用于對(duì)每點(diǎn)指派鑲嵌因子的鑲嵌方法和執(zhí)行該方法的設(shè)備的制作方法【專利摘要】本發(fā)明提供了由圖形處理器在圖形管線中鑲嵌表面的方法以及圖形處理設(shè)備、圖形處理器和圖形處理裝置。一種鑲嵌方法包括向面片中的多個(gè)點(diǎn)中的每一個(gè)指派鑲嵌因子，并且在多個(gè)點(diǎn)中的第一點(diǎn)的附近基于指派給第一點(diǎn)的第一鑲嵌因子來生成至少一個(gè)新點(diǎn)。至少一個(gè)第一新點(diǎn)對(duì)應(yīng)于第一點(diǎn)?！緦＠f明】用于對(duì)每點(diǎn)指派鑲嵌因子的鑲嵌方法和執(zhí)行該方法的設(shè)備[0001]相關(guān)專利申請(qǐng)的交叉引用[0002]本申請(qǐng)要求于2013年7月9日在韓國知識(shí)產(chǎn)權(quán)局遞交的韓國專利申請(qǐng)第10-2013-0080048號(hào)的優(yōu)先權(quán)，這里通過弓I用并入該韓國專利申請(qǐng)的公開內(nèi)容?！?br>技術(shù)領(lǐng)域：
】[0003]本發(fā)明構(gòu)思涉及鑲嵌(tessellat1n)，更具體而言涉及用于對(duì)每點(diǎn)指派鑲嵌因子(tessellat1nfactor)的方法和執(zhí)行該方法的設(shè)備?！?br>背景技術(shù)：
】[0004]在計(jì)算機(jī)圖形學(xué)中，鑲嵌用于管理呈現(xiàn)場景中的對(duì)象的數(shù)據(jù)集并將它們劃分成結(jié)構(gòu)來用于渲染。[0005]當(dāng)向每個(gè)面指派鑲嵌因子時(shí)，在具有不同鑲嵌因子的兩個(gè)面(例如，共享邊緣的面)之間可發(fā)生裂紋(crack)。[0006]為了防止這種裂紋，可向每個(gè)邊緣指派鑲嵌因子。然而，在具有不同鑲嵌因子的兩個(gè)面(例如，共享點(diǎn)的面)之間可發(fā)生另一種類型的裂紋。【
發(fā)明內(nèi)容】[0007]根據(jù)本發(fā)明的示范性實(shí)施例，提供了一種由圖形處理器在圖形管線中鑲嵌表面的方法。該方法包括向面片(patch)中的點(diǎn)中的每一個(gè)指派鑲嵌因子，并且在多個(gè)點(diǎn)中的第一點(diǎn)的附近基于指派給第一點(diǎn)的第一鑲嵌因子來生成至少一個(gè)第一新點(diǎn)。至少一個(gè)第一新點(diǎn)對(duì)應(yīng)于第一點(diǎn)。[0008]指派給每個(gè)點(diǎn)的鑲嵌因子可以是等于或大于零的整數(shù)，或者小數(shù)。[0009]第一點(diǎn)的附近可以是第一點(diǎn)、包括第一點(diǎn)的邊緣或者包括第一點(diǎn)的面。[0010]指派給每個(gè)點(diǎn)的鑲嵌因子可以是大于零的整數(shù)，或者小數(shù)。[0011]當(dāng)?shù)谝昏偳兑蜃邮菍?duì)不生成任何點(diǎn)的指示符或者是零時(shí)，可不生成至少一個(gè)第一新點(diǎn)。[0012]可在邊緣的一部分處生成至少一個(gè)第一新點(diǎn)，并且當(dāng)?shù)谝稽c(diǎn)和第二點(diǎn)共享邊緣時(shí)，在該邊緣的該部分處可不生成與指派給第二點(diǎn)的第二鑲嵌因子相對(duì)應(yīng)的第二新點(diǎn)。[0013]多個(gè)點(diǎn)中的每一個(gè)可表示包括位置和法向量中的至少一者的幾何數(shù)據(jù)。[0014]多個(gè)點(diǎn)中的每一個(gè)可表不具有包括位置、法向量和紋理坐標(biāo)在內(nèi)的屬性的頂點(diǎn)。[0015]表面可以是參數(shù)表面、細(xì)分表面、三角網(wǎng)格或者曲線。[0016]該方法還可包括生成包括至少一個(gè)第一新點(diǎn)與第一點(diǎn)之間的連通性關(guān)系的拓?fù)湫畔ⅲ⑶耶?dāng)發(fā)生裂紋時(shí)利用拓?fù)湫畔⑸芍辽僖粋€(gè)基元。[0017]鑲嵌因子可以是通過從外部源接收或者通過根據(jù)算法計(jì)算來獲得的。[0018]根據(jù)本發(fā)明的示范性實(shí)施例，提供了一種圖形處理設(shè)備。該設(shè)備包括外殼著色器(Hullshader)和鑲嵌器。外殼著色器被配置為向面片中的多個(gè)點(diǎn)中的每一個(gè)指派鑲嵌因子。鑲嵌器被配置為在多個(gè)點(diǎn)中的第一點(diǎn)的附近基于指派給第一點(diǎn)的第一鑲嵌因子來生成至少一個(gè)第一新點(diǎn)。[0019]根據(jù)本發(fā)明的示范性實(shí)施例，提供了一種圖形處理器。該圖形處理器被配置為向面片中的多個(gè)點(diǎn)中的每一個(gè)指派鑲嵌因子并且基于指派給第一點(diǎn)的第一鑲嵌因子來生成至少一個(gè)第一新點(diǎn)。[0020]根據(jù)本發(fā)明的示范性實(shí)施例，提供了一種圖形處理裝置。該裝置包括圖形處理器和顯示器。顯示器被配置為顯示經(jīng)圖形處理器處理的信號(hào)。圖形處理器包括外殼著色器和鑲嵌器。外殼著色器被配置為向面片中的多個(gè)點(diǎn)中的每一個(gè)指派鑲嵌因子。鑲嵌器被配置為在多個(gè)點(diǎn)中的第一點(diǎn)的附近基于指派給第一點(diǎn)的第一鑲嵌因子來生成至少一個(gè)第一新點(diǎn)。至少一個(gè)第一新點(diǎn)對(duì)應(yīng)于第一點(diǎn)。[0021]根據(jù)本發(fā)明的示范性實(shí)施例，提供了一種由圖形處理器在圖形管線中鑲嵌表面的方法。該方法包括向面片中的多個(gè)點(diǎn)中的每一個(gè)指派鑲嵌因子，并且在多個(gè)點(diǎn)中的第一點(diǎn)的附近基于指派給第一點(diǎn)的第一鑲嵌因子來生成至少一個(gè)第一新點(diǎn)，并且將至少一個(gè)第一新點(diǎn)的坐標(biāo)和拓?fù)湫畔⑤敵龅接蛑?domainshader)。至少一個(gè)第一新點(diǎn)的數(shù)目對(duì)應(yīng)于第一鑲嵌因子，并且至少一個(gè)第一新點(diǎn)對(duì)應(yīng)于第一點(diǎn)。【專利附圖】【附圖說明】[0022]本發(fā)明構(gòu)思的上述方面將通過結(jié)合附圖詳細(xì)描述其示范性實(shí)施例來變得清楚且更容易領(lǐng)會(huì)，附圖中:[0023]圖1是根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例的電子系統(tǒng)的框圖；[0024]圖2是圖1中所圖示的圖形處理單元(graphicprocessingunit,GPU)的管線的示范性實(shí)施例；[0025]圖3是用于描述根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例的外殼著色器和鑲嵌器的操作的圖；[0026]圖4是用于描述對(duì)每點(diǎn)計(jì)算鑲嵌因子的方法的圖；[0027]圖5和圖6是存儲(chǔ)對(duì)每點(diǎn)指派的鑲嵌因子的存儲(chǔ)器；[0028]圖7是用于描述根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例的外殼著色器和鑲嵌器的操作的圖；[0029]圖8至圖12是用于描述根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例的外殼著色器和鑲嵌器的操作的圖；[0030]圖13A和圖13B是用于描述跟蹤曲線變化的示例的圖；圖13A是當(dāng)使用作為比較示例的對(duì)每個(gè)邊緣指派鑲嵌因子的方法時(shí)的圖，并且圖13B是當(dāng)使用根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例的對(duì)每點(diǎn)指派鑲嵌因子的方法時(shí)的圖；并且[0031]圖14是用于描述根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例的外殼著色器和鑲嵌器的操作的流程圖?！