修正觸控信號的裝置、系統(tǒng)以及其方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種修正觸控信號的裝置、系統(tǒng)以及其方法，所述方法包括：發(fā)射光束，以獲得反射元件反射光束所產(chǎn)生的檢測光束，從而產(chǎn)生檢測信號分布圖；根據(jù)檢測信號分布圖與臨界值分布圖以獲得多個交會點、遮蔽區(qū)域以及遮蔽區(qū)域所對應的像素位置；依據(jù)檢測信號分布圖以及多個交會點以計算遮蔽區(qū)域所占有的第一面積；根據(jù)遮蔽區(qū)域所對應的第一面積以判斷遮蔽區(qū)域是否發(fā)生過曝現(xiàn)象；以及若遮蔽區(qū)域發(fā)生過曝現(xiàn)象，則修正過曝的遮蔽區(qū)域以及遮蔽區(qū)域所對應的像素位置。本發(fā)明通過判斷觸控信號是否被過曝現(xiàn)象所影響，并據(jù)此對被過曝現(xiàn)象所影響的觸控信號進行修正，從而減少觸控信號的誤差以及誤判，同時提升光學觸控的精確度。
【專利說明】修正觸控信號的裝置、系統(tǒng)以及其方法
【技術領域】
[0001] 本發(fā)明是有關于一種信號處理技術，且特別是有關于一種修正觸控信號的裝置、 系統(tǒng)以及其方法。
【背景技術】
[0002] 由于科技的快速發(fā)展以及制程技術的成熟，各種智能電子產(chǎn)品已成為非常普遍的 隨身設備，尤其是具有觸控屏幕的電子產(chǎn)品。觸控屏幕的種類大致上分為電容式、電阻式以 及光學式等，其中光學式觸控屏幕大致上又分為反射式以及遮蔽式。
[0003] 圖1 (a)為遮蔽式光學觸控屏幕的示意圖。圖1 (b)則為圖1 (a)的左上角的光機模 塊所接收的理想的原始信號的示意圖。圖1(b)的X軸為像素位置，y軸為信號的亮度（如 灰階亮度）。
[0004] 圖2(a)以及圖2(b)為遮蔽式光學觸控屏幕產(chǎn)生遮蔽區(qū)域的示意圖。如圖2(a) 所示，當使用者的單一手指F1觸碰屏幕時，則遮蔽了原始信號以產(chǎn)生一個遮蔽區(qū)域，如圖 2(b)中的箭頭210所指的區(qū)域。藉此，可利用數(shù)學演算法以進一步地檢測此遮蔽區(qū)域的像 素位置來計算出對應的觸控點的位置。
[0005] 圖3(a)以及圖3(b)為遮蔽式光學觸控屏幕產(chǎn)生具有光曝現(xiàn)象且受到影響的遮蔽 區(qū)域的示意圖。如圖3(a)所示，當使用者的單一手指F2過于接近光機模塊而觸碰屏幕時， 由于手指與光機模塊之間可能因過于接近而產(chǎn)生亮度過強或繞射等光學效應，使得在原本 遮蔽區(qū)域中信號的亮度反而增強，因而產(chǎn)生兩個遮蔽區(qū)域，如圖3(b)中的箭頭310及320 所指的兩個區(qū)域。此光曝現(xiàn)象將會影響到觸控點的位置的分析結(jié)果，使得光學觸控屏幕在 分析圖3(b)的信號分布圖時會產(chǎn)生誤差或是誤判。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0006] 本發(fā)明解決的技術問題是：提供一種修正觸控信號的裝置、系統(tǒng)以及其方法，其判 斷觸控信號是否被過曝現(xiàn)象所影響，從而對被過曝現(xiàn)象所影響的觸控信號進行修正，來減 少觸控信號的誤差以及誤判，同時提升光學觸控的精確度。
[0007] 本發(fā)明的技術解決方案為：一種修正觸控信號的裝置，所述修正觸控信號的裝置 包括：發(fā)光單元、反射元件、感測單元以及控制單元。發(fā)光單元用以發(fā)射至少一光束；反射 元件用以反射所述至少一光束；感測單元用以獲得該反射元件反射所述至少一光束所產(chǎn)生 的一檢測光束，從而產(chǎn)生一檢測信號分布圖，其中該檢測信號分布圖表示一光學觸控區(qū)域 的多個像素位置及對應的多個信號亮度，且該反射元件配置于該光學觸控區(qū)域的周邊；以 及控制單元耦接至該發(fā)光單元以及該感測單元，控制單元經(jīng)配置以執(zhí)行：根據(jù)該檢測信號 分布圖與一臨界值分布圖以獲得多個交會點、至少一遮蔽區(qū)域以及所述至少一遮蔽區(qū)域分 別對應的像素位置，其中各遮蔽區(qū)域?qū)噜彽膬蓚€交會點；依據(jù)該檢測信號分布圖以及 所述交會點以分別計算所述各遮蔽區(qū)域所占有的一第一面積，其中第一面積為檢測信號分 布圖以及至少一遮蔽區(qū)域所對應的兩個交會點圍繞而成；根據(jù)所述至少一遮蔽區(qū)域所對應 的該第一面積以判斷所述至少一遮蔽區(qū)域是否發(fā)生過曝現(xiàn)象；以及若所述至少一遮蔽區(qū)域 發(fā)生過曝現(xiàn)象，則修正過曝的所述至少一遮蔽區(qū)域以及所述至少一遮蔽區(qū)域所對應的該像 素位置。
