專利名稱：?jiǎn)纹綗o(wú)金屬痕電容式觸控玻璃的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及無(wú)金屬痕帶電容式觸摸功能的蓋板玻璃(Non-Metal reflectivePatterned Touch Glass)。
背景技術(shù)：
目前市場(chǎng)上主流的以玻璃基材為主的投射式電容觸摸屏面板的構(gòu)成多采用將觸控玻璃(Touch Sensor)與蓋板玻璃(Cover Glass)貼合在一起的產(chǎn)品。這種設(shè)計(jì)的主要問(wèn)題是工藝復(fù)雜，成本高，組件厚度太厚，重量太重，貼合良率低。已經(jīng)越來(lái)越不適應(yīng)電子數(shù)碼產(chǎn)品更輕更薄更廉的發(fā)展方向。另外由于采用的是兩片玻璃的貼合，整個(gè)電容式觸摸屏組件的透光性較差，無(wú)法滿足高清液晶顯示屏的要求，在戶外使用效果更差。就此，各個(gè)觸控玻璃(Touch sensor)的制造商紛紛推出一片觸控蓋板玻璃的方案，將傳統(tǒng)的觸控玻璃和蓋板玻璃貼合在一起的觸摸屏變成一片觸控蓋板玻璃觸摸屏。而由于是一片玻璃的觸控方案，其觸控的表面是在觸控蓋板玻璃的內(nèi)表面，按照單面觸控玻璃的方案，中間會(huì)有規(guī)則的金屬線(寬度5-20微米，長(zhǎng)度50-300微米不等)，雖然不影響外觀，但是大多數(shù)消費(fèi)者都很難接受極易看到這些可視區(qū)的金屬線。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是實(shí)現(xiàn)一種單片式無(wú)金屬痕電容式觸控玻璃。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為:單片式無(wú)金屬痕電容式觸控玻璃，由保護(hù)玻璃和樹脂保護(hù)層夾持導(dǎo)電層構(gòu)成，所述的保護(hù)玻璃與導(dǎo)電層之間設(shè)有二氧化硅保護(hù)層。所述的導(dǎo)電 層由保護(hù)玻璃向樹脂保護(hù)層方向依次設(shè)有ITO圖層、絕緣架橋?qū)雍徒饘倏鐦驅(qū)w層，所述的導(dǎo)電層邊緣依次設(shè)有邊框和金屬引線。所述的導(dǎo)電層邊緣邊框和金屬引線之間設(shè)有一層二氧化硅保護(hù)層絕緣。防止邊框具有導(dǎo)電性，導(dǎo)致金屬線短路。所述的二氧化硅保護(hù)層厚度為100 A -500 A。所述的保護(hù)玻璃厚度為0.9-1.3mm,所述的絕緣架橋?qū)雍穸葹?.2-1.8 μ m0本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于不僅解決兩片玻璃造成的工藝復(fù)雜，結(jié)構(gòu)復(fù)雜的問(wèn)題，也可以降低投射光的反射率從而使顯示更清晰，尤其是顯示器可視區(qū)沒(méi)有金屬線反射，提高的產(chǎn)品的整體外觀品質(zhì)。

下面對(duì)本實(shí)用新型說(shuō)明書中每幅附圖表達(dá)的內(nèi)容及圖中的標(biāo)記作簡(jiǎn)要說(shuō)明:圖1為單片式無(wú)金屬痕電容式觸控玻璃層結(jié)構(gòu)圖；上述圖中的標(biāo)記均為:1、保護(hù)玻璃；2、二氧化硅保護(hù)層；3、邊框；4、ITO圖層；5、絕緣架橋?qū)樱?、金屬跨橋?qū)w層；7、金屬引線；8、樹脂保護(hù)層。
具體實(shí)施方式
下面對(duì)照附圖，通過(guò)對(duì)實(shí)施例的描述，本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