揪唧w實(shí)施方式】[0032]現(xiàn)在于下文中將參考附圖更充分描述本發(fā)明構(gòu)思，附圖中示出了本發(fā)明的實(shí)施例。然而，本發(fā)明可以以許多不同的形式具體實(shí)現(xiàn)，而不應(yīng)當(dāng)被解釋為限于本文記載的實(shí)施例。更確切地說，提供這些實(shí)施例是為了使得本公開將會(huì)透徹且完整，并且將會(huì)把本發(fā)明的范圍充分傳達(dá)給本領(lǐng)域技術(shù)人員。在附圖中，為了清晰起見，可能夸大層和區(qū)域的大小和相對(duì)大小。同樣的標(biāo)號(hào)始終可指代同樣的元素。[0033]圖1是根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例的電子系統(tǒng)的框圖。參考圖1，電子系統(tǒng)100可包括處理設(shè)備110和輸入/輸出設(shè)備130。[0034]電子系統(tǒng)100可以以個(gè)人計(jì)算機(jī)(personalcomputer,PC)、二維TV、三維TV、便攜式電子設(shè)備等具體實(shí)現(xiàn)。便攜式電子設(shè)備可以以膝上型計(jì)算機(jī)、智能電話、平板PC、個(gè)人數(shù)字助理(personaldigitalassistant,PDA)、便攜式媒體播放器(portablemultimediaplayer,PMP)、手持式游戲機(jī)、移動(dòng)互聯(lián)網(wǎng)設(shè)備(mobileinternetdevice,MID)等具體實(shí)現(xiàn)。[0035]處理設(shè)備110可以以印刷電路板(printedcircuitboard,PCB)、片上系統(tǒng)(systemonchip,SoC)、應(yīng)用處理器等具體實(shí)現(xiàn)。[0036]處理設(shè)備110包括總線111、中央處理單兀(centralprocessingunit,CPU)113、圖形處理單元(graphicsprocessingunit,GPU)115、存儲(chǔ)器控制器117、存儲(chǔ)器119和輸入/輸出接口121。[0037]CPU113可通過總線111控制GPU115、存儲(chǔ)器控制器117和輸入/輸出接口121。CPUl13可執(zhí)行應(yīng)用，例如諸如3D游戲之類的3D應(yīng)用。[0038]隨著3D應(yīng)用被執(zhí)行，3D應(yīng)用輸出3D應(yīng)用編程接口(applicat1nprogramminginterface,API)命令。根據(jù)3DAPI命令，可以執(zhí)行應(yīng)用中使用的3DAPI，例如OpenGL?或Direct3D?,以渲染3D計(jì)算機(jī)圖形。[0039]GPUl15可根據(jù)CPU113的控制來處理與計(jì)算機(jī)圖形相關(guān)的數(shù)據(jù)流。GPU115是包括圖形管線的圖形處理器的示例。[0040]GPUl15可向每個(gè)點(diǎn)指派每個(gè)鑲嵌因子并且可在每個(gè)點(diǎn)的附近生成新點(diǎn)(例如，鑲嵌點(diǎn)TDP)。例如,相應(yīng)點(diǎn)的附近可包括點(diǎn)當(dāng)中的相應(yīng)點(diǎn)、包括該相應(yīng)點(diǎn)的面或者包括該相應(yīng)點(diǎn)的邊緣。另外，GPU115可利用點(diǎn)和(一個(gè)或多個(gè))新點(diǎn)來生成(一個(gè)或多個(gè))基元模式(primitivepattern)。(一個(gè)或多個(gè))新點(diǎn)可基于向點(diǎn)指派的鑲嵌因子來生成。[0041]在本發(fā)明構(gòu)思中，(一個(gè)或多個(gè))新點(diǎn)指的是一個(gè)或多個(gè)新點(diǎn)，(一個(gè)或多個(gè))基元模式指的是基元模式，并且(一個(gè)或多個(gè))鑲嵌點(diǎn)指的是一個(gè)或多個(gè)鑲嵌點(diǎn)。[0042]例如，當(dāng)向特定點(diǎn)指派的特定鑲嵌因子是對(duì)不生成任何點(diǎn)的指示符一例如零值——時(shí)，在該特定點(diǎn)的附近將不生成(一個(gè)或多個(gè))新點(diǎn)。[0043]本發(fā)明構(gòu)思中的點(diǎn)可表示輸入面片中包括的頂點(diǎn)或者輸入控制點(diǎn)ICP。輸入面片可表示方形面片、三角面片或者等值線。[0044]存儲(chǔ)器控制器117可在CPUl13或GPUl15的控制下向存儲(chǔ)器119寫入數(shù)據(jù)或從存儲(chǔ)器119讀取數(shù)據(jù)。[0045]存儲(chǔ)器119可存儲(chǔ)CPU113或GPU115中要處理的(或者已經(jīng)處理的)數(shù)據(jù)，并且可以以易失性存儲(chǔ)器和/或非易失性存儲(chǔ)器具體實(shí)現(xiàn)。[0046]存儲(chǔ)器119可存儲(chǔ)操作系統(tǒng)(operatingsystem,OS)、應(yīng)用程序、其它程序模塊和/或程序數(shù)據(jù)。根據(jù)示范性實(shí)施例，存儲(chǔ)器119可用作系統(tǒng)存儲(chǔ)器。[0047]此外，存儲(chǔ)器119可存儲(chǔ)用于根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例對(duì)每點(diǎn)指派鑲嵌因子的API。[0048]在圖1中，圖示出存儲(chǔ)器119被嵌入在處理設(shè)備110中。然而，存儲(chǔ)器119可具體實(shí)現(xiàn)在處理設(shè)備110外部，并且本發(fā)明構(gòu)思不限于此。[0049]在處理設(shè)備110外部具體實(shí)現(xiàn)的存儲(chǔ)器119可以以動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(dynamicrandomaccessmemory,DRAM)、硬盤驅(qū)動(dòng)器(harddiskdrive,HDD)、固態(tài)驅(qū)動(dòng)器(solidstatedrive,SSD)、可移除存儲(chǔ)介質(zhì)、不可移除存儲(chǔ)介質(zhì)等具體實(shí)現(xiàn)。例如，在外部具體實(shí)現(xiàn)的存儲(chǔ)器119可以以通用閃存(universalflashstorage,UFS)、嵌入式多媒體卡(embeddedmultimediacard,eMMC)、通用串行總線(universalserialbus,USB)閃盤驅(qū)動(dòng)器等具體實(shí)現(xiàn)。