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一種無須搭橋的防污ogs觸摸屏及其形成方法

文檔序號:6509311閱讀:152來源:國知局
一種無須搭橋的防污ogs觸摸屏及其形成方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏,其包括透明基板、位于所述透明基板觸摸面?zhèn)鹊姆牢蹖右约拔挥谒鐾该骰甯袘?yīng)面?zhèn)纫来涡纬傻膱D案化的黑矩陣層、圖案化的第一ITO層、絕緣層、圖案化的第二ITO層和保護層。另一方面,本發(fā)明還提供一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏的形成方法。本發(fā)明的無須搭橋的防污OGS觸摸屏及其形成方法,只用ITO層及保護層和防污鍍層就能完成既能多點觸摸的感應(yīng)層又能完成防污鍍層的保護層的單玻璃技術(shù)。具有超薄、逼真的視覺效果、觸控體驗佳的優(yōu)點。
【專利說明】一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏及其形成方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及觸摸屏應(yīng)用【技術(shù)領(lǐng)域】,特別涉及一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏及其形成方法。
【背景技術(shù)】
[0002]單玻璃全貼合技術(shù)(One Glass Solution, 0GS)是在保護玻璃上直接形成ITO氧化銦錫導(dǎo)電膜及傳感器的技術(shù)。一塊玻璃同時起到保護玻璃和觸摸傳感器的雙重作用。從技術(shù)層面來看,OGS技術(shù)較之目前主流的G/G觸控技術(shù)具備以下優(yōu)勢:結(jié)構(gòu)簡單,輕、薄、透光性好;由于省掉一片玻璃基板以及貼合工序,利于降低生產(chǎn)成本、提高產(chǎn)品良率。目前比較主流的OGS觸摸屏基本上都是金屬搭橋式傳感器(sensor ),雖然此技術(shù)能夠達到產(chǎn)品質(zhì)量的保證,但是金屬鍍膜以及相應(yīng)黃光工藝無疑是成本倍增、質(zhì)量控制的難題。金屬搭橋線在光線照射下還是能夠清晰看見金屬連接線發(fā)白的現(xiàn)象,影響了終端客戶使用的玩機心情。
[0003]圖1所示為現(xiàn)有OGS觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖,其包括透明基板10、在透明基板10上依次形成的圖案化的黑矩陣層20、ITO層30、絕緣層40和保護層50,此種OGS觸摸屏生產(chǎn)流程為:a.在透明基板10的感應(yīng)面印刷或黃光車間制作黑矩陣層(BM層);b.轉(zhuǎn)至鍍膜車間在感應(yīng)面濺射ITO層;c.轉(zhuǎn)至黃光車間在感應(yīng)面進行ITO光刻或激光刻線;d.感應(yīng)面進行PI搭橋;e.至鍍膜車間進行感應(yīng)面金屬鑰鋁鑰(Mo-A1-Mo)鍍膜;f.對鑰鋁鑰層進行光刻或激光刻線;g.感應(yīng)面鍍膜或印刷保護層。
[0004]現(xiàn)有此種OGS技術(shù)為金屬橋接形成回路的電容觸摸屏技術(shù),雖然此技術(shù)能夠達到產(chǎn)品質(zhì)量的保證,但是生產(chǎn)成本投入大,良率一般,整體看上去有矩陣一樣的金屬連接線,給終端客戶帶來不舒服的感覺。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明提出一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏及其形成方法,只用ITO層及保護層和防污鍍層就能完成既能多點觸摸的感應(yīng)層又能完成防污鍍層的保護層的單玻璃技術(shù)。具有超薄、逼真的視覺效果、觸控體驗佳的優(yōu)點。本發(fā)明所采用的技術(shù)方案具體是這樣實現(xiàn)的:
一方面,本發(fā)明提供了一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏,其包括透明基板、位于所述透明基板觸摸面?zhèn)鹊姆牢蹖右约拔挥谒鐾该骰甯袘?yīng)面?zhèn)纫来涡纬傻膱D案化的黑矩陣層、圖案化的第一 ITO層、絕緣層、圖案化的第二 ITO層和保護層。