[0008] 本發(fā)明提供一種修正觸控信號的系統(tǒng)，所述修正觸控信號的系統(tǒng)包括：遮蔽式光 學觸控屏幕、發(fā)光單元、反射元件、感測單元以及控制單元。發(fā)光單元，用以發(fā)射至少一光 束；反射元件配置于該光學式觸控屏幕的周邊，用以反射所述至少一光束；感測單元用以 獲得該反射元件反射所述至少一光束所產(chǎn)生的一檢測光束，從而產(chǎn)生一檢測信號分布圖， 其中該檢測信號分布圖表示該光學式觸控屏幕的多個像素位置及對應的多個信號亮度；以 及控制單元耦接至該光學式觸控屏幕、該發(fā)光單元以及該感測單元，經(jīng)配置以執(zhí)行：根據(jù)該 檢測信號分布圖與一臨界值分布圖以獲得多個交會點、至少一遮蔽區(qū)域以及所述至少一遮 蔽區(qū)域分別對應的像素位置，其中各遮蔽區(qū)域?qū)噜彽膬蓚€交會點；依據(jù)該檢測信號分 布圖以及所述交會點以分別計算所述各遮蔽區(qū)域所占有的一第一面積，其中第一面積為檢 測信號分布圖以及至少一遮蔽區(qū)域所對應的兩個交會點圍繞而成；根據(jù)所述至少一遮蔽區(qū) 域所對應的該第一面積以判斷所述至少一遮蔽區(qū)域是否發(fā)生過曝現(xiàn)象；以及若至少一遮 蔽區(qū)域發(fā)生過曝現(xiàn)象，則修正過曝的至少一遮蔽區(qū)域以及至少一遮蔽區(qū)域所對應的像素位 置。
[0009] 本發(fā)明還提供一種修正觸控信號的方法，所述修正觸控信號的方法包括：發(fā)射至 少一光束，以獲得一反射元件反射所述至少一光束所產(chǎn)生的一檢測光束，從而產(chǎn)生一檢測 信號分布圖，其中該檢測信號分布圖表示一光學觸控區(qū)域的多個像素位置及對應的多個信 號亮度，且至少一反射元件配置于光學觸控區(qū)域的周邊；根據(jù)該檢測信號分布圖與一臨界 值分布圖以獲得多個交會點、至少一遮蔽區(qū)域與所述至少一遮蔽區(qū)域分別所對應的像素位 置，其中各遮蔽區(qū)域?qū)噜彽膬蓚€交會點；依據(jù)該檢測信號分布圖以及所述交會點以分 別計算所述各遮蔽區(qū)域所占有的一第一面積，其中第一面積為檢測信號分布圖以及至少一 遮蔽區(qū)域所對應的兩個交會點圍繞而成；根據(jù)所述至少一遮蔽區(qū)域所對應的該第一面積以 判斷所述至少一遮蔽區(qū)域是否發(fā)生過曝現(xiàn)象；以及若所述至少一遮蔽區(qū)域發(fā)生過曝現(xiàn)象， 則修正過曝的所述至少一遮蔽區(qū)域以及所述至少一遮蔽區(qū)域所對應的該像素位置。
[0010] 基于上述，本發(fā)明藉由對遮蔽物發(fā)射光束，以獲得檢測信號分布圖以及遮蔽區(qū)域 后，根據(jù)檢測信號分布圖在遮蔽區(qū)域中所對應的第一面積來判斷其是否為過曝，且在判斷 為過曝之后，對相對應的像素位置進行修正。判斷觸控信號是否被過曝現(xiàn)象所影響，從而對 被過曝現(xiàn)象所影響的觸控信號進行修正，來減少觸控信號的誤差以及誤判，同時提升光學 觸控的精確度。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0011] 圖1(a)為遮蔽式光學觸控屏幕的示意圖。
[0012] 圖1 (b)為圖1 (a)的左上角的光機模塊所接收的理想的原始信號的示意圖。
[0013] 圖2(a)以及圖2(b)為遮蔽式光學觸控屏幕產(chǎn)生遮蔽區(qū)域的示意圖。
[0014] 圖3(a)以及圖3(b)為遮蔽式光學觸控屏幕產(chǎn)生具有光曝現(xiàn)象影響的遮蔽區(qū)域的 示意圖。
[0015] 圖4(a)及圖4(b)是根據(jù)本發(fā)明的一實施例的修正觸控信號的裝置的示意圖。
[0016] 圖5是根據(jù)本發(fā)明的一實施例的修正觸控信號的方法的流程圖。
[0017] 圖6(a)以及圖6(b)為根據(jù)本發(fā)明的一實施例的遮蔽式光學觸控屏幕產(chǎn)生遮蔽區(qū) 域的示意圖。
[0018] 圖7(a)以及圖7(b)為根據(jù)本發(fā)明的一實施例的遮蔽式光學觸控屏幕產(chǎn)生具有光 曝現(xiàn)象影響的遮蔽區(qū)域的示意圖。
[0019] 圖8(a)與圖9(a)為根據(jù)本發(fā)明的一實施例的計算第一面積的示意圖。
[0020] 圖8(b)與圖9(b)為根據(jù)本發(fā)明的一實施例的計算第二面積的示意圖。
[0021] 圖10是根據(jù)本發(fā)明的另一實施例的修正觸控信號的方法的流程圖。
[0022] 圖11是根據(jù)本發(fā)明的另一實施例的修正觸控信號的方法的流程圖。
[0023] 圖12是根據(jù)本發(fā)明的另一實施例的修正觸控信號的方法的流程圖。
[0024] 圖13(a)與圖13(b)以及圖14(a)與圖14(b)是根據(jù)本發(fā)明的另一實施例的修正 觸控信號的方法的示意圖。
[0025] 圖15是根據(jù)本發(fā)明的另一實施例的修正觸控信號的方法的流程圖。