[0050]處理設(shè)備110可通過輸入/輸出接口121與輸入/輸出設(shè)備130通信。輸入/輸出設(shè)備130可以以可顯示計(jì)算機(jī)圖形的平板顯示器具體實(shí)現(xiàn)。平板顯示器可顯示經(jīng)GPUl15處理的信號(hào)。[0051]圖2是圖1中所圖示的圖形處理單元的管線的示范性實(shí)施例。階段115-1、115_2和115-5至115-10的功能和操作與Microsoft?Direct3D?lI的圖形管線中包括的具有相同名稱的那些階段基本相同。因此，省略對(duì)階段115-1、115-2和115-5至115-10的詳細(xì)描述。以下，將參考圖2更詳細(xì)地描述根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例的階段115-3A/115-3B和115-4A。[0052]參考圖2，階段115-3A/115-3B和115-4A可在各種圖形管線中用于對(duì)每點(diǎn)指派鑲嵌因子并且利用對(duì)每點(diǎn)指派的鑲嵌因子來執(zhí)行鑲嵌操作。[0053]圖2的存儲(chǔ)器資源可以是存儲(chǔ)器119或者可被GPUl15訪問的額外存儲(chǔ)器(未示出)。[0054]圖3是用于描述根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例的外殼著色器和鑲嵌器的操作的圖。[0055]參考圖2和圖3，外殼著色器115-3A可計(jì)算要指派給每個(gè)輸入點(diǎn)ICP(例如，輸入頂點(diǎn)或輸入控制點(diǎn))的鑲嵌因子(201)。[0056]鑲嵌因子表示細(xì)節(jié)層次(levelofdetail,L0D)，并且可以是整數(shù)、小數(shù)或者純小數(shù)。鑲嵌因子可以是非零的整數(shù)。[0057]在外殼著色器115-3A中，可利用各種算法來計(jì)算鑲嵌因子。各種算法之一可包括深度比較算法。例如，根據(jù)用戶定義的標(biāo)準(zhǔn)或用戶定義的算法，可以向接近用戶的虛擬眼的點(diǎn)設(shè)定大鑲嵌因子，并且可向遠(yuǎn)離虛擬眼的點(diǎn)設(shè)定小鑲嵌因子。[0058]參考圖4，外殼著色器115-3A在點(diǎn)Pdl的深度值小于第一參考深度值UDl時(shí)可將鑲嵌因子TF設(shè)定為2，在點(diǎn)Pd2的深度值存在于第一參考深度值UDl與第二參考深度值UD2之間時(shí)可將鑲嵌因子TF設(shè)定為1，并且在點(diǎn)Pd3的深度值大于第二參考深度值UD2時(shí)可將鑲嵌因子TF設(shè)定為O。例如，點(diǎn)Pdl、Pd2和Pd3中的每一個(gè)可以是虛擬點(diǎn)。[0059]各種算法中的另一種是曲率比較算法。可利用各種方法來計(jì)算曲率。[0060]最終對(duì)每點(diǎn)指派由外殼著色器115-3A計(jì)算出的鑲嵌因子(203)。指派操作是在鑲嵌表面的鑲嵌過程期間執(zhí)行的。[0061]表面包括參數(shù)表面、細(xì)分表面、三角網(wǎng)格或者曲線。逼真三維對(duì)象的外觀可利用表面來表示。[0062]可對(duì)每個(gè)邊緣指派相關(guān)技術(shù)中的鑲嵌因子。根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例，對(duì)每個(gè)點(diǎn)指派鑲嵌因子。例如，在相關(guān)技術(shù)中可對(duì)每個(gè)邊緣指派一個(gè)鑲嵌因子。在本發(fā)明構(gòu)思中可對(duì)每個(gè)邊緣指派兩個(gè)鑲嵌因子。從而，與對(duì)每個(gè)邊緣或面指派鑲嵌因子的方法相比，根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例的鑲嵌方法可執(zhí)行更精確且適應(yīng)性的鑲嵌。[0063]根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例，從外殼著色器115-3A輸出的輸出點(diǎn)OCP和各自指派給每個(gè)輸出點(diǎn)OCP的鑲嵌因子TF可被提供給鑲嵌器115-4A。輸出點(diǎn)OCP可以是頂點(diǎn)或控制點(diǎn)。[0064]外殼著色器115-3A可將一組輸入點(diǎn)ICP變換成一組輸出點(diǎn)0CP。根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的不范性實(shí)施例，每個(gè)輸入點(diǎn)ICP可對(duì)應(yīng)于每個(gè)輸出點(diǎn)0CP。另外,輸入點(diǎn)ICP的數(shù)目和輸出點(diǎn)OCP的數(shù)目可以彼此相同?？商鎿Q地，輸入點(diǎn)ICP的數(shù)目和輸出點(diǎn)OCP的數(shù)目可以彼此不相同。例如，可根據(jù)在外殼著色器115-3A中編程的方式來改變輸出點(diǎn)OCP的數(shù)目。[0065]為了便于描述，假定輸入點(diǎn)ICP的數(shù)目與輸出點(diǎn)OCP的數(shù)目相同。然而，本發(fā)明構(gòu)思也可應(yīng)用到輸入點(diǎn)ICP的數(shù)目不同于輸出點(diǎn)OCP的數(shù)目的情況。從而，根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例的面片中包括的點(diǎn)被解讀為輸入點(diǎn)ICP或輸出點(diǎn)0CP。[0066]返回參考圖2，外殼著色器115-3A可將輸出點(diǎn)OCP和面片常數(shù)數(shù)據(jù)輸出到域著色器115-5。面片常數(shù)數(shù)據(jù)可包括對(duì)每點(diǎn)指派的鑲嵌因子和與鑲嵌管線中使用的面片方程相關(guān)的值。[0067]鑲嵌管線包括外殼著色器(或者外殼著色器階段)115-3A或115-3B、鑲嵌器(或者鑲嵌器階段)115-4A和域著色器(或者域著色器階段)115-5。[0068]例如，面片方程可以是曲線方程、表面方程等等。例如，曲線方程可以是埃爾米特曲線(Hermitecurve)方程、貝塞爾曲線(Beziercurve)方程、NURBS曲線方程、B樣條曲線(B-splinecurve)方程等等。[0069]與面片方程相關(guān)的值可以是面片方程中的系數(shù)。[0070]外殼著色器115-3A可根據(jù)編程的標(biāo)準(zhǔn)針對(duì)輸入點(diǎn)ICP生成輸出值(例如，鑲嵌因子TF和輸出點(diǎn)0CP)。例如，輸出值可包括與輸入點(diǎn)ICP相對(duì)應(yīng)的面片方程、輸出點(diǎn)0CP、或者向點(diǎn)ICP和OCP中的每一個(gè)指派的每個(gè)鑲嵌因子TF。[0071]外殼著色器115-3A的所生成的輸出值可被輸出到鑲嵌器115-4A。[0072]根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例，在對(duì)每個(gè)點(diǎn)執(zhí)行鑲嵌過程之前，向每個(gè)點(diǎn)(例如，輸入點(diǎn)ICP或輸出點(diǎn)0CP)指派的鑲嵌因子可根據(jù)GPU115和存儲(chǔ)器控制器117的控制被預(yù)先存儲(chǔ)在第一存儲(chǔ)器區(qū)域119-1中。在此情況下，存儲(chǔ)在第一存儲(chǔ)器區(qū)域119-1中的向每個(gè)點(diǎn)ICP或OCP指派的每個(gè)鑲嵌因子可被提供給鑲嵌器115-4A。