[0006]優(yōu)選地,所述黑矩陣層采用印刷或者光刻工藝形成。
[0007]優(yōu)選地,所述第一 ITO層和所述第二 ITO層均采用磁控濺射工藝形成。
[0008]優(yōu)選地,所述圖案化的第一 ITO層和所述第二 ITO層采用光刻或者激光刻線工藝形成。
[0009]優(yōu)選地,所述防污層采用磁控濺射工藝形成。[0010]另一方面,本發(fā)明還提供一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏的形成方法,其包括步驟:
1)在透明基板的感應(yīng)面?zhèn)炔捎糜∷⒒蛘吖饪坦に囍谱鲌D案化的黑矩陣層;
2)接著在具有圖案化的黑矩陣層上形成第一ITO層;
3)對第一ITO層采用光刻或者激光刻線工藝進行圖案化,形成圖案化的第一 ITO層;
4)在圖案化的第一ITO層上形成絕緣層;
5)在絕緣層上形成第二ITO層;
6)在透明基板的觸摸面?zhèn)刃纬煞牢蹖樱?br> 7)對第二ITO層采用光刻或者激光刻線工藝進行圖案化,形成圖案化的第二 ITO層;
8)在透明基板的感應(yīng)面?zhèn)葹R射或者印刷保護層。
[0011]優(yōu)選地,所述步驟6)中采用濺射工藝形成防污層。
[0012]本發(fā)明的無須搭橋的防污OGS觸摸屏及其形成方法,只用ITO層及保護層和防污鍍層就能完成既能多點觸摸的感應(yīng)層又能完成防污鍍層的保護層的單玻璃技術(shù)。具有超薄、逼真的視覺效果、觸控體驗佳的優(yōu)點。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1是現(xiàn)有OGS觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014]圖2是本發(fā)明具體實施例的無須搭橋的防污OGS觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0015]為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂,下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的【具體實施方式】做詳細的說明,使本發(fā)明的上述及其它目的、特征和優(yōu)勢將更加清晰。在全部附圖中相同的附圖標記指示相同的部分。并未刻意按比例繪制附圖,重點在于示出本發(fā)明的主旨。
[0016]圖2是本發(fā)明具體實施例的無須搭橋的防污OGS觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖2所示,本發(fā)明具體實施例的無須搭橋的防污OGS觸摸屏,其包括透明基板100、位于透明基板100觸摸面?zhèn)鹊姆牢蹖?00以及位于透明基板100感應(yīng)面?zhèn)纫来涡纬傻膱D案化的黑矩陣層200、圖案化的第一 ITO層300、絕緣層400、圖案化的第二 ITO層500和保護層600。
[0017]本發(fā)明具體實施例中,優(yōu)選地,黑矩陣層200采用印刷或者光刻工藝形成,第一ITO層300和第二 ITO層500均采用磁控濺射工藝形成,圖案化的第一 ITO層300和第二ITO層500采用光刻或者激光刻線工藝形成,防污層700采用磁控濺射工藝形成。
[0018]本發(fā)明具體實施例的無須搭橋的防污OGS觸摸屏的形成方法,其包括步驟:
1)在透明基板的感應(yīng)面?zhèn)炔捎糜∷⒒蛘吖饪坦に囍谱鲌D案化的黑矩陣層;
2)接著在具有圖案化的黑矩陣層上形成第一ITO層;
3)對第一ITO層采用光刻或者激光刻線工藝進行圖案化,形成圖案化的第一 ITO層;
4)在圖案化的第一ITO層上形成絕緣層;
5)在絕緣層上形成第二ITO層;
6)在透明基板的觸摸面?zhèn)刃纬煞牢蹖樱?br> 7)對第二ITO層采用光刻或者激光刻線工藝進行圖案化,形成圖案化的第二 ITO層; 8)在透明基板的感應(yīng)面?zhèn)葹R射或者印刷保護層。
[0019]優(yōu)選地,所述步驟6)中采用濺射工藝形成防污層。