[0026] 圖16(a)、16(b)及16(c)是根據(jù)本發(fā)明的另一實施例的修正觸控信號的方法的示 意圖。
[0027] 圖17是根據(jù)本發(fā)明的另一實施例的修正觸控信號的方法的流程圖。
[0028] 圖18是根據(jù)本發(fā)明的一實施例的凸形判定程序的流程圖。
[0029] 圖19(a)及19(b)是根據(jù)本發(fā)明的一實施例的凸形判定程序的示意圖。
[0030] 圖20(a)及20(b)是根據(jù)本發(fā)明的一實施例的邊界更新修正程序的示意圖。
[0031] 圖 21(a)?圖 21(d)、圖 22(a)?圖 22(d)、圖 23(a)?圖 23(d)、圖 24(a)?圖 24(d)、圖25(a)?圖25(b)、圖26(a)?圖26(b)、圖27及圖28為根據(jù)本發(fā)明的另一實施 例的修正觸控信號的方法的示意圖。
[0032] 符號說明：
[0033] 400 :修正裝置
[0034] 430 :光機模塊
[0035] 432 :發(fā)光單元
[0036] 434 :感測單元
[0037] 45〇 :控制單元
[0038] 470 :反射元件
[0039] 900 :遮蔽式光學觸控屏幕
[0040] A1?A34 :遮蔽區(qū)域
[0041] A7'、A8'、A7":遮蔽區(qū)域
[0042] χ?、χΓ、x2、x2'、x3、x3' ：交點
[0043] LI ?L6、L9 ?L34 :左邊界
[0044] R1 ?R6、R9 ?R34 :右邊界
[0045] C1 ?C6、C13、C14、C17、C18、C19、C20、C25、C30 :中點
[0046] AM1、AM2 :修正過曝后的遮蔽區(qū)域
[0047] M1、M2、C7〃、C15'、C16'、C23'、M21、M26、M28、M31、M33 :修正后的像素位置
[0048] R12'、R15'、R23' ：修正后的右邊界
[0049] L16' ：修正后的左邊界
[0050] D1 :檢測信號分布圖
[0051] D2:臨界值分布圖
[0052] a:中點
[0053] b :左最低點
[0054] c :右最低點
[0055] Du :左第一長度
[0056] 隊2 :左第二長度
[0057] DK1 :右第一長度
[0058] DK2 :右第二長度
[0059] S510?S1734 :修正方法的步驟
【具體實施方式】
[0060] 圖4(a)及圖4(b)是根據(jù)本發(fā)明的一實施例的修正觸控信號的裝置的示意圖。如 圖4 (a)所示，修正裝置400可適用于遮蔽式光學觸控屏幕900,修正裝置400包括光機模塊 430以及反射元件470。其中反射元件470配置于遮蔽式光學觸控屏幕900的周邊。修正 裝置400除了可包括圖4 (a)中的光機模塊430以及反射元件470之外，修正裝置400還可 包括控制單元450,其中光機模塊430還包括發(fā)光單元432以及感測單元434,如圖4(b)所 示?？刂茊卧?50耦接至發(fā)光單元432以及感測單元434。發(fā)光單元432可以是發(fā)光二極 管（LED)或是各種形式的光信號發(fā)射器。在本發(fā)明實施例中，發(fā)光單元432可以配置于遮 蔽式光學觸控屏幕900的左上角以及右上角，然而在本發(fā)明的另一實施例中，發(fā)光單元432 可配置于遮蔽式光學觸控屏幕900的任何位置上，在此不加以限制。感測單元434可以是 各種形式的光信號接收器。在下列本文的描述當中，皆是以圖4(a)左上角的光機模塊430 的感測單元434所接收的信號，來作為各實施例的說明。控制單元450可以是各種形式的 功能模塊或微處理器。
[0061] 在本發(fā)明實施例中，修正裝置400是配置于遮蔽式光學觸控屏幕900之外。在本 發(fā)明的另一實施例中，修正裝置400亦可是配置于光學觸控區(qū)域之外，而反射元件470配置 于此光學觸控區(qū)域的周邊，且其光學觸控區(qū)域可以是任何平面，并不限于光學觸控屏幕。在 符合本發(fā)明精神的部分實施例中，修正裝置400以及遮蔽式光學觸控屏幕900可整合為一 體，或是其部分可整合為一體，進而構(gòu)成修正系統(tǒng)，其中控制單元450耦接至遮蔽式光學觸 控屏幕900、發(fā)光單元432以及感測單元434且對其做控制，然而在此不加以限制。
[0062] 圖5是根據(jù)本發(fā)明的一實施例的修正觸控信號的方法的流程圖。如圖5所示，本 發(fā)明實施例的修正方法包括步驟S510?S560。
