實現多點觸控功能。實施例二本發(fā)明實施例二提供了一種觸摸屏，該觸摸屏包括：相對設置的陣列基板和彩膜基板，陣列基板包括：柵線和數據線，彩膜基板采用上述實施例提供的彩膜基板。圖5為本發(fā)明實施例二提供的觸摸屏上的等效電路圖，如圖5所示，可選地，觸摸屏包括信號加載單元6和信號處理單元7，信號加載單元6用于向觸控掃描線3加載觸控掃描信號，信號處理單元7用于接收并處理觸控感應線4中的觸控感應信號，在觸控掃描線3和觸控感應線4的交叉處設置有感光單元5，感光單元5分別與一條觸控掃描線3和一條觸控感應線4接觸。本發(fā)明實施例二中的信號加載單元6的功能與上述實施例一中的控制單元的功能相同，且觸控掃描信號也可為時序脈沖信號，信號處理單元7的功能與上述實施例一中的處理單元的功能相同，且觸控感應信號也可為脈沖信號。但是現有技術中將控制單元和處理單元集成在顯示屏外部的電路板上，而本發(fā)明實施例二的技術方案可將信號加載單元6和信號處理單元7直接設置于陣列基板或彩膜基板上，該技術手段可有效的利用觸摸屏的空間?？蛇x地，信號加載單元6和信號處理單元7位于彩膜基板上，信號加載單元6與觸控掃描線3連接，信號處理單元7與觸控感應線4連接?；蛘?，信號加載單元6和信號處理單元7位于陣列基板上，信號加載單元6通過柔性電路板（FlexiblePrintedCircuit，簡稱PCB板）與觸控掃描線3連接，信號處理單元7通過柔性電路板與觸控感應線4連接。本發(fā)明實施例二提供的觸摸屏中的彩膜基板的結構示意圖可參照圖2，具體的結構特征以及產生的技術效果可參見上述實施例一中，此處不再贅述。本發(fā)明實施例二提供的觸摸屏中的陣列基板的結構示意圖參見圖6所示，陣列基板上設置有用于顯示功能的柵線1和數據線2，而沒有了用于觸控功能的觸控掃描線和觸控感應線。因而可使得像素單元內走線變的簡單，觸摸屏的工藝難度降低，更重要的是，由于像素單元內的顯示區(qū)域的面積變大，使得像素單元的開口率得到了提高。需要說明的是，在圖6中R、G、B僅代表位于彩膜基板上的紅色彩膜R、綠色彩膜G以及藍色彩膜B對應在陣列基板上的區(qū)域，而不是代表彩膜本身。本發(fā)明實施例二提供了一種觸摸屏，將實現觸摸功能的感光單元、觸控掃描線和觸控感應線設置在彩膜基板上。本發(fā)明實施例二的技術方案不但能有效提高像素單元的開口率，而且也降低了觸摸屏的工藝難度，提升了工藝良率，同時還能實現多點觸控功能。實施例三圖7為本發(fā)明實施例三提供的彩膜基板的制造方法的流程圖，如圖7所示，該彩膜基板包括：襯底基板、位于襯底基板上的黑矩陣、感光單元、觸控掃描線和觸控感應線，黑矩陣限定出若干個像素單元，每個像素單元內設置有彩膜，該制造方法包括：步驟101：在襯底基板上形成觸控掃描線。步驟102：在襯底基板上形成觸控感應線，觸控掃描線和觸控感應線相互絕緣。步驟103：在襯底基板上形成感光單元，感光單元與觸控掃描線和觸控感應線接觸。步驟104：在襯底基板上形成黑矩陣和彩膜，黑矩陣限定出若干個像素單元，每個像素單元內設置有彩膜，感光單元位于像素單元內，感光單元、觸控掃描線和觸控感應線設置于黑矩陣所對應的區(qū)域內。需要說明的是步驟101、步驟102、步驟103和步驟104的順序可任意調換，即對觸控掃描線、觸控感應線、感光單元、黑矩陣和彩膜的制造順序沒有限制。例如：可以先形成感光單元，再形成觸控掃描線、觸控感應線，再將感光單元連接觸控掃描線和觸控感應線，最后再形成黑矩陣和彩膜。但是感光單元必須位于黑矩陣遠離陣列基板的一側，或者說必須使感光單元位于能夠接收外界光線的一側。本發(fā)明實施例三提供了一種彩膜基板的制造方法，先將實現觸摸功能的感光單元、觸控掃描線和觸控感應線設置在彩膜基板上，再在襯底基板上形成黑矩陣和彩膜。本發(fā)明實施例四的技術方案不但能有效提高像素單元的開口率，而且也降低了整個觸摸屏的工藝難度，提升了工藝良率，同時還能實現多點觸控功能。需要說明的是，本發(fā)明中的觸控掃描線和觸控感應線的材料可以為鋁（Al）、鉬（Mo）或銅（Cu）銅等金屬材料，觸控掃描線和觸控感應線的材料還可為氧化銦錫(IndiumTinOxides，簡稱ITO)。本發(fā)明所提供的技術方案可應用于盒內觸摸（In-CellTouch）屏上。可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領域內的普通技術人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實質的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發(fā)明的保護范圍。