一種觸摸屏、其制作方法及顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種觸摸屏、其制作方法及顯示裝置，由于觸控結(jié)構(gòu)和周邊走線位于襯底基板的一側(cè)，而屏蔽層位于襯底基板的另一側(cè)，即屏蔽層和觸控結(jié)構(gòu)分別位于襯底基板的兩側(cè)，因此當(dāng)該觸摸屏在采用濺射的方式在襯底基板的一側(cè)制作觸控結(jié)構(gòu)和周邊走線時(shí)，濺鍍腔中的等離子體不會(huì)對(duì)位于襯底基板另一側(cè)的屏蔽層產(chǎn)生轟擊，從而避免屏蔽層污染腔室。并且，由于屏蔽層位于襯底基板的另一側(cè)，因此與現(xiàn)有技術(shù)中觸控結(jié)構(gòu)和周邊走線是形成在屏蔽層的膜層上時(shí)相比，不會(huì)發(fā)生由于屏蔽層的不平坦而造成觸控結(jié)構(gòu)不平坦的問題，從而保證觸摸屏的質(zhì)量。
【專利說明】一種觸摸屏、其制作方法及顯示裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及觸控【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種觸摸屏、其制作方法及顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著顯示技術(shù)的飛速發(fā)展，觸摸屏(Touch Screen Panel)已經(jīng)逐漸遍及人們的生活中。目前，觸摸屏按照工作原理可以分為:電阻式、電容式、紅外線式以及表面聲波式、電磁式、振波感應(yīng)式以及受抑全內(nèi)反射光學(xué)感應(yīng)式等。其中，電容式觸摸屏以其獨(dú)特的觸控原理，憑借高靈敏度、長壽命、高透光率等優(yōu)點(diǎn)，被業(yè)內(nèi)追捧為新寵。
[0003]目前應(yīng)用比較廣泛的單片式(OGS，One Glass Solution)觸控模組，是在基板上直接形成單層的觸控導(dǎo)電膜及傳感器，如圖1a和圖1b所示，OGS觸控模組的具體結(jié)構(gòu)包括:在襯底基板01上依次層疊設(shè)置的屏蔽層(Blackmatrix，簡稱BM) 02、橋接層(Bridge) 03、絕緣層(Overcoat,簡稱0C)04、觸控電極層05、周邊走線06以及鈍化層07 ;其中，觸控電極層05具體包括交叉而置且相互絕緣的觸控感應(yīng)電極051和觸控驅(qū)動(dòng)電極052，觸控感應(yīng)電極051和觸控驅(qū)動(dòng)電極052為菱形圖案，相鄰的且相互斷開的觸控驅(qū)動(dòng)電極052通過橋接層03橋接，觸控感應(yīng)電極051和觸控驅(qū)動(dòng)電極052在觸控模組的非觸控區(qū)域與對(duì)應(yīng)的周邊走線06相連，周邊走線06會(huì)將觸控電極層05上的信號(hào)傳輸?shù)綄?duì)應(yīng)的IC芯片進(jìn)行分析處理。
[0004]上述結(jié)構(gòu)的OGS觸控模組在制備時(shí)，需要先在襯底基板01上形成屏蔽層02，然后形成有屏蔽層02的襯底基板01需要多次進(jìn)入到濺鍍腔中以形成后續(xù)的其他膜層，例如形成橋接層03、觸控電極層05以及周邊走線06。由于屏蔽層02的材料中含有樹脂材料，因此，當(dāng)形成有屏蔽層02的襯底基板01在派鍍腔中被等離子體(plasma)轟擊時(shí),會(huì)釋放出其他物質(zhì)，從而污染腔室。另外，等離子體對(duì)屏蔽層02的表面進(jìn)行轟擊時(shí)，也會(huì)導(dǎo)致屏蔽層02的表面有凸起和凹陷等不平坦的缺陷，從而影響后續(xù)膜層的平坦度，造成工藝不良等問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明實(shí)施例提供的一種觸摸屏、其制作方法及顯示裝置，用以避免在濺鍍腔中等離子體對(duì)屏蔽層的轟擊，從而避免屏蔽層污染腔室，以及減少由于等離子體對(duì)屏蔽層表面轟擊造成的表面不平坦問題。
[0006]本發(fā)明實(shí)施例提供的一種觸摸屏，包括襯底基板，位于所述觸摸屏的觸控區(qū)域的觸控結(jié)構(gòu)，以及位于所述觸摸屏的非觸控區(qū)域的且與所述觸控結(jié)構(gòu)電性連接的周邊走線和用于遮擋所述周邊走線的屏蔽層；
[0007]所述觸控結(jié)構(gòu)和所述周邊走線位于所述襯底基板的一側(cè)，所述屏蔽層位于所述襯底基板的另一側(cè)。