[0073]如圖5中所圖示的，向每個(gè)輸出點(diǎn)OCP指派的或者要向每個(gè)輸出點(diǎn)OCP指派的鑲嵌因子可被存儲(chǔ)在存儲(chǔ)每個(gè)輸出點(diǎn)OCP的屬性的第一存儲(chǔ)器區(qū)域119-1中。例如，與每個(gè)輸出點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的每個(gè)頂點(diǎn)VertexO至Vertex3的屬性包括每個(gè)位置PSTO至PST3、每個(gè)顏色CLRO至CLR3、每個(gè)法向量N0RMAL0至N0RMAL3、每個(gè)紋理坐標(biāo)Tex_coord0至Tex_coord3以及每個(gè)鑲嵌因子TH)至TF3。[0074]每個(gè)顏色CLRO至CLR3可以是RGB數(shù)據(jù)、YUV數(shù)據(jù)、YCbCr數(shù)據(jù)或者YCoCg數(shù)據(jù)。每個(gè)輸出點(diǎn)可指示包括位置或法向量的幾何數(shù)據(jù)。此外，每個(gè)輸出點(diǎn)可指示具有包括三維圖形管線中的位置、法向量或紋理坐標(biāo)在內(nèi)的屬性的頂點(diǎn)。[0075]如圖6中所圖示的，向每個(gè)輸出點(diǎn)OCP指派的或者要向每個(gè)輸出點(diǎn)OCP指派的鑲嵌因子可被存儲(chǔ)在第二存儲(chǔ)器區(qū)域119-2中，第二存儲(chǔ)器區(qū)域119-2不同于存儲(chǔ)每個(gè)輸出點(diǎn)OCP的屬性的第一存儲(chǔ)器區(qū)域119-1。[0076]參考圖3，鑲嵌器115-4A可通過利用輸出點(diǎn)OCP和向每個(gè)輸出點(diǎn)OCP指派的鑲嵌因子來生成與每個(gè)輸出點(diǎn)OCP相對(duì)應(yīng)的(一個(gè)或多個(gè))新點(diǎn)(205)。[0077]鑲嵌器115-4A可利用輸出點(diǎn)OCP和/或所生成的新點(diǎn)來生成基元模式，并且在發(fā)生裂紋時(shí)可執(zhí)行縫合過程以去除裂紋(207)。[0078]鑲嵌器115-4A可將基元模式和拓?fù)湫畔I輸出到域著色器115_5?；Ｊ娇砂ㄨ偳队螯c(diǎn)TDP(例如,鑲嵌域點(diǎn)或新點(diǎn))的UV坐標(biāo)(或UVW坐標(biāo))并且拓?fù)湫畔I可定義UV坐標(biāo)(或UVW坐標(biāo))之間的連通性關(guān)系。根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例，輸出點(diǎn)OCP可與基元模式一起被發(fā)送到域著色器115-5。[0079]圖7是用于描述根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例的外殼著色器和鑲嵌器的操作的圖。[0080]參考圖2和圖7，外殼著色器115-3B可接收輸入點(diǎn)ICP和鑲嵌因子TF，并且可將每個(gè)鑲嵌因子TF指派到每個(gè)輸出點(diǎn)0CP(203A)。[0081]返回參考圖7,鑲嵌器115-4A可通過利用從外殼著色器115-3B輸出的每個(gè)輸出點(diǎn)OCP和向每個(gè)輸出點(diǎn)OCP指派的鑲嵌因子來生成與每個(gè)輸出點(diǎn)OCP相對(duì)應(yīng)的一個(gè)或多個(gè)新點(diǎn)。[0082]鑲嵌器115-4A可通過利用每個(gè)輸出點(diǎn)OCP和每個(gè)所生成的新點(diǎn)來生成基元模式，并且可在發(fā)生裂紋時(shí)執(zhí)行縫合過程以去除裂紋(207)。[0083]鑲嵌器115-4A可將基元模式和拓?fù)湫畔I發(fā)送到域著色器115_5?；Ｊ娇砂ㄨ偳镀?15-4A鑲嵌的域點(diǎn)TDP的UV坐標(biāo)(或UVW坐標(biāo))并且拓?fù)湫畔I可定義UV坐標(biāo)(或UVW坐標(biāo))之間的連通性關(guān)系。根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例，輸出點(diǎn)OCP可與基兀模式一起被發(fā)送到域著色器115-5。[0084]當(dāng)包括輸入點(diǎn)ICP的輸入面片被包括在參數(shù)表面中時(shí)，鑲嵌器115-4可通過利用每個(gè)輸出點(diǎn)OCP和向每個(gè)輸出點(diǎn)OCP指派的每個(gè)鑲嵌因子來生成鑲嵌域點(diǎn)TDP。[0085]當(dāng)包括輸入點(diǎn)ICP的輸入面片被包括在細(xì)分表面或三角網(wǎng)格中時(shí)，鑲嵌器115-4可利用每個(gè)輸出點(diǎn)OCP和向每個(gè)輸出點(diǎn)OCP指派的每個(gè)鑲嵌因子來細(xì)化每個(gè)基本網(wǎng)格。[0086]圖8至圖12是用于描述根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例的外殼著色器和鑲嵌器的操作的圖。[0087]參考圖1至圖3、圖7和圖8，外殼著色器115-3A或115-3B接收第一至第三輸入點(diǎn)P1、P2和P3。例如，第一至第三輸入點(diǎn)P1、P2和P3可被包括在輸入面片或輸入基元中。[0088]如上所述，由于假定每個(gè)輸出點(diǎn)OCP對(duì)應(yīng)于每個(gè)輸入點(diǎn)ICP，因此在下文中，“點(diǎn)”指的是輸入點(diǎn)或輸出點(diǎn)。[0089]如圖3和圖8A中所圖示的，外殼著色器115-3A可通過利用各種算法針對(duì)點(diǎn)P1、P2和P3中的每一個(gè)計(jì)算鑲嵌因子TF1、TF2和TF3，并且可將鑲嵌因子TF1、TF2和TF3中的每一個(gè)指派給點(diǎn)P1、P2和P3中的每一個(gè)。[0090]如圖7和圖8A中所圖示的，外殼著色器115-3B可從外部設(shè)備(例如，存儲(chǔ)器119)接收針對(duì)點(diǎn)P1、P2和P3中的每一個(gè)的鑲嵌因子TF1、TF2和TF3，并且可將鑲嵌因子TF1、TF2和TF3中的每一個(gè)指派給點(diǎn)P1、P2和P3中的每一個(gè)。[0091]例如，外殼著色器115-3A或115-3B可將第一鑲嵌因子TF1(=I)指派給第一點(diǎn)P1，將第二鑲嵌因子TF2(=2)指派給第二點(diǎn)P2，并且將第三鑲嵌因子TF3(=0)指派給第三點(diǎn)P3。[0092]如圖8B中所圖示的，鑲嵌器115-4A從外殼著色器115-3A或115-3B接收點(diǎn)P1、P2和P3以及鑲嵌因子TF1、TF2和TF3。[0093]鑲嵌器115-4A可在點(diǎn)P1、P2和P3中的每一個(gè)的附近生成(一個(gè)或多個(gè))新點(diǎn)(例如，(一個(gè)或多個(gè))鑲嵌點(diǎn))。(一個(gè)或多個(gè))新點(diǎn)可對(duì)應(yīng)于鑲嵌因子TFl、TF2和TF3中的每一個(gè)。點(diǎn)PUP2和P3中的每一個(gè)的“附近”，例如第一點(diǎn)Pl的“附近”，可以是第一點(diǎn)Pl自身、包括第一點(diǎn)Pl的邊緣(例如，EGl或EG2)或者包括第一點(diǎn)Pl的面。