[0063] 在步驟S510中，發(fā)光單元432發(fā)射至少一光束，以藉由感測單元434獲得至少一 反射元件470反射至少一光束所產(chǎn)生的檢測光束，從而產(chǎn)生檢測信號分布圖。其中檢測信 號分布圖表不遮蔽式光學觸控屏幕900 (或是對應于另一實施例中的光學觸控區(qū)域）的多 個像素位置及對應的多個信號亮度。舉例來說，當使用者沒有將手指放至遮蔽式光學觸控 屏幕900上時，發(fā)光單元432可發(fā)射光束，以產(chǎn)生感測單元434所接收的原始信號分布圖， 如圖1(b)所示。圖6(a)以及圖6(b)為根據(jù)本發(fā)明的一實施例的遮蔽式光學觸控屏幕900 產(chǎn)生遮蔽區(qū)域的示意圖。圖7(a)以及圖7(b)為根據(jù)本發(fā)明的一實施例的遮蔽式光學觸控 屏幕900產(chǎn)生具有光曝現(xiàn)象影響的遮蔽區(qū)域的示意圖。當使用者將手指（如圖6(a)及6(b) 的F1以及如圖7 (a)及7(b)的F2)放至遮蔽式光學觸控屏幕900上時，手指會遮蔽部份發(fā) 光單元432所發(fā)射的光束。手指所未遮蔽的光束可再通過反射元件470而反射至感測單元 434,藉以形成檢測信號分布圖，如圖6(b)及圖7(b)中標示D1的曲線。由于檢測信號分布 圖是經(jīng)由手指的遮蔽而形成，因此相對于原始信號分布圖，會產(chǎn)生信號亮度較弱的區(qū)域于 對應的手指的像素位置上，例如圖6(b)的區(qū)域A1所示。
[0064] 在步驟S520中，控制單元450根據(jù)檢測信號分布圖與臨界值分布圖以獲得多個交 會點、至少一遮蔽區(qū)域與至少一遮蔽區(qū)域分別所對應的像素位置。其中，臨界值分布圖（如 圖6(b)及圖7(b)中標示D2的曲線）是根據(jù)原始信號分布圖的特定比例而產(chǎn)生，且如上所 述，原始信號分布圖是在遮蔽式光學觸控屏幕900(或是對應于另一實施例中的光學觸控 區(qū)域）中無遮蔽物的情況下，藉由獲得至少一反射元件470反射至少一光束所產(chǎn)生的原始 光束而產(chǎn)生。由于檢測信號分布圖中可具有相對于原始信號分布圖信號亮度較弱的區(qū)域， 因此，可藉由原始信號分布圖的特定比例（例如，75%)來定義出信號的臨界值，而低于此 臨界值的信號的所在區(qū)域可判定為遮蔽區(qū)域（如區(qū)域A1?A3)。并且，在此步驟中，控制 單元450亦可計算出這些遮蔽區(qū)域的數(shù)量，藉以作為判斷是否發(fā)生過曝現(xiàn)象的依據(jù)。如圖 6(a)及圖6(b)所示，遮蔽區(qū)域所在的像素位置有可能對應至使用者在遮蔽式光學觸控屏 幕900 (或是對應于另一實施例中的光學觸控區(qū)域）中的觸控點，然而此亦可能因具有光曝 現(xiàn)象的影響而產(chǎn)生誤差及誤判，如圖7 (a)及圖7 (b)所示。遮蔽區(qū)域的獲得可根據(jù)檢測信號 分布圖與臨界值分布圖的交會點而來。在本發(fā)明實施例中，此交會點可以是檢測信號分布 圖與臨界值分布圖的交點（如圖6(b)的xl與xl'、圖7(b)的x2與x2'以及x3與x3'）， 并且可藉由這些交會點來定義出各遮蔽區(qū)域，其中相鄰的兩個交會點兩兩對應各個遮蔽區(qū) 域，例如圖6(b)的xl與χΓ對應至A1、圖7(b)的x2與x2'對應至A2并且圖7(b)的x3 與x3'對應至A3。在本發(fā)明的另一實施例中，此交會點亦可根據(jù)檢測信號分布圖與臨界值 分布圖的斜率關系或其他各種的方式而求得，在此不加以限制。
[0065] 在步驟S530中，控制單元450依據(jù)檢測信號分布圖以及多個交會點以分別計算各 遮蔽區(qū)域所占有的第一面積（例如，圖8 (a)以及圖9 (a)繪不的實心部分面積811、911及 912)。其中，第一面積為檢測信號分布圖以及至少一遮蔽區(qū)域所對應的兩個交會點圍繞而 成。圖8(a)與圖9(a)為根據(jù)本發(fā)明的一實施例的計算第一面積的示意圖。舉例來說，如 圖8( &)以及圖9(&)所示的實心部份面積811、911及912，其分別為交會點11與11'^2與 x2'以及x3與x3'分別對應遮蔽區(qū)域內(nèi)的檢測信號分布圖所圍繞而成的第一面積811、911 及912。更進一步來說，其第一面積811、911及912為分別通過交會點xl與χΓ、x2與x2' 以及x3與x3'的垂直線LI、Rl、L2、R2、L3及R3,和檢測信號分布圖所分別圍繞而成的面 積。換句話說，第一面積為檢測信號分布圖（下列表示為FGV)在對應的遮蔽區(qū)域內(nèi)的灰階 亮度的總值，即為
【權利要求】
1. 一種修正觸控信號的裝置，其特征在于，所述修正觸控信號的裝置包括： 一發(fā)光單元，用以發(fā)射至少一光束； 一反射元件，用以反射所述至少一光束； 一感測單元，用以獲得該反射元件反射所述至少一光束所產(chǎn)生的一檢測光束，從而產(chǎn) 生一檢測信號分布圖，其中該檢測信號分布圖表示一光學觸控區(qū)域的多個像素位置及對應 的多個信號亮度，且該反射元件配置于該光學觸控區(qū)域的周邊；以及 一控制單元，耦接至該發(fā)光單元以及該感測單元，經(jīng)配置以執(zhí)行： 根據(jù)該檢測信號分布圖與一臨界值分布圖以獲得多個交會點、至少一遮蔽區(qū)域以及所 述至少一遮蔽區(qū)域分別對應的像素位置，其中各遮蔽區(qū)域?qū)噜彽膬蓚€交會點； 依據(jù)該檢測信號分布圖以及所述交會點以分別計算各遮蔽區(qū)域所占有的一第一面 積； 根據(jù)所述至少一遮蔽區(qū)域所對應的該第一面積以判斷所述至少一遮蔽區(qū)域是否發(fā)生 過曝現(xiàn)象；以及 若所述至少一遮蔽區(qū)域發(fā)生過曝現(xiàn)象，則修正過曝的所述至少一遮蔽區(qū)域以及所述至 少一遮蔽區(qū)域所對應的該像素位置。