[0008]本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸摸屏，由于觸控結(jié)構(gòu)和周邊走線位于襯底基板的一偵牝而屏蔽層位于襯底基板的另一側(cè)，即屏蔽層和觸控結(jié)構(gòu)分別位于襯底基板的兩側(cè)，因此當(dāng)該觸摸屏在采用濺射的方式在襯底基板的一側(cè)制作觸控結(jié)構(gòu)和周邊走線時(shí)，濺鍍腔中的等離子體不會(huì)對(duì)位于襯底基板另一側(cè)的屏蔽層產(chǎn)生轟擊，從而避免屏蔽層污染腔室。并且，由于屏蔽層位于襯底基板的另一側(cè)，因此與現(xiàn)有技術(shù)中觸控結(jié)構(gòu)和周邊走線是形成在屏蔽層的膜層上時(shí)相比，不會(huì)發(fā)生由于屏蔽層的不平坦而造成觸控結(jié)構(gòu)不平坦的問題，從而保證觸摸屏的質(zhì)量。
[0009]較佳地，為了便于實(shí)施，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸摸屏中，所述觸控結(jié)構(gòu)具體包括:交叉而置且相互絕緣的觸控感應(yīng)電極和觸控驅(qū)動(dòng)電極，所述觸控感應(yīng)電極和觸控驅(qū)動(dòng)電極分別與對(duì)應(yīng)的周邊走線電性連接。
[0010]較佳地，為了便于實(shí)施，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸摸屏中，所述觸控感應(yīng)電極和觸控驅(qū)動(dòng)電極同層設(shè)置，所述觸控結(jié)構(gòu)還包括:
[0011 ] 橋接相鄰的所述觸控驅(qū)動(dòng)電極或相鄰的所述觸控感應(yīng)電極的橋接層，以及
[0012]位于所述橋接層與同層設(shè)置的所述觸控感應(yīng)電極和所述觸控驅(qū)動(dòng)電極之間的絕緣層。
[0013]較佳地，為了便于實(shí)施，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸摸屏中，還包括:位于所述襯底基板與所述觸控結(jié)構(gòu)之間的抗反射層。
[0014]較佳地，為了便于實(shí)施，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸摸屏中，還包括:覆蓋所述觸控結(jié)構(gòu)和所述周邊走線的鈍化層。
[0015]較佳地，為了便于實(shí)施，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸摸屏中，所述屏蔽層的材料為黑色感光性樹脂材料。
[0016]本發(fā)明實(shí)施例提供的一種本發(fā)明實(shí)施例提供的上述任一種觸摸屏的制作方法，包括:
[0017]在襯底基板的一側(cè)形成包括電性連接的周邊走線與觸控結(jié)構(gòu)的圖形，在襯底基板的另一側(cè)形成包括屏蔽層的圖形；其中，
[0018]所述屏蔽層用于遮擋所述周邊走線，所述屏蔽層和所述周邊走線位于所述觸摸屏的非觸控區(qū)域，所述觸控結(jié)構(gòu)位于所述觸摸屏的觸控區(qū)域。
[0019]較佳地，為了便于實(shí)施，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述制作方法:
[0020]在所述襯底基板的一側(cè)形成包括屏蔽層的圖形，翻轉(zhuǎn)所述襯底基板，在所述襯底基板的另一側(cè)形成包括電性連接的周邊走線與觸控結(jié)構(gòu)的圖形；或，
[0021]在所述襯底基板的一側(cè)形成包括電性連接的周邊走線與觸控結(jié)構(gòu)的圖形，翻轉(zhuǎn)所述襯底基板，在所述襯底基板的另一側(cè)形成包括屏蔽層的圖形。
[0022]本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示裝置，包括本發(fā)明實(shí)施例提供的上述任一種觸摸屏。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0023]圖1a為現(xiàn)有技術(shù)中的OGS觸控模組的俯視示意圖；
[0024]圖1b為圖1a沿A-A向的截面示意圖；
[0025]圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖之一；
[0026]圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的觸摸屏的結(jié)構(gòu)示意圖之二 ；
[0027]圖4為本發(fā)明實(shí)例一提供的觸摸屏的制作方法的流程圖；
[0028]圖5為本發(fā)明實(shí)例二提供的觸摸屏的制作方法的流程圖?！揪唧w實(shí)施方式】