[0094]例如，當(dāng)具有不是O的特定值(例如，正整數(shù)或小數(shù))的鑲嵌因子被指派給特定點(diǎn)時(shí)，鑲嵌器115-4A可根據(jù)在鑲嵌器115-4A中編程的程序來生成具有與該特定值相同的數(shù)目的(一個(gè)或多個(gè))新點(diǎn)或者具有與該特定值不同的數(shù)目的(一個(gè)或多個(gè))新點(diǎn)。[0095]例如，當(dāng)向特定點(diǎn)指派的鑲嵌因子是N(等于或大于2的正整數(shù))時(shí)，鑲嵌器115-4A可根據(jù)在鑲嵌器115-4A中編程的程序生成N個(gè)新點(diǎn)，這是與鑲嵌因子的特定值相同的數(shù)目。可替換地，鑲嵌器115-4A可根據(jù)在鑲嵌器115-4A中編程的程序生成2N個(gè)新點(diǎn)，或者(N-1)個(gè)新點(diǎn),這是與特定值不同的數(shù)目。[0096]當(dāng)點(diǎn)P1、P2和P3中的每一個(gè)被包括在參數(shù)表面的面片中時(shí)，鑲嵌器115-4A可生成與各自指派給點(diǎn)P1、P2和P3中的每一個(gè)的鑲嵌因子TF1、TF2和TF3相對(duì)應(yīng)的(一個(gè)或多個(gè))鑲嵌域點(diǎn)。[0097]當(dāng)點(diǎn)P1、P2和P3中的每一個(gè)被包括在細(xì)分表面的面片或者三角網(wǎng)格的面片中時(shí)，鑲嵌器115-4A可利用鑲嵌因子TF1、TF2和TF3來細(xì)化每個(gè)基本網(wǎng)格。[0098]為了便于描述，假定鑲嵌器115-4A按第一點(diǎn)P1、第二點(diǎn)P2和第三點(diǎn)P3的順序生成(一個(gè)或多個(gè))新點(diǎn)。然而，該順序可根據(jù)實(shí)施例而改變。[0099]例如，鑲嵌器115-4A可通過利用指派給第一點(diǎn)Pl的第一鑲嵌因子TFl(=I)在第一邊緣EGl的中點(diǎn)處生成第一新點(diǎn)NPl并且在第二邊緣EG2的中點(diǎn)處生成第二新點(diǎn)NP2。[0100]鑲嵌器115-4A可通過利用指派給第二點(diǎn)P2的第二鑲嵌因子TF2(=2)在新點(diǎn)NPl和第二點(diǎn)P2的中點(diǎn)處生成第三新點(diǎn)NP3，在第三邊緣EG3的中點(diǎn)處生成第四新點(diǎn)NP4，并且在第四新點(diǎn)NP4和第二點(diǎn)P2的中點(diǎn)處生成第五新點(diǎn)NP5。[0101]例如，針對(duì)當(dāng)前點(diǎn)(例如，第二點(diǎn)P2)的新點(diǎn)(例如，NPl和NP3)可包括通過利用指派給先前點(diǎn)(例如，第一點(diǎn)Pl)的第一鑲嵌因子TFl生成的點(diǎn)NP1。例如，新點(diǎn)NPl可以是通過利用第一鑲嵌因子TFl(=I)生成的點(diǎn)并且可以是通過利用第二鑲嵌因子TF2(=2)生成的點(diǎn)。[0102]當(dāng)先前點(diǎn)(例如，第一點(diǎn)Pl)和當(dāng)前點(diǎn)(例如，第二點(diǎn)P2)共享第一邊緣EGl時(shí)，與指派給先前點(diǎn)(例如，第一點(diǎn)Pl)的第一鑲嵌因子TF1(=I)相對(duì)應(yīng)的第一新點(diǎn)NPl可在第一邊緣EGl的一部分處生成，并且與指派給當(dāng)前點(diǎn)(例如，第二點(diǎn)P2)的第二鑲嵌因子TF2(=2)相對(duì)應(yīng)的新點(diǎn)(例如，NPl和NP3)可在第一邊緣EGl的其余部分處生成。[0103]這里，當(dāng)已經(jīng)生成了針對(duì)先前點(diǎn)(例如，第一點(diǎn)Pl)的新點(diǎn)NPl時(shí)，鑲嵌器115-4A可不為當(dāng)前點(diǎn)P2重復(fù)生成該新點(diǎn)(例如，NPl)。[0104]當(dāng)生成了每個(gè)邊緣EG1、EG2和EG3處的(一個(gè)或多個(gè))新點(diǎn)時(shí)，鑲嵌器115-4A可生成描繪點(diǎn)P1、P2和P3和/或新點(diǎn)NPl至NP5之間的連通性關(guān)系的連通性信息(例如，拓?fù)湫畔?。在縫合過程中可使用連通性信息。[0105]如圖SC中所圖示的，鑲嵌器115-4A可基于所生成的連通性信息來生成基元模式或基元。這里，當(dāng)生成(或發(fā)生)裂紋時(shí)，鑲嵌器115-4A可生成基元來去除裂紋。例如，基元可包括所生成的新點(diǎn)(例如，NP1、NP2和NP4)。[0106]如圖3和圖9A中所圖示的，外殼著色器115-3A可利用各種算法針對(duì)點(diǎn)P11、P12、P13和P14中的每一個(gè)計(jì)算鑲嵌因子TF1、TF2、TF3和TF4，并且可將鑲嵌因子TF1、TF2、TF3和TF4中的每一個(gè)指派給點(diǎn)P11、P12、P13和P14中的每一個(gè)。[0107]如圖7和圖9A中所圖示的，外殼著色器115-3B可從外部接收針對(duì)每個(gè)點(diǎn)P11、P12、P13和P14的鑲嵌因子TFUTF2、TF3和TF4,并且可將鑲嵌因子TFUTF2、TF3和TF4中的每一個(gè)指派給點(diǎn)P11、P12、P13和P14中的每一個(gè)。[0108]例如，外殼著色器115-3A將第一鑲嵌因子TF1(=O)指派給第一點(diǎn)P11，將第二鑲嵌因子TF2(=I)指派給第二點(diǎn)P12，將第三鑲嵌因子TF3(=O)指派給第三點(diǎn)P13，并將第四鑲嵌因子TF4(=0)指派給第四點(diǎn)P14。[0109]如圖9B中所圖示的，鑲嵌器115-4A從外殼著色器115-3A或115-3B接收點(diǎn)P11、P12、P13和P14以及鑲嵌因子TF1、TF2、TF3和TF4。[0110]由于第一鑲嵌因子TFl(=O)被指派給第一點(diǎn)Pll，因此鑲嵌器115-4A不在第一點(diǎn)Pll的附近生成(一個(gè)或多個(gè))新點(diǎn)。[0111]鑲嵌器115-4A可在第二點(diǎn)P12的附近生成與指派給點(diǎn)P12的鑲嵌因子(TF2=I)相對(duì)應(yīng)的(一個(gè)或多個(gè))新點(diǎn)。為了便于描述，假定鑲嵌器115-4A按第一點(diǎn)PU、第二點(diǎn)P12、第三點(diǎn)P13和第四點(diǎn)P14的順序生成(一個(gè)或多個(gè))新點(diǎn)。然而，該順序可根據(jù)實(shí)施例而改變。[0112]例如，鑲嵌器115-4A可通過利用指派給第二點(diǎn)P12的第二鑲嵌因子TF2(=I)在第一邊緣EGll的中點(diǎn)處生成新點(diǎn)NP11，在第二邊緣EG12的中點(diǎn)處生成新點(diǎn)NP12，并且在包括第二點(diǎn)P12的表面FACEll的中心處生成新點(diǎn)NP13。[0113]例如，鑲嵌器115-4A可通過利用指派給第二點(diǎn)P12的第二鑲嵌因子TF2(=I)在第二點(diǎn)P12的附近(例如，EG11、EG12和FACE11)生成三個(gè)新點(diǎn)NP11、NP12和NP13。[0114]當(dāng)在第二點(diǎn)P12的附近(例如，EG11、EG12和FACE11)的附近生成三個(gè)新點(diǎn)NP11、NP12和NP13時(shí)，鑲嵌器115-4A生成描繪點(diǎn)P11、P12、P13和P14和/或新點(diǎn)NP1UNP12和NP13之間的連通性關(guān)系的連通性信息(例如，拓?fù)湫畔?。[0115]如圖9C中所圖示的，鑲嵌器115-4A可基于所生成的連通性信息來生成基元。