2. 根據(jù)權利要求1所述的裝置，其特征在于，當該控制單元獲得所述至少一遮蔽區(qū)域 分別所對應的該像素位置時，該控制單元更進一步經(jīng)配置以執(zhí)行： 根據(jù)該檢測信號分布圖以獲得所述至少一遮蔽區(qū)域分別對應的一左邊界與一右邊界， 其中該左邊界與該右邊界分別通過所述至少一遮蔽區(qū)域所對應的相鄰的兩個交會點；以及 將該左邊界與該右邊界之間的一中點設定為所述至少一遮蔽區(qū)域分別所對應的該像 素位置。
3. 根據(jù)權利要求2所述的裝置，其特征在于，當該控制單元判斷所述至少一遮蔽區(qū)域 是否發(fā)生過曝現(xiàn)象時，該控制單元更進一步經(jīng)配置以執(zhí)行： 依據(jù)該臨界值分布圖以及所述交會點以分別計算各遮蔽區(qū)域所占有的一第二面積，其 中該第二面積為該臨界值分布圖以及所述至少一遮蔽區(qū)域分別對應的該左邊界與該右邊 界圍繞而成； 將所述至少一遮蔽區(qū)域分別所對應的該第一面積除以對應的該第二面積，以獲得至少 一面積比率；以及 若所述至少一面積比率的其中之一大于對應的一比率閥值，則判定所述至少一面積比 率對應的所述至少一遮蔽區(qū)域發(fā)生過曝現(xiàn)象。
4. 根據(jù)權利要求2所述的裝置，其特征在于，當該控制單元修正過曝的所述至少一遮 蔽區(qū)域分別所對應的該像素位置時，該控制單元更進一步經(jīng)配置以執(zhí)行： 判斷所述至少一遮蔽區(qū)域中，是否具有皆發(fā)生過曝現(xiàn)象且相鄰的兩個遮蔽區(qū)域；以及 若具有皆發(fā)生過曝現(xiàn)象且相鄰的所述兩個遮蔽區(qū)域，則在發(fā)生過曝現(xiàn)象且相鄰的所述 兩個遮蔽區(qū)域中，計算位于左側(cè)的該遮蔽區(qū)域的該左邊界以及位于右側(cè)的該遮蔽區(qū)域的該 右邊界之間的一中點，以作為修正過曝后的該遮蔽區(qū)域的一像素位置。
5. 根據(jù)權利要求4所述的裝置，其特征在于，當該控制單元修正過曝的所述至少一遮 蔽區(qū)域分別所對應的該像素位置時，該控制單元更進一步經(jīng)配置以執(zhí)行： 判斷是否具有發(fā)生過曝現(xiàn)象的一遮蔽區(qū)域； 若具有發(fā)生過曝現(xiàn)象的該遮蔽區(qū)域，則計算該遮蔽區(qū)域的該左邊界的左側(cè)的該檢測信 號分布圖相對于該臨界值分布圖的一左變化程度，以及該遮蔽區(qū)域的該右邊界的右側(cè)的該 檢測信號分布圖相對于該臨界值分布圖的一右變化程度； 若該遮蔽區(qū)域的該右變化程度大于該左變化程度，則計算該左邊界以及通過該檢測信 號分布圖的一轉(zhuǎn)折點的一邊界之間的一中點，以作為該遮蔽區(qū)域修正后的一像素位置；以 及 若該遮蔽區(qū)域的該左變化程度大于該右變化程度，則計算該右邊界以及通過該檢測信 號分布圖的該轉(zhuǎn)折點的該邊界之間的一中點，以作為該遮蔽區(qū)域修正后的該像素位置。
6. 根據(jù)權利要求5所述的裝置，其特征在于，當該控制單元修正過曝的所述至少一遮 蔽區(qū)域分別所對應的該像素位置時，該控制單元更進一步經(jīng)配置以執(zhí)行： 計算所述至少一遮蔽區(qū)域分別對應的該左邊界與一左最低點之間的一左第一長度、該 中點與一左最低點之間的一左第二長度、該右邊界與一右最低點之間的一右第一長度以及 該中點與一右最低點之間的一右第二長度； 將該左第二長度大于該左第一長度且該右第二長度大于該右第一長度的對應的該遮 蔽區(qū)域判定為凸形；以及 將該左第二長度小于該左第一長度或該右第二長度小于該右第一長度的對應的該遮 蔽區(qū)域判定為非凸形； 其中，該檢測信號分布圖在該左最低點相對于的該遮蔽區(qū)域的中點的左側(cè)信號具有最 低的信號亮度，該檢測信號分布圖在該右最低點相對于的該遮蔽區(qū)域的中點的右側(cè)信號具 有最低的信號亮度。
7. 根據(jù)權利要求6所述的裝置，其特征在于，當該控制單元修正過曝的所述至少一遮 蔽區(qū)域分別所對應的該像素位置時，該控制單元更進一步經(jīng)配置以執(zhí)行： 若該遮蔽區(qū)域判定為非凸形，則對該遮蔽區(qū)域進行修正。