[0029]下面結(jié)合附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例提供的一種觸摸屏、其制作方法及顯示裝置的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行詳細(xì)地說明。
[0030]附圖中各層薄膜厚度和區(qū)域大小形狀不反映觸摸屏的真實(shí)比例，目的只是示意說明本
【發(fā)明內(nèi)容】
。
[0031]本發(fā)明實(shí)施例提供的一種觸摸屏，如圖2和圖3所示，包括襯底基板100，位于觸摸屏的觸控區(qū)域的觸控結(jié)構(gòu)200，以及位于觸摸屏的非觸控區(qū)域的且與觸控結(jié)構(gòu)200電性連接的周邊走線300和用于遮擋周邊走線300的屏蔽層400 ；
[0032]觸控結(jié)構(gòu)200和周邊走線300位于襯底基板100的一側(cè)，屏蔽層400位于襯底基板100的另一側(cè)。
[0033]本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸摸屏，由于觸控結(jié)構(gòu)和周邊走線位于襯底基板的一偵牝而屏蔽層位于襯底基板的另一側(cè)，即屏蔽層和觸控結(jié)構(gòu)分別位于襯底基板的兩側(cè)，因此當(dāng)該觸摸屏在采用濺射的方式在襯底基板的一側(cè)制作觸控結(jié)構(gòu)和周邊走線時(shí)，濺鍍腔中的等離子體不會(huì)對(duì)位于襯底基板另一側(cè)的屏蔽層產(chǎn)生轟擊，從而避免屏蔽層污染腔室。并且，由于屏蔽層位于襯底基板的另一側(cè)，因此與現(xiàn)有技術(shù)中觸控結(jié)構(gòu)和周邊走線是形成在屏蔽層的膜層上時(shí)相比，不會(huì)發(fā)生由于屏蔽層的不平坦而造成觸控結(jié)構(gòu)不平坦的問題，從而保證觸摸屏的質(zhì)量。
[0034]具體地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸摸屏中，屏蔽層400的材料可以為黑色感光性樹脂材料，這樣同時(shí)可以將黑色感光性樹脂作為掩膜工藝中的光刻膠使用，省去了單獨(dú)涂覆光刻膠的工藝，減少了對(duì)光刻膠的使用量，節(jié)約了生產(chǎn)成本。
[0035]較佳地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸摸屏中，周邊走線可以是金屬走線，金屬的電阻比較小，導(dǎo)電效果更好，有利于提高觸摸屏的觸控靈敏度。具體地，周邊走線可以為鑰(Mo)或鋁(Al)。
[0036]較佳地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸摸屏中，如圖2和圖3所示，觸控結(jié)構(gòu)200具體包括:交叉而置且相互絕緣的觸控感應(yīng)電極210和觸控驅(qū)動(dòng)電極220,觸控感應(yīng)電極210和觸控驅(qū)動(dòng)電極220分別與對(duì)應(yīng)的周邊走線300電性連接。
[0037]較佳地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸摸屏中，如圖2和圖3所示，觸控感應(yīng)電極210和觸控驅(qū)動(dòng)電極220同層設(shè)置，觸控結(jié)構(gòu)200還包括:
[0038]橋接相鄰的觸控感應(yīng)電極210或相鄰的觸控驅(qū)動(dòng)電極220的橋接層230 ；以及
[0039]位于橋接層230與同層設(shè)置的觸控感應(yīng)電極210和觸控驅(qū)動(dòng)電極220之間的絕緣層240 ;在圖2中以橋接層230橋接相鄰的觸控感應(yīng)電極210為例進(jìn)行說明。
[0040]具體地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸摸屏中，觸控感應(yīng)電極210和觸控驅(qū)動(dòng)電極220的材料可以采用透明導(dǎo)電材料，例如，可以是氧化銦錫(ΙΤ0)或氧化銦鋅(ΙΖ0)材料，還可以是碳納米管、石墨烯等透明導(dǎo)電材料。
[0041]進(jìn)一步地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸摸屏中，橋接層230的材料可以采用透明導(dǎo)電材料，例如，可以是氧化銦錫(ΙΤ0)、氧化銦鋅(IZO)材料、碳納米管或者石墨烯；橋接層也可以采用金屬。采用ITO作為橋接層230的好處在于提高觸摸屏的透過率，并且ITO與金屬相比對(duì)光的反射率較小，降低了反射光對(duì)人的視覺影響。當(dāng)然，橋接層230的材料也可以采用金屬制備，金屬的電阻比ITO小，有利于減小觸控電極層的電阻，提高觸控靈敏度，但是金屬一般是不透光的，會(huì)影響觸摸屏的透過率，在此不做限定。