例如，當(dāng)生成四個(gè)裂紋時(shí)，鑲嵌器115-4A可生成四個(gè)基元來去除(或防止)所述四個(gè)裂紋。所述四個(gè)基元由實(shí)線表示。[0116]如圖3和圖1OA中所圖示的，外殼著色器115-3A可通過利用各種算法針對(duì)點(diǎn)P21、P22、P23和P24中的每一個(gè)計(jì)算鑲嵌因子TF1、TF2、TF3和TF4，并且可將鑲嵌因子TF1、TF2、TF3和TF4中的每一個(gè)指派給點(diǎn)P21、P22、P23和P24中的每一個(gè)。[0117]如圖7和圖1OA中所圖示的，外殼著色器115-3B可從外部接收針對(duì)點(diǎn)P21、P22、P23和P24中的每一個(gè)的鑲嵌因子TF1、TF2、TF3和TF4，并且可將鑲嵌因子TF1、TF2、TF3和TF4中的每一個(gè)指派給點(diǎn)P21、P22、P23和P24中的每一個(gè)。[0118]例如，外殼著色器115-3A或115-3B將第一鑲嵌因子TFl(=I)指派給第一點(diǎn)P21，將第二鑲嵌因子TF2(=I)指派給第二點(diǎn)P22，將第三鑲嵌因子TF3(=O)指派給第三點(diǎn)P23，并將第四鑲嵌因子TF4(=O)指派給第四點(diǎn)P24。[0119]如圖1OB中所圖示的，鑲嵌器115-4A從外殼著色器115-3A或115-3B接收點(diǎn)P21、P22、P23和P24以及指派給點(diǎn)P21、P22、P23和P24中的每一個(gè)的鑲嵌因子TF1、TF2、TF3和TF4。[0120]鑲嵌器115-4A可在第一點(diǎn)P21的附近生成與指派給點(diǎn)P21的第一鑲嵌因子(TFl=D相對(duì)應(yīng)的(一個(gè)或多個(gè))新點(diǎn)。[0121]為了便于描述，假定鑲嵌器115-4A按第一點(diǎn)P21、第二點(diǎn)P22、第三點(diǎn)P23和第四點(diǎn)P24的順序生成(一個(gè)或多個(gè))新點(diǎn)。然而，該順序可根據(jù)實(shí)施例而改變。[0122]例如，鑲嵌器115-4A在第一邊緣EG21的中點(diǎn)處生成新點(diǎn)NP21，在第二邊緣EG22的中點(diǎn)處生成新點(diǎn)NP22，并且在包括第一點(diǎn)P21的面FACE21的中心處生成新點(diǎn)NP23。[0123]鑲嵌器115-4A可通過利用指派給第二點(diǎn)P22的第二鑲嵌因子TF2(=I)在第三邊緣EG23的中點(diǎn)處生成新點(diǎn)NP24。在此情況下，由于已經(jīng)在第一邊緣EG21的中點(diǎn)處生成了新點(diǎn)NP21并且已經(jīng)在面FACE21的中心處生成了新點(diǎn)NP23，因此鑲嵌器115-4A可不在第一邊緣EG21和面FACE21中的每一者處生成(一個(gè)或多個(gè))新點(diǎn)。[0124]鑲嵌器115-4A不生成與指派給第三點(diǎn)P23的第三鑲嵌因子TF3(=O)相對(duì)應(yīng)的新點(diǎn)或者與指派給第四點(diǎn)P24相對(duì)應(yīng)的第四鑲嵌因子TF4(=O)相對(duì)應(yīng)的新點(diǎn)。[0125]當(dāng)在點(diǎn)P21和P22的附近(例如，EG21、EG22、EG23和FACE21)生成新點(diǎn)NP21、NP22、NP23和NP24時(shí)，鑲嵌器115-4A生成描繪點(diǎn)P21、P22、P23和P24和/或新點(diǎn)NP21、NP22、NP23和NP24之間的連通性關(guān)系的連通性信息(例如，拓?fù)湫畔?。[0126]如圖1OC中所圖示的，鑲嵌器115-4A可基于所生成的連通性信息來生成基元。例如，當(dāng)發(fā)生三個(gè)裂紋時(shí)，鑲嵌器115-4A可生成三個(gè)基元來去除(或防止)所述三個(gè)裂紋。所述三個(gè)基元由實(shí)線表示。[0127]如圖3和IlA中所圖示的，外殼著色器115-3A可通過利用各種算法針對(duì)點(diǎn)P31、P32、P33和P34中的每一個(gè)計(jì)算鑲嵌因子TF1、TF2、TF3和TF4，并且可將鑲嵌因子TF1、TF2、TF3和TF4中的每一個(gè)指派給點(diǎn)P31、P32、P33和P34中的每一個(gè)。[0128]參考圖1認(rèn)，例如，外殼著色器115-3么或115-38可將第一鑲嵌因子了？1(=O)指派給第一點(diǎn)P31，可將第二鑲嵌因子TF2(=I)指派給第二點(diǎn)P32，可將第三鑲嵌因子TF3(=O)指派給第三點(diǎn)P33，并且可將第四鑲嵌因子TF4(=I)指派給第四點(diǎn)P34。[0129]如圖1lB中所圖示的，鑲嵌器115-4A從外殼著色器115-3A或115-3B接收點(diǎn)P31、P32、P33和P34以及各自指派給每個(gè)點(diǎn)P31、P32、P33和P34的鑲嵌因子TFl、TF2、TF3和TF4。[0130]鑲嵌器115-4A可在第二點(diǎn)P32的附近生成與指派給第二點(diǎn)P32的鑲嵌因子TF2(=I)相對(duì)應(yīng)的(一個(gè)或多個(gè))新點(diǎn)。[0131]為了便于描述，假定鑲嵌器115-4A按第一點(diǎn)P31、第二點(diǎn)P32、第三點(diǎn)P33和第四點(diǎn)P34的順序生成(一個(gè)或多個(gè))新點(diǎn)。然而，該順序可根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施例而改變。[0132]例如，鑲嵌器115-4A可不在第一點(diǎn)P31的附近基于指派給第一點(diǎn)P31的鑲嵌因子TFl(=O)生成新點(diǎn)。[0133]鑲嵌器115-4A可利用指派給第二點(diǎn)P32的第二鑲嵌因子TF2(=I)在第一邊緣EG31的中點(diǎn)處生成新點(diǎn)NP31，可在第二邊緣EG32的中點(diǎn)處生成新點(diǎn)NP32，并且可在包括第二點(diǎn)P32的面FACE31的中心處生成新點(diǎn)NP33。[0134]鑲嵌器115-4A可不在第三點(diǎn)P33的附近基于指派給第三點(diǎn)P33的鑲嵌因子TF3(=O)生成新點(diǎn)。[0135]鑲嵌器115-4A可利用指派給第四點(diǎn)P34的第四鑲嵌因子TF4(=I)在第三邊緣EG33的中點(diǎn)處生成新點(diǎn)NP34，并且在第四邊緣EG34的中點(diǎn)處生成新點(diǎn)NP35。[0136]例如，由于已經(jīng)在面FACE31的中心處生成了新點(diǎn)NP33，因此鑲嵌器115-4A可不在面FACE31上生成額外的新點(diǎn)。[0137]當(dāng)在點(diǎn)P32和P34的附近(例如，EG31、EG32、EG33、EG34和FACE31)生成新點(diǎn)NP31、NP32、NP34、NP35和NP33時(shí)，鑲嵌器115-4A生成描繪點(diǎn)P31、P32、P33和P34和/或新點(diǎn)NP31、NP32、NP33、NP34和NP35之間的連通性關(guān)系的連通性信息(例如，拓?fù)湫畔?。[0138]如圖1lC中所圖示的，鑲嵌器115-4A可基于所生成的連通性信息來生成基元。例如，當(dāng)發(fā)生四個(gè)裂紋時(shí)，鑲嵌器115-4A可生成四個(gè)基元來去除所述四個(gè)裂紋。