8. 根據(jù)權利要求2所述的裝置，其特征在于，所述至少一光束具備一特定頻率，并且當 該控制單元修正過曝的所述至少一遮蔽區(qū)域分別所對應的該像素位置時，該控制單元更進 一步經(jīng)配置以執(zhí)行： 調(diào)整并發(fā)射該特定頻率的所述至少一光束，以獲得對應該特定頻率的一其他檢測信號 分布圖； 根據(jù)該其他檢測信號分布圖與該臨界值分布圖的多個交會點，來獲得至少一其他遮蔽 區(qū)域； 判斷所述至少一其他遮蔽區(qū)域的一數(shù)量是否為一最小值；以及 若所述至少一其他遮蔽區(qū)域的該數(shù)量為該最小值，則將所述至少一其他遮蔽區(qū)域設定 為修正過曝后的遮蔽區(qū)域，且將所述至少一其他遮蔽區(qū)域所對應的一左邊界與一右邊界之 間的一中點設定為修正過曝后的該遮蔽區(qū)域的一像素位置。
9. 根據(jù)權利要求1所述的裝置，其特征在于，該臨界值分布圖是根據(jù)原始信號分布圖 的一特定比例而產(chǎn)生，該原始信號分布圖是在該光學觸控區(qū)域中無遮蔽物的情況下，藉由 該感測單元獲得該反射元件反射所述至少一光束所產(chǎn)生的一原始光束而產(chǎn)生。
10. 根據(jù)權利要求2所述的裝置，其特征在于，該第一面積為該檢測信號分布圖以及所 述至少一遮蔽區(qū)域分別對應的該左邊界與該右邊界圍繞而成。
11. 一種修正觸控信號的系統(tǒng)，其特征在于，所述修正觸控信號的系統(tǒng)包括： 一遮蔽式光學觸控屏幕； 一發(fā)光單元，用以發(fā)射至少一光束； 一反射元件，配置于該光學式觸控屏幕的周邊，用以反射所述至少一光束； 一感測單元，用以獲得該反射元件反射所述至少一光束所產(chǎn)生的一檢測光束，從而產(chǎn) 生一檢測信號分布圖，其中該檢測信號分布圖表示該光學式觸控屏幕的多個像素位置及對 應的多個信號亮度；以及 一控制單元，耦接至該光學式觸控屏幕、該發(fā)光單元以及該感測單元，經(jīng)配置以執(zhí)行： 根據(jù)該檢測信號分布圖與一臨界值分布圖以獲得多個交會點、至少一遮蔽區(qū)域以及所 述至少一遮蔽區(qū)域分別對應的像素位置，其中各遮蔽區(qū)域?qū)噜彽膬蓚€交會點； 依據(jù)該檢測信號分布圖以及所述交會點以分別計算所述各遮蔽區(qū)域所占有的一第一 面積； 根據(jù)所述至少一遮蔽區(qū)域所對應的該第一面積以判斷所述至少一遮蔽區(qū)域是否發(fā)生 過曝現(xiàn)象；以及 若所述至少一遮蔽區(qū)域發(fā)生過曝現(xiàn)象，則修正過曝的所述至少一遮蔽區(qū)域以及所述至 少一遮蔽區(qū)域所對應的該像素位置。
12. 根據(jù)權利要求11所述的系統(tǒng)，其特征在于，當該控制單元獲得所述至少一遮蔽區(qū) 域分別所對應的該像素位置時，該控制單元更進一步經(jīng)配置以執(zhí)行： 根據(jù)該檢測信號分布圖以獲得所述至少一遮蔽區(qū)域分別對應的一左邊界與一右邊界， 其中該左邊界與該右邊界分別通過所述至少一遮蔽區(qū)域所對應的相鄰的兩個交會點；以及 將該左邊界與該右邊界之間的一中點設定為所述至少一遮蔽區(qū)域分別所對應的該像 素位置。
13. 根據(jù)權利要求12所述的系統(tǒng)，其特征在于，當該控制單元判斷所述至少一遮蔽區(qū) 域是否發(fā)生過曝現(xiàn)象時，該控制單元更進一步經(jīng)配置以執(zhí)行： 依據(jù)該臨界值分布圖以及所述交會點以分別計算所述各遮蔽區(qū)域所占有的一第二面 積，其中該第二面積為該臨界值分布圖以及所述至少一遮蔽區(qū)域分別對應的該左邊界與該 右邊界圍繞而成； 將所述至少一遮蔽區(qū)域分別所對應的該第一面積除以對應的該第二面積，以獲得至少 一面積比率；以及 若所述至少一面積比率的該其中之一大于對應的一比率閥值，則判定所述至少一面積 比率對應的所述至少一遮蔽區(qū)域發(fā)生過曝現(xiàn)象。
14. 根據(jù)權利要求12所述的系統(tǒng)，其特征在于，當該控制單元修正過曝的所述至少一 遮蔽區(qū)域分別所對應的該像素位置時，該控制單元更進一步經(jīng)配置以執(zhí)行： 判斷所述至少一遮蔽區(qū)域中，是否具有皆發(fā)生過曝現(xiàn)象且相鄰的兩個遮蔽區(qū)域；以及 若具有皆發(fā)生過曝現(xiàn)象且相鄰的所述兩個遮蔽區(qū)域，則在發(fā)生過曝現(xiàn)象且相鄰的所述 兩個遮蔽區(qū)域中，計算位于左側(cè)的該遮蔽區(qū)域的該左邊界以及位于右側(cè)的該遮蔽區(qū)域的該 右邊界之間的一中點，以作為修正過曝后的該遮蔽區(qū)域的一像素位置。