[0042]較佳地，為了防止照射到觸摸屏的外界光發(fā)生反射而影響視覺效果，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸摸屏中，如圖3所示，還可以包括:位于襯底基板100與觸控結(jié)構(gòu)200之間的抗反射層600。這是因?yàn)楫?dāng)外界環(huán)境的光線穿過觸摸屏?xí)r，會(huì)經(jīng)過一些金屬膜層(例如橋接層等)，從而發(fā)生發(fā)射，使人眼可以看到觸摸屏上的圖案，降低視覺效果。并且，由于穿過觸摸屏不同位置的光線所經(jīng)過的膜層是不同的，因此反射出來的光線的光譜也就不同，從而造成反射光線差異較大，同樣降低視覺效果。因此，設(shè)置抗反射層600可以盡可能的降低反射率和減少反射光線，從而提高視覺效果。
[0043]較佳地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸摸屏中，如圖2和圖3所示，還可以包括:覆蓋觸控結(jié)構(gòu)200和周邊走線300的鈍化層500。
[0044]較佳地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸摸屏中，基于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實(shí)施例還提供了上述任一種觸摸屏的制作方法，具體可以包括以下步驟:
[0045]在襯底基板的一側(cè)形成包括電性連接的周邊走線與觸控結(jié)構(gòu)的圖形，在襯底基板的另一側(cè)形成包括屏蔽層的圖形；其中，
[0046]屏蔽層用于遮擋所述周邊走線，屏蔽層和周邊走線位于觸摸屏的非觸控區(qū)域，觸控結(jié)構(gòu)位于觸摸屏的觸控區(qū)域。
[0047]較佳地，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述制作方法，可以先在在襯底基板的一側(cè)形成包括屏蔽層的圖形，然后翻轉(zhuǎn)襯底基板，再在襯底基板的另一側(cè)形成包括電性連接的周邊走線與觸控結(jié)構(gòu)的圖形；或，
[0048]也可以先在襯底基板的一側(cè)形成包括電性連接的周邊走線與觸控結(jié)構(gòu)的圖形，然后翻轉(zhuǎn)襯底基板，再在襯底基板的另一側(cè)形成包括屏蔽層的圖形。
[0049]下面以圖3所示的結(jié)構(gòu)為例來說明本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸摸屏的制備方法。
[0050]實(shí)例一:
[0051]具體地，在制作如圖3所示的觸摸屏?xí)r，先在在襯底基板100的一側(cè)形成包括屏蔽層400的圖形，然后翻轉(zhuǎn)襯底基板100，再在襯底基板100的另一側(cè)形成包括電性連接的周邊走線300與觸控結(jié)構(gòu)200的圖形，其中，觸控結(jié)構(gòu)200包括同層設(shè)置、交叉而置且相互絕緣的觸控感應(yīng)電極210和觸控驅(qū)動(dòng)電極220，橋接相鄰的觸控感應(yīng)電極210的橋接層230 ；以及位于橋接層230與同層設(shè)置的觸控感應(yīng)電極210和觸控驅(qū)動(dòng)電極220之間的絕緣層240 ;觸摸屏制作過程，如圖4所示，具體可以包括以下步驟:
[0052]S401、在襯底基板100的一側(cè)形成包括屏蔽層400的圖形；
[0053]具體地，在具體實(shí)施時(shí)，采用旋涂法在襯底基板上涂覆黑色感光性樹脂光刻膠，然后經(jīng)過曝光、顯影和后烘處理后，形成屏蔽層的圖形。
[0054]S402、翻轉(zhuǎn)襯底基板100 ；
[0055]S403、在襯底基板100的另一側(cè)形成包括抗反射層600的圖形；
[0056]S404、在抗反射層600上形成包括橋接層230的圖形；
[0057]具體地，在具體實(shí)施時(shí)，通過濺射的方式在抗反射層600上沉積ITO材料，然后再在ITO上涂覆光刻膠，對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光、顯影和刻蝕處理之后，剝離光刻膠，形成橋接層的圖形。[0058]S405、在橋接層230上形成包括絕緣層240的圖形；
[0059]具體地，在具體實(shí)施時(shí)，在橋接層上涂覆絕緣材料的光刻膠，然后通過曝光和顯影處理后，形成絕緣層的圖形。