[0020]本發(fā)明的無須搭橋的防污OGS觸摸屏及其形成方法,只用ITO層及保護層和防污鍍層就能完成既能多點觸摸的感應(yīng)層又能完成防污鍍層的保護層的單玻璃技術(shù)。具有超薄、逼真的視覺效果、觸控體驗佳的優(yōu)點。同時,本發(fā)明是一種能在感應(yīng)面(不需要搭橋?qū)?多點觸控、觸控面防指紋油污的OGS觸摸屏。本發(fā)明不僅降低生產(chǎn)成本,而且量產(chǎn)化良率高,觸摸面的防指紋、防污鍍層,終端用戶再也不用花幾十元去貼膜了。另外,本發(fā)明還具有以下有益效果:1.只用單層的保護玻璃就可以完成觸控的功能;2.Sensor做在保護玻璃上;3.真正的單層結(jié)構(gòu),不搭橋,沒有矩陣排列的金屬橋接線;3.最簡單的生產(chǎn)工藝;4.生產(chǎn)良率高,滿足最大的尺寸生產(chǎn)能力;5.最薄,最輕的結(jié)構(gòu);6.最好的光學效果;7.最低材料成本;8.最大的觸控面板產(chǎn)出能力;9.使用終端最好的觸控體驗及視覺效果;10.多點觸控,玩游戲有更好的體驗。
[0021]在以上的描述中闡述了很多具體細節(jié)以便于充分理解本發(fā)明。但是以上描述僅是本發(fā)明的較佳實施例而已,本發(fā)明能夠以很多不同于在此描述的其它方式來實施,因此本發(fā)明不受上面公開的具體實施的限制。同時任何熟悉本領(lǐng)域技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍情況下,都可利用上述揭示的方法和技術(shù)內(nèi)容對本發(fā)明技術(shù)方案做出許多可能的變動和修飾,或修改為等同變化的等效實施例。凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容,依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所做的任何簡單修改、等同變化及修飾,均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案保護的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏,其特征在于,包括透明基板、位于所述透明基板觸摸面?zhèn)鹊姆牢蹖右约拔挥谒鐾该骰甯袘?yīng)面?zhèn)纫来涡纬傻膱D案化的黑矩陣層、圖案化的第一 ITO層、絕緣層、圖案化的第二 ITO層和保護層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無須搭橋的防污OGS觸摸屏,其特征在于,所述黑矩陣層采用印刷或者光刻工藝形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無須搭橋的防污OGS觸摸屏,其特征在于,所述第一ITO層和所述第二 ITO層均采用磁控濺射工藝形成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無須搭橋的防污OGS觸摸屏,其特征在于,所述圖案化的第一ITO層和所述第二 ITO層采用光刻或者激光刻線工藝形成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無須搭橋的防污OGS觸摸屏,其特征在于,所述防污層采用磁控派射工藝形成。
6.一種無須搭橋的防污OGS觸摸屏的形成方法,其特征在于,包括步驟: 1)在透明基板的感應(yīng)面?zhèn)炔捎糜∷⒒蛘吖饪坦に囍谱鲌D案化的黑矩陣層; 2)接著在具有圖案化的黑矩陣層上形成第一ITO層; 3)對第一ITO層采用光刻或者激光刻線工藝進行圖案化,形成圖案化的第一 ITO層; 4)在圖案化的第一ITO層上形成絕緣層; 5)在絕緣層上形成第二ITO層; 6)在透明基板的觸摸面?zhèn)刃纬煞牢蹖樱? 7)對第二ITO層采用光刻或者激光刻線工藝進行圖案化,形成圖案化的第二 ITO層; 8)在透明基板的感應(yīng)面?zhèn)葹R射或者印刷保護層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的無須搭橋的防污OGS觸摸屏的形成方法,其特征在于,所述步驟6)中采用濺射工藝形成防污層。
【文檔編號】G06F3/041GK103500043SQ201310383969
【公開日】2014年1月8日 申請日期:2013年8月29日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月29日
【發(fā)明者】王進東 申請人:江蘇宇天港玻新材料有限公司
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