所述四個(gè)基元由實(shí)線表示。[0139]如圖3和圖12A中所圖示的，外殼著色器115-3A可利用各種算法針對(duì)點(diǎn)P41、P42、P43和P44中的每一個(gè)計(jì)算鑲嵌因子TF1、TF2、TF3和TF4，并且可將鑲嵌因子TF1、TF2、TF3和TF4中的每一個(gè)指派給點(diǎn)P41、P42、P43和P44中的每一個(gè)。[0140]如圖7和圖12A中所圖示的，外殼著色器115-3B可從外部接收針對(duì)點(diǎn)P41、P42、P43和P44中的每一個(gè)的鑲嵌因子TF1、TF2、TF3和TF4，并且可將鑲嵌因子TF1、TF2、TF3和TF4中的每一個(gè)指派給點(diǎn)P41、P42、P43和P44中的每一個(gè)。[0141]例如，外殼著色器115-3A或115-3B可將第一鑲嵌因子TF1(=I)指派給第一點(diǎn)P41，可將第二鑲嵌因子TF2(=I)指派給第二點(diǎn)P42，可將第三鑲嵌因子TF3(=I)指派給第三點(diǎn)P43，并且可將第四鑲嵌因子TF4(=I)指派給第四點(diǎn)P44。[0142]如圖12B中所圖示的，鑲嵌器115-4A可從外殼著色器115-3A和115-3B接收指派給點(diǎn)P41、P42、P43和P44中的每一個(gè)的鑲嵌因子TF1、TF2、TF3和TF4。[0143]鑲嵌器115-4A可在第一點(diǎn)P41的附近生成與指派給第一點(diǎn)P41的鑲嵌因子TFl(=I)相對(duì)應(yīng)的(一個(gè)或多個(gè))新點(diǎn)。[0144]為了便于描述，假定鑲嵌器115-4A按第一點(diǎn)P41、P42、P43和P44的順序生成(一個(gè)或多個(gè))新點(diǎn)。然而，該順序可根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施例而改變。[0145]例如，鑲嵌器115-4A可利用指派給第一點(diǎn)P41的第一鑲嵌因子TFl(=I)在第一邊緣EG41的中點(diǎn)處生成新點(diǎn)NP41，可在第二邊緣EG42的中點(diǎn)處生成新點(diǎn)NP42，并且可在包括第一點(diǎn)P41的面FACE41的中心處生成新點(diǎn)NP43。[0146]鑲嵌器115-4A可利用指派給第二點(diǎn)P42的第二鑲嵌因子TF2(=I)在第三邊緣EG43的中點(diǎn)處生成新點(diǎn)NP44。由于已經(jīng)在第一邊緣EG41和面FACE41中的每一者處生成了新點(diǎn)NP41和NP43中的每一個(gè)，因此鑲嵌器115-4A可不在第一邊緣EG41和面FACE41中的每一者處生成與第二鑲嵌因子TF2(=I)相對(duì)應(yīng)的額外新點(diǎn)。[0147]鑲嵌器115-4A可利用指派給第三點(diǎn)P43的第三鑲嵌因子TF3(=I)在第四邊緣EG44的中點(diǎn)處生成新點(diǎn)NP45。[0148]例如，由于已經(jīng)在面FACE41和第三邊緣EG43中的每一者處生成了新點(diǎn)NP43和NP44中的每一個(gè)，因此鑲嵌器115-4A可不生成與第三邊緣EG43相對(duì)應(yīng)的額外新點(diǎn)。[0149]例如，由于已經(jīng)在第二邊緣EG42、面FACE41和第四邊緣EG44中的每一者處生成了新點(diǎn)NP42、NP43和NP45中的每一個(gè)，因此鑲嵌器115-4A可不在第二邊緣EG42、面FACE41、第四邊緣EG44中的每一者處生成與第四鑲嵌因子TF4(=I)相對(duì)應(yīng)的額外新點(diǎn)。[0150]當(dāng)在點(diǎn)P41、P42、P43和P44的附近(例如，EG41、EG42、EG43、EG44和FACE41)生成新點(diǎn)NP41、NP42、NP43、NP44和NP45時(shí)，鑲嵌器115-4A生成描繪點(diǎn)P41、P42、P43和P44和/或新點(diǎn)NP41、NP42、NP43、NP44和NP45之間的連通性關(guān)系的連通性信息。[0151]如圖12C中所圖示的，鑲嵌器115-4A可基于所生成的連通性信息來生成基元。例如，當(dāng)沒有發(fā)生裂紋時(shí)，鑲嵌器115-4A可不生成基元，如圖12C中所圖示的。如以上中所述，在包括點(diǎn)的邊緣或包括點(diǎn)的面上生成的(與該點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的)新點(diǎn)的位置可根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施例而改變。[0152]此外，當(dāng)兩個(gè)鑲嵌因子被指派給一個(gè)邊緣時(shí)，所生成的新點(diǎn)之間的間隔可根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例而改變。[0153]圖13A和圖13B是用于描述跟蹤曲線變化的示例的圖。圖13A是當(dāng)使用作為比較例的對(duì)每個(gè)邊緣指派鑲嵌因子的方法時(shí)的圖。圖13B是當(dāng)使用根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例的對(duì)每點(diǎn)指派鑲嵌因子的方法時(shí)的圖。[0154]參考圖13A，在比較例中，利用指派給兩個(gè)點(diǎn)P51和P52之間的邊緣的鑲嵌因子TF=A，以相等間隔鑲嵌邊緣，不考慮曲率CV的變化如何。[0155]參考圖13B，根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例，利用分別指派給點(diǎn)P51和P52的鑲嵌因子TF51=X和TF52=Y，與曲率CV的變化相適應(yīng)地鑲嵌邊緣。這里，A、X和Y是整數(shù)或純小數(shù)。[0156]參考圖13B，例如，利用小鑲嵌因子TF51=X來鑲嵌具有平滑曲率的部分，并且利用大鑲嵌因子TF51=Y來鑲嵌具有陡峭曲率的部分，其中Y>X。[0157]根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例，與對(duì)每個(gè)邊緣指派鑲嵌因子的方法或者對(duì)每個(gè)面指派鑲嵌因子的方法相比，對(duì)每點(diǎn)指派鑲嵌因子的方法可更精確地跟蹤曲率變化CV。[0158]從而，根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例的對(duì)每點(diǎn)指派鑲嵌因子的方法可減少無意義的鑲嵌并降低圖形帶寬要求。[0159]圖14是用于描述根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例的外殼著色器和鑲嵌器的操作的流程圖。[0160]參考圖1至圖14,外殼著色器115-3Α或115-3Β向輸入面片中包括的輸入點(diǎn)或與輸入點(diǎn)相關(guān)的輸出點(diǎn)中的每一個(gè)指派鑲嵌因子中的每一個(gè)(SllO)。當(dāng)使用外殼著色器115-3Α時(shí)，可由外殼著色器115-3Α計(jì)算鑲嵌因子。當(dāng)使用外殼著色器115-3Β時(shí)，可從外殼著色器115-3Β的外部輸入鑲嵌因子。