[0060]S406、在絕緣層240上形成包括同層設(shè)置、且交叉而置的觸控感應(yīng)電極210和觸控驅(qū)動(dòng)電極220的圖形；
[0061]具體地，在具體實(shí)施時(shí)，通過濺射的方式在絕緣層上沉積ITO材料，然后再在ITO上涂覆光刻膠，對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光、顯影和刻蝕處理之后，剝離光刻膠，形成觸控感應(yīng)電極和觸控驅(qū)動(dòng)電極的圖形。
[0062]S407、襯底基板100上形成包括周邊走線300的圖形；
[0063]具體地，在具體實(shí)施時(shí)，通過濺射的方式在襯底基板上沉積金屬材料的膜層，然后再在金屬材料的膜層上涂覆光刻膠，對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光、顯影和刻蝕處理之后，剝離光刻膠，形成周邊走線的圖形。進(jìn)一步地，金屬材料具體可以為Mo或Al。
[0064]S408、形成覆蓋觸控結(jié)構(gòu)200和周邊走線300的鈍化層500。
[0065]具體地，經(jīng)過上述步驟S401至S408之后，得到本發(fā)明實(shí)施例所提供的如圖3所示的觸摸屏。
[0066]實(shí)例二:
[0067]在制作如圖3所示的觸摸屏?xí)r，先在襯底基板100的一側(cè)形成包括電性連接的周邊走線300與觸控結(jié)構(gòu)200的圖形，然后翻轉(zhuǎn)襯底基板100，再在襯底基板100的另一側(cè)形成包括屏蔽層400的圖形，其中，觸控結(jié)構(gòu)200包括同層設(shè)置、交叉而置且相互絕緣的觸控感應(yīng)電極210和觸控驅(qū)動(dòng)電極220，橋接相鄰的觸控感應(yīng)電極210的橋接層230 ;以及位于橋接層230與同層設(shè)置的觸控感應(yīng)電極210和觸控驅(qū)動(dòng)電極220之間的絕緣層240 ;觸摸屏制作過程，如圖5所示，具體可以包括以下步驟:
[0068]S501、在襯底基板100的一側(cè)形成包括抗反射層600的圖形；
[0069]S502、在抗反射層600上形成橋接層230的圖形；
[0070]具體地，在具體實(shí)施時(shí)，通過濺射的方式在抗反射層600上沉積ITO材料，然后再在ITO上涂覆光刻膠，對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光、顯影和刻蝕處理之后，剝離光刻膠，形成橋接層的圖形。
[0071]S503、在橋接層230上形成包括絕緣層240的圖形；
[0072]具體地，在具體實(shí)施時(shí)，在橋接層上涂覆絕緣材料的光刻膠，然后通過曝光和顯影處理后，形成絕緣層的圖形。
[0073]S504、在絕緣層240上形成包括同層設(shè)置、且交叉而置的觸控感應(yīng)電極210和觸控驅(qū)動(dòng)電極220的圖形；
[0074]具體地，在具體實(shí)施時(shí)，通過濺射的方式在絕緣層上沉積ITO材料，然后再在ITO上涂覆光刻膠，對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光、顯影和刻蝕處理之后，剝離光刻膠，形成觸控感應(yīng)電極和觸控驅(qū)動(dòng)電極的圖形。
[0075]S505、襯底基板100上形成包括周邊走線300的圖形；
[0076]具體地，在具體實(shí)施時(shí)，通過濺射的方式在襯底基板上沉積金屬材料的膜層，然后再在金屬材料的膜層上涂覆光刻膠，對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光、顯影和刻蝕處理之后，剝離光刻膠，形成周邊走線的圖形。進(jìn)一步地，金屬材料具體可以為Mo或Al。[0077]S506、形成覆蓋觸控結(jié)構(gòu)200和周邊走線300的鈍化層500 ；
[0078]S507、翻轉(zhuǎn)襯底基板100 ；
[0079]S508、在襯底基板100的另一側(cè)形成包括屏蔽層400的圖形。
[0080]具體地，在具體實(shí)施時(shí)，采用旋涂法在襯底基板上涂覆黑色感光性樹脂光刻膠，然后經(jīng)過曝光、顯影和后烘處理后，形成屏蔽層的圖形。
[0081]具體地，經(jīng)過上述步驟S501至S508之后，得到本發(fā)明實(shí)施例所提供的如圖3所示的觸摸屏。
[0082]基于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示裝置，包括本發(fā)明實(shí)施例提供的上述觸摸屏，該顯示裝置可以為:手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。該顯示裝置的實(shí)施可以參見上述觸摸屏的實(shí)施例，重復(fù)之處不再贅述。