如所涉及的各構(gòu)件的形狀、構(gòu)造、各部分之間的相互位置及連接關(guān)系、各部分的作用及工作原理、制造工藝及操作使用方法等，作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明，以幫助本領(lǐng)域技術(shù)人員對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)用新型構(gòu)思、技術(shù)方案有更完整、準(zhǔn)確和深入的理解。參見圖1可知，本實(shí)用新型單片式無(wú)金屬痕電容式觸控玻璃，由保護(hù)玻璃I和樹脂保護(hù)層8夾持導(dǎo)電層構(gòu)成，并在保護(hù)玻璃I與導(dǎo)電層之間設(shè)有一層二氧化硅保護(hù)層2，二氧
化硅保護(hù)層2厚度為10A -500A。上述導(dǎo)電層由保護(hù)玻璃I向樹脂保護(hù)層8方向依次設(shè)有ITO圖層4、絕緣架橋?qū)?和金屬跨橋?qū)w層6，導(dǎo)電層的邊緣依次設(shè)有邊框3和金屬引線7，并在導(dǎo)電層邊緣邊框3和金屬引線7之間設(shè)有一層二氧化硅保護(hù)層2(由制作工藝形成)，其中邊框3可以是黑、紅、橙、黃、綠、青、藍(lán)、紫各色，其主要代替貼合蓋板玻璃及貼合蓋板玻璃上的各顏色框油墨，用于抵擋金屬引線7可視。保護(hù)玻璃厚度為0.7-2.0_，絕緣架橋?qū)雍穸葹?.2-1.8 μ m。本實(shí)用新型單片式無(wú)金屬痕電容式觸控玻璃的制造工藝如下:步驟1、保護(hù)玻璃1400X500X1.1mm (僅為一個(gè)實(shí)施例的尺寸)的浮法玻璃基板，先對(duì)浮法玻璃進(jìn)行化學(xué)鋼化，再在浮法玻璃一個(gè)表面(空氣面或者錫面)用光刻的方法做邊框3，即先涂一層有色膜，再依次進(jìn)行涂布，烘烤，曝光、顯影，蝕刻工藝將其制作成所需圖形，制成邊框3;步驟2、在具有邊框3的保護(hù)玻璃I (或還具有黑線圖案)一面采用真空鍍膜方式(磁控濺射或電子槍蒸發(fā))鍍一層二氧化硅保護(hù)層2，厚度為IOnm-1OOnm ；
`[0020]步驟3、在二氧化硅保護(hù)層2外再鍍真空鍍膜ITO膜，ITO膜電阻為5歐姆至300歐姆；步驟4、對(duì)ITO膜上進(jìn)行曝光、蝕刻制作ITO圖層4，刻蝕方式可以是光刻或絲印，光刻即對(duì)ITO膜進(jìn)行涂布，烘烤，曝光、顯影，蝕刻工藝處理，制作成ITO圖層4 ；步驟5、在ITO圖層4上用光罩涂布一層1.2-1.8 μ m微米厚帶圖案的絕緣架橋?qū)?，具體的說(shuō)是先涂布一層有機(jī)著色材料(PI )，再對(duì)有機(jī)著色材料層依次進(jìn)行涂布，烘烤，曝光、顯影，蝕刻工藝處理，制作絕緣架橋?qū)? ；步驟6、再將此帶邊框3，ITO圖層4和絕緣架橋?qū)?的浮法玻璃采用真空磁控濺射鍍金屬膜(MAM膜)，并用光刻方法按設(shè)計(jì)刻蝕圖案制成金屬跨橋?qū)w層6和金屬引線7，即對(duì)金屬膜依次進(jìn)行涂布，烘烤，曝光、顯影，蝕刻工藝將其制作成所需圖形，并保證可視區(qū)與底層的邊框3 (以及黑線圖案)重合或部分重合；步驟7、在金屬跨橋?qū)w層6和金屬引線7外涂布一層有機(jī)透明材料圖形構(gòu)成一層樹脂保護(hù)層8，需裸漏出引線的觸腳；步驟8、CNC切割成形，CNC成型好的無(wú)金屬痕電容式觸控玻璃與柔性線路板和電容屏驅(qū)動(dòng)IC連接。就此，單片式無(wú)金屬痕電容式觸控玻璃制作完成。[0027]金屬膜邊緣制作金屬引線7進(jìn)行曝光工藝時(shí)，為了避免過(guò)曝光，防止金屬殘留，導(dǎo)致線路短路，采用過(guò)曝光的掩膜板，即曝光工藝中使用的掩膜板上設(shè)計(jì)圖形的尺寸成比例的大于產(chǎn)品實(shí)際標(biāo)準(zhǔn)值6-7um，通過(guò)調(diào)節(jié)曝光機(jī)能由原來(lái)100-150 mj/ cm2至現(xiàn)在250-300mj/ cm2，優(yōu)選300mj/ cm2，調(diào)節(jié)曝光能量時(shí)間由DNK曝光機(jī)自身軟件限定的，正常光通量為35 mj/ cm2，按機(jī)臺(tái)軟件設(shè)定一直到達(dá)工藝設(shè)定參數(shù)后自動(dòng)停止。