15. 根據(jù)權利要求14所述的系統(tǒng)，其特征在于，當該控制單元修正過曝的所述至少一 遮蔽區(qū)域分別所對應的該像素位置時，該控制單元更進一步經(jīng)配置以執(zhí)行： 判斷是否具有發(fā)生過曝現(xiàn)象的一遮蔽區(qū)域； 若具有發(fā)生過曝現(xiàn)象的該遮蔽區(qū)域，則計算該遮蔽區(qū)域的該左邊界的左側(cè)的該檢測信 號分布圖相對于該臨界值分布圖的一左變化程度，以及該遮蔽區(qū)域的該右邊界的右側(cè)的該 檢測信號分布圖相對于該臨界值分布圖的一右變化程度； 若該遮蔽區(qū)域的該右變化程度大于該左變化程度，則計算該左邊界以及通過該檢測信 號分布圖的一轉(zhuǎn)折點的一邊界之間的一中點，以作為該遮蔽區(qū)域修正后的一像素位置；以 及 若該遮蔽區(qū)域的該左變化程度大于該右變化程度，則計算該右邊界以及通過該檢測信 號分布圖的該轉(zhuǎn)折點的該邊界之間的一中點，以作為該遮蔽區(qū)域修正后的該像素位置。
16. 根據(jù)權利要求15所述的系統(tǒng)，其特征在于，當該控制單元修正過曝的所述至少一 遮蔽區(qū)域分別所對應的該像素位置時，該控制單元更進一步經(jīng)配置以執(zhí)行： 計算所述至少一遮蔽區(qū)域分別對應的該左邊界與一左最低點之間的一左第一長度、該 中點與一左最低點之間的一左第二長度、該右邊界與一右最低點之間的一右第一長度以及 該中點與一右最低點之間的一右第二長度； 將該左第二長度大于該左第一長度且該右第二長度大于該右第一長度的對應的該遮 蔽區(qū)域判定為凸形；以及 將該左第二長度小于該左第一長度或該右第二長度小于該右第一長度的對應的該遮 蔽區(qū)域判定為非凸形； 其中，該檢測信號分布圖在該左最低點相對于的該遮蔽區(qū)域的中點的左側(cè)信號具有最 低的信號亮度，該檢測信號分布圖在該右最低點相對于的該遮蔽區(qū)域的中點的右側(cè)信號具 有最低的信號亮度。
17. 根據(jù)權利要求16所述的系統(tǒng)，其特征在于，當該控制單元修正過曝的所述至少一 遮蔽區(qū)域分別所對應的該像素位置時，該控制單元更進一步經(jīng)配置以執(zhí)行： 若該遮蔽區(qū)域判定為非凸形，則對該遮蔽區(qū)域進行修正。
18. 根據(jù)權利要求12所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述至少一光束具備一特定頻率，并且 當該控制單元修正過曝的所述至少一遮蔽區(qū)域分別所對應的該像素位置時，該控制單元更 進一步經(jīng)配置以執(zhí)行： 調(diào)整并發(fā)射該特定頻率的所述至少一光束，以獲得對應該特定頻率的一其他檢測信號 分布圖； 根據(jù)該其他檢測信號分布圖與該臨界值分布圖的多個交會點，來獲得至少一其他遮蔽 區(qū)域； 判斷所述至少一其他遮蔽區(qū)域的一數(shù)量是否為一最小值；以及 若所述至少一其他遮蔽區(qū)域的該數(shù)量為該最小值，則將所述至少一其他遮蔽區(qū)域設定 為修正過曝后的遮蔽區(qū)域，且將所述至少一其他遮蔽區(qū)域所對應的一左邊界與一右邊界之 間的一中點設定為修正過曝后的該遮蔽區(qū)域的一像素位置。
19. 根據(jù)權利要求11所述的系統(tǒng)，其特征在于，該臨界值分布圖是根據(jù)原始信號分布 圖的一特定比例而產(chǎn)生，該原始信號分布圖是在該光學觸控區(qū)域中無遮蔽物的情況下，藉 由該感測單元獲得該反射元件反射所述至少一光束所產(chǎn)生的一原始光束而產(chǎn)生。
20. 根據(jù)權利要求12所述的系統(tǒng)，其特征在于，該第一面積為該檢測信號分布圖以及 所述至少一遮蔽區(qū)域分別對應的該左邊界與該右邊界圍繞而成。
21. -種修正觸控信號的方法，其特征在于，所述修正觸控信號的方法包括： 發(fā)射至少一光束，以獲得一反射元件反射所述至少一光束所產(chǎn)生的一檢測光束，從而 產(chǎn)生一檢測信號分布圖，其中該檢測信號分布圖表示一光學觸控區(qū)域的多個像素位置及對 應的多個信號亮度； 根據(jù)該檢測信號分布圖與一臨界值分布圖以獲得多個交會點、至少一遮蔽區(qū)域與所述 至少一遮蔽區(qū)域分別所對應的像素位置，其中各遮蔽區(qū)域?qū)噜彽膬蓚€交會點； 依據(jù)該檢測信號分布圖以及所述交會點以分別計算所述各遮蔽區(qū)域所占有的一第一 面積； 根據(jù)所述至少一遮蔽區(qū)域所對應的該第一面積以判斷所述至少一遮蔽區(qū)域是否發(fā)生 過曝現(xiàn)象；以及 若所述至少一遮蔽區(qū)域發(fā)生過曝現(xiàn)象，則修正過曝的所述至少一遮蔽區(qū)域以及所述至 少一遮蔽區(qū)域所對應的該像素位置。
22. 根據(jù)權利要求21所述的方法，其特征在于，獲得所述至少一遮蔽區(qū)域分別所對應 的該像素位置的步驟包括： 根據(jù)該檢測信號分布圖以獲得所述至少一遮蔽區(qū)域分別對應的一左邊界與一右邊界， 其中該左邊界與該右邊界分別通過所述至少一遮蔽區(qū)域所對應的相鄰的兩個交會點；以及 將該左邊界與該右邊界之間的一中點設定為所述至少一遮蔽區(qū)域分別所對應的該像 素位置。