[0083]本發(fā)明實(shí)施例提供的一種觸摸屏、其制作方法及顯示裝置，由于觸控結(jié)構(gòu)和周邊走線位于襯底基板的一側(cè)，而屏蔽層位于襯底基板的另一側(cè)，即屏蔽層和觸控結(jié)構(gòu)分別位于襯底基板的兩側(cè)，因此當(dāng)該觸摸屏在采用濺射的方式在襯底基板的一側(cè)制作觸控結(jié)構(gòu)和周邊走線時(shí)，濺鍍腔中的等離子體不會(huì)對(duì)位于襯底基板另一側(cè)的屏蔽層產(chǎn)生轟擊，從而避免屏蔽層污染腔室。并且，由于屏蔽層位于襯底基板的另一側(cè)，因此與現(xiàn)有技術(shù)中觸控結(jié)構(gòu)和周邊走線是形成在屏蔽層的膜層上時(shí)相比，不會(huì)發(fā)生由于屏蔽層的不平坦而造成觸控結(jié)構(gòu)不平坦的問題，從而保證觸摸屏的質(zhì)量。
[0084]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種觸摸屏，包括襯底基板，位于所述觸摸屏的觸控區(qū)域的觸控結(jié)構(gòu)，以及位于所述觸摸屏的非觸控區(qū)域的且與所述觸控結(jié)構(gòu)電性連接的周邊走線和用于遮擋所述周邊走線的屏蔽層，其特征在于: 所述觸控結(jié)構(gòu)和所述周邊走線位于所述襯底基板的一側(cè)，所述屏蔽層位于所述襯底基板的另一側(cè)。
2.如權(quán)利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，所述觸控結(jié)構(gòu)具體包括:交叉而置且相互絕緣的觸控感應(yīng)電極和觸控驅(qū)動(dòng)電極，所述觸控感應(yīng)電極和觸控驅(qū)動(dòng)電極分別與對(duì)應(yīng)的周邊走線電性連接。
3.如權(quán)利要求2所述的觸摸屏，其特征在于，所述觸控感應(yīng)電極和觸控驅(qū)動(dòng)電極同層設(shè)置，所述觸控結(jié)構(gòu)還包括: 橋接相鄰的所述觸控驅(qū)動(dòng)電極或相鄰的所述觸控感應(yīng)電極的橋接層，以及 位于所述橋接層與同層設(shè)置的所述觸控感應(yīng)電極和所述觸控驅(qū)動(dòng)電極之間的絕緣層。
4.如權(quán)利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，還包括:位于所述襯底基板與所述觸控結(jié)構(gòu)之間的抗反射層。
5.如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的觸摸屏，其特征在于，還包括:覆蓋所述觸控結(jié)構(gòu)和所述周邊走線的鈍化層。
6.如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的觸摸屏，其特征在于，所述屏蔽層的材料為黑色感光性樹脂材料。
7.—種如權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的觸摸屏的制作方法，其特征在于，包括: 在襯底基板的一側(cè)形成包括電性連接的周邊走線與觸控結(jié)構(gòu)的圖形，在襯底基板的另一側(cè)形成包括屏蔽層的圖形；其中， 所述屏蔽層用于遮擋所述周邊走線，所述屏蔽層和所述周邊走線位于所述觸摸屏的非觸控區(qū)域，所述觸控結(jié)構(gòu)位于所述觸摸屏的觸控區(qū)域。
8.如權(quán)利要求7所述的制作方法，其特征在于: 在所述襯底基板的一側(cè)形成包括屏蔽層的圖形，翻轉(zhuǎn)所述襯底基板，在所述襯底基板的另一側(cè)形成包括電性連接的周邊走線與觸控結(jié)構(gòu)的圖形；或， 在所述襯底基板的一側(cè)形成包括電性連接的周邊走線與觸控結(jié)構(gòu)的圖形，翻轉(zhuǎn)所述襯底基板，在所述襯底基板的另一側(cè)形成包括屏蔽層的圖形。
9.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的觸摸屏。
【文檔編號(hào)】G06F3/041GK103914183SQ201410116726
【公開日】2014年7月9日 申請(qǐng)日期:2014年3月26日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月26日
【發(fā)明者】齊永蓮, 徐傳祥, 舒適 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司