通過(guò)上述工藝調(diào)節(jié)，改變掩膜板上設(shè)計(jì)值達(dá)到實(shí)際標(biāo)準(zhǔn)值，同時(shí)改善圖形線間光阻殘留。黑膜和金屬膜在進(jìn)行光刻技術(shù)的蝕刻工藝時(shí)，還會(huì)存在耐化學(xué)性問(wèn)題，即邊框3會(huì)受到強(qiáng)酸攻擊導(dǎo)致脫落，導(dǎo)致蝕刻過(guò)蝕刻，產(chǎn)生機(jī)能NG (short短路)。因此在導(dǎo)電材料和黑膜進(jìn)行蝕刻前后都需要進(jìn)行硬烤工序，以增強(qiáng)BM附著力，蝕刻前硬烤溫度220-240°C持續(xù)時(shí)間8-10min ;蝕刻后硬烤溫度220_240°C持續(xù)時(shí)間30_35min，來(lái)增強(qiáng)蝕刻前黑光阻耐酸性和蝕刻后黑光阻附著力。上面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了示例性描述，顯然本實(shí)用新型具體實(shí)現(xiàn)并不受上述方式的限制，只要采用了本實(shí)用新型的方法構(gòu)思和技術(shù)方案進(jìn)行的各種非實(shí)質(zhì)性的改進(jìn)，或未經(jīng)改進(jìn)將本實(shí)用新型的構(gòu)思和技術(shù)方案直接應(yīng)用于其它場(chǎng)合的，均在本實(shí)用新型的保護(hù) 范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.單片式無(wú)金屬痕電容式觸控玻璃，由保護(hù)玻璃(I)和樹脂保護(hù)層(8)夾持導(dǎo)電層構(gòu)成，其特征在于:所述的保護(hù)玻璃(I)與導(dǎo)電層之間設(shè)有二氧化硅保護(hù)層(2)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電容式觸控玻璃，其特征在于:所述的導(dǎo)電層由保護(hù)玻璃(I)向樹脂保護(hù)層(8)方向依次設(shè)有ITO圖層(4)、絕緣架橋?qū)?5)和金屬跨橋?qū)w層(6)，所述的導(dǎo)電層邊緣依次設(shè)有有色邊框(3 )和金屬引線(7 )。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電容式觸控玻璃，其特征在于:所述的導(dǎo)電層邊緣邊框(3)和金屬引線(7 )之間設(shè)有一層二氧化硅保護(hù)層(2 )。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的電容式觸控玻璃，其特征在于:所述的二氧化硅保護(hù)層(2)厚度為 100 A -500 A。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電容式觸控玻璃，其特征在于:所述的保護(hù)玻璃(I)厚度為 `0.9-1.3mm,所述的絕緣架橋?qū)?5)厚度為1.2-1.8 μ m。
專利摘要本實(shí)用新型揭示了一種單片式無(wú)金屬痕電容式觸控玻璃，由保護(hù)玻璃和樹脂保護(hù)層夾持導(dǎo)電層構(gòu)成，所述的保護(hù)玻璃與導(dǎo)電層之間設(shè)有二氧化硅保護(hù)層。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于不僅解決兩片玻璃造成的工藝復(fù)雜，結(jié)構(gòu)復(fù)雜的問(wèn)題，也可以降低投射光的反射率從而使顯示更清晰，尤其是顯示器可視區(qū)沒(méi)有金屬線反射，提高的產(chǎn)品的整體外觀品質(zhì)。
文檔編號(hào)G06F3/044GK203102236SQ201320064238
公開日2013年7月31日 申請(qǐng)日期2013年2月4日 優(yōu)先權(quán)日2013年2月4日
發(fā)明者陳奇, 沈勵(lì), 許沭華, 遲曉輝 申請(qǐng)人:蕪湖長(zhǎng)信科技股份有限公司