23. 根據(jù)權利要求22所述的方法，其特征在于，判斷所述至少一遮蔽區(qū)域是否發(fā)生過 曝現(xiàn)象的步驟包括： 依據(jù)該臨界值分布圖以及所述交會點以分別計算所述各遮蔽區(qū)域所占有的一第二面 積，其中該第二面積為該臨界值分布圖以及所述至少一遮蔽區(qū)域分別對應的該左邊界與該 右邊界圍繞而成； 將所述至少一遮蔽區(qū)域分別所對應的該第一面積除以對應的該第二面積，以獲得至少 一面積比率；以及 若所述至少一面積比率的該其中之一大于對應的一比率閥值，則判定所述至少一面積 比率對應的所述至少一遮蔽區(qū)域發(fā)生過曝現(xiàn)象。
24. 根據(jù)權利要求22所述的方法，其特征在于，修正過曝的所述至少一遮蔽區(qū)域分別 所對應的該像素位置的步驟包括： 判斷所述至少一遮蔽區(qū)域中，是否具有皆發(fā)生過曝現(xiàn)象且相鄰的兩個遮蔽區(qū)域；以及 若具有皆發(fā)生過曝現(xiàn)象且相鄰的所述兩個遮蔽區(qū)域，則在發(fā)生過曝現(xiàn)象且相鄰的所述 兩個遮蔽區(qū)域中，計算位于左側(cè)的該遮蔽區(qū)域的該左邊界以及位于右側(cè)的該遮蔽區(qū)域的該 右邊界之間的一中點，以作為修正過曝后的該遮蔽區(qū)域的一像素位置。
25. 根據(jù)權利要求24所述的方法，其特征在于，修正過曝的所述至少一遮蔽區(qū)域分別 所對應的該像素位置的步驟包括： 判斷是否具有發(fā)生過曝現(xiàn)象的一遮蔽區(qū)域； 若具有發(fā)生過曝現(xiàn)象的該遮蔽區(qū)域，則計算該遮蔽區(qū)域的該左邊界的左側(cè)的該檢測信 號分布圖相對于該臨界值分布圖的一左變化程度，以及該遮蔽區(qū)域的該右邊界的右側(cè)的該 檢測信號分布圖相對于該臨界值分布圖的一右變化程度； 若該遮蔽區(qū)域的該右變化程度大于該左變化程度，則計算該左邊界以及通過該檢測信 號分布圖的一轉(zhuǎn)折點的一邊界之間的一中點，以作為該遮蔽區(qū)域修正后的一像素位置；以 及 若該遮蔽區(qū)域的該左變化程度大于該右變化程度，則計算該右邊界以及通過該檢測信 號分布圖的該轉(zhuǎn)折點的該邊界之間的一中點，以作為該遮蔽區(qū)域修正后的該像素位置。
26. 根據(jù)權利要求25所述的方法，其特征在于，修正過曝的所述至少一遮蔽區(qū)域分別 所對應的該像素位置的步驟包括： 計算所述至少一遮蔽區(qū)域分別對應的該左邊界與一左最低點之間的一左第一長度、該 中點與一左最低點之間的一左第二長度、該右邊界與一右最低點之間的一右第一長度以及 該中點與一右最低點之間的一右第二長度； 將該左第二長度大于該左第一長度且該右第二長度大于該右第一長度的對應的該遮 蔽區(qū)域判定為凸形；以及 將該左第二長度小于該左第一長度或該右第二長度小于該右第一長度的對應的該遮 蔽區(qū)域判定為非凸形， 其中，該檢測信號分布圖在該左最低點相對于的該遮蔽區(qū)域的中點的左側(cè)信號具有最 低的信號亮度，該檢測信號分布圖在該右最低點相對于的該遮蔽區(qū)域的中點的右側(cè)信號具 有最低的信號亮度。
27. 根據(jù)權利要求26所述的方法，其特征在于，修正過曝的所述至少一遮蔽區(qū)域分別 所對應的該像素位置的步驟包括： 若該遮蔽區(qū)域判定為非凸形，則對該遮蔽區(qū)域進行修正。
28. 根據(jù)權利要求22所述的方法，其特征在于，所述至少一光束具備一特定頻率，并且 修正過曝的所述至少一遮蔽區(qū)域分別所對應的該像素位置的步驟包括： 調(diào)整并發(fā)射該特定頻率的所述至少一光束，以獲得對應該特定頻率的一其他檢測信號 分布圖； 根據(jù)該其他檢測信號分布圖與該臨界值分布圖的多個交會點，來獲得至少一其他遮蔽 區(qū)域； 判斷所述至少一其他遮蔽區(qū)域的一數(shù)量是否為一最小值；以及 若所述至少一其他遮蔽區(qū)域的該數(shù)量為該最小值，則將所述至少一其他遮蔽區(qū)域設定 為修正過曝后的遮蔽區(qū)域，且將所述至少一其他遮蔽區(qū)域所對應的一左邊界與一右邊界之 間的一中點設定為修正過曝后的該遮蔽區(qū)域的一像素位置。
29. 根據(jù)權利要求21所述的方法，其特征在于，該臨界值分布圖是根據(jù)原始信號分布 圖的一特定比例而產(chǎn)生，該原始信號分布圖是在該光學觸控區(qū)域中無遮蔽物的情況下，藉 由獲得所述至少一反射元件反射所述至少一光束所產(chǎn)生的一原始光束而產(chǎn)生。
30. 根據(jù)權利要求22所述的方法，其特征在于，該第一面積為該檢測信號分布圖以及 所述至少一遮蔽區(qū)域分別對應的該左邊界與該右邊界圍繞而成。
【文檔編號】G06F3/042GK104281332SQ201310331684
【公開日】2015年1月14日 申請日期:2013年8月1日 優(yōu)先權日:2013年7月12日
【發(fā)明者】甘偉國, 陳裕彥, 蘇上欽 申請人:緯創(chuàng)資通股份有限公司