[0161]鑲嵌器115-4Α可針對(duì)外殼著色器115-3Α或115-3Β的每個(gè)輸出點(diǎn)OCP通過利用輸出點(diǎn)OCP和各自指派給每個(gè)輸出點(diǎn)的每個(gè)鑲嵌因子在輸出點(diǎn)的附近生成(一個(gè)或多個(gè))鑲嵌點(diǎn)。針對(duì)一輸出點(diǎn)的鑲嵌點(diǎn)的數(shù)目可與指派給該輸出點(diǎn)的鑲嵌因子的值相同(S120)。[0162]例如,鑲嵌器115-4Α可在從外殼著色器115-3Α或115-3Β輸出的輸出點(diǎn)OCP之中的作為當(dāng)前鑲嵌操作的對(duì)象的當(dāng)前點(diǎn)的附近生成與指派給當(dāng)前點(diǎn)的鑲嵌因子相對(duì)應(yīng)的Ν(Ν是整數(shù)或純小數(shù))個(gè)新點(diǎn)。[0163]鑲嵌器115-4A可基于輸出點(diǎn)OCP和/或(一個(gè)或多個(gè))鑲嵌點(diǎn)來生成一個(gè)或多個(gè)基元模式(S130)。這里，鑲嵌器115-4A可執(zhí)行縫合操作來去除(或防止)裂紋。[0164]例如，鑲嵌器115-4A將(一個(gè)或多個(gè))鑲嵌點(diǎn)TDP的(一個(gè)或多個(gè))UV坐標(biāo)(或(一個(gè)或多個(gè))UVW坐標(biāo))和拓?fù)湫畔⑤敵龅接蛑?15-5(S140)。[0165]拓?fù)湫畔⒖砂ㄝ敵鳇c(diǎn)OCP的連通性信息和/或鑲嵌點(diǎn)TDP的連通性信息。域著色器115-5可利用外殼著色器115-3A或115-3B和鑲嵌器115-4A的輸出來計(jì)算頂點(diǎn)的屬性(SI50)。[0166]根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例，對(duì)每點(diǎn)指派鑲嵌因子的方法可去除在共享邊緣的面之間或者共享點(diǎn)的面之間發(fā)生的裂紋。[0167]根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例，對(duì)每點(diǎn)指派鑲嵌因子的方法可基于曲率變化來指派不同的鑲嵌因子，從而可更精確地跟蹤曲率變化。[0168]從而，對(duì)每點(diǎn)指派鑲嵌因子的方法可減少無意義的鑲嵌并且降低圖形帶寬要求。[0169]雖然已參考本發(fā)明構(gòu)思的示范性實(shí)施例具體示出和描述了本發(fā)明構(gòu)思，但本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將會(huì)理解，在不脫離如權(quán)利要求限定的本發(fā)明構(gòu)思的精神和范圍的情況下，可對(duì)其進(jìn)行形式和細(xì)節(jié)上的各種改變。【權(quán)利要求】1.一種由圖形處理器在圖形管線中鑲嵌表面的方法，該方法包括:向面片中的多個(gè)點(diǎn)中的每一個(gè)指派鑲嵌因子；以及在所述多個(gè)點(diǎn)中的第一點(diǎn)的附近基于指派給所述第一點(diǎn)的第一鑲嵌因子來生成至少一個(gè)第一新點(diǎn)，其中，所述至少一個(gè)第一新點(diǎn)對(duì)應(yīng)于所述第一點(diǎn)。2.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，指派給每個(gè)點(diǎn)的鑲嵌因子是等于或大于零的整數(shù)，或者小數(shù)。3.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述第一點(diǎn)的附近是所述第一點(diǎn)、包括所述第一點(diǎn)的邊緣或者包括所述第一點(diǎn)的面。4.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述第一鑲嵌因子是大于零的整數(shù)或者是小數(shù)。5.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，當(dāng)所述第一鑲嵌因子是對(duì)不生成任何點(diǎn)的指示符或者是零時(shí)，不生成所述至少一個(gè)第一新點(diǎn)。6.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，在邊緣的一部分處生成所述至少一個(gè)第一新點(diǎn)，并且當(dāng)所述第一點(diǎn)和第二點(diǎn)共享所述邊緣時(shí)，在所述邊緣的所述部分處不生成與指派給所述第二點(diǎn)的第二鑲嵌因子相對(duì)應(yīng)的第二新點(diǎn)。7.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述多個(gè)點(diǎn)中的每一個(gè)表示包括位置和法向量中的至少一者的幾何數(shù)據(jù)。8.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述多個(gè)點(diǎn)中的每一個(gè)表示具有包括位置、法向量和紋理坐標(biāo)在內(nèi)的屬性的頂點(diǎn)。9.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述表面是參數(shù)表面、細(xì)分表面、三角網(wǎng)格或者曲線。10.如權(quán)利要求1所述的方法，還包括:生成包括所述至少一個(gè)第一新點(diǎn)與所述第一點(diǎn)之間的連通性關(guān)系的拓?fù)湫畔?；以及?dāng)發(fā)生裂紋時(shí)利用所述拓?fù)湫畔⑸芍辽僖粋€(gè)基元。11.如權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述鑲嵌因子是通過從外部源接收或者通過根據(jù)算法計(jì)算來獲得的。12.—種圖形處理設(shè)備，包括:外殼著色器，被配置為向面片中包括的多個(gè)點(diǎn)中的每一個(gè)指派鑲嵌因子；以及鑲嵌器，被配置為在所述多個(gè)點(diǎn)中的第一點(diǎn)的附近基于指派給所述第一點(diǎn)的第一鑲嵌因子來生成至少一個(gè)第一新點(diǎn)。13.如權(quán)利要求12所述的設(shè)備，其中，所述設(shè)備被配置為執(zhí)行在圖形管線中鑲嵌表面的鑲嵌過程，并且所述表面是參數(shù)表面、細(xì)分表面、三角網(wǎng)格或者曲線。14.如權(quán)利要求12所述的設(shè)備，還包括存儲(chǔ)所述外殼著色器中要使用的與每個(gè)點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的鑲嵌因子的存儲(chǔ)器。15.如權(quán)利要求12所述的設(shè)備，其中，所述第一點(diǎn)的附近是所述第一點(diǎn)、包括所述第一點(diǎn)的邊緣或者包括所述第一點(diǎn)的面。16.如權(quán)利要求12所述的設(shè)備，其中，當(dāng)所述第一鑲嵌因子是對(duì)不生成任何點(diǎn)的指示符或者是零時(shí)，不生成所述至少一個(gè)第一新點(diǎn)。17.如權(quán)利要求12所述的設(shè)備，其中，所述鑲嵌器生成包括所述第一點(diǎn)與所述至少一個(gè)第一新點(diǎn)之間的連通性關(guān)系的拓?fù)湫畔ⅰ?8.如權(quán)利要求17所述的設(shè)備，其中，所述鑲嵌器在發(fā)生裂紋時(shí)利用所述拓?fù)湫畔⑸芍辽僖粋€(gè)基元。19.一種圖形處理器，被配置為向面片中的多個(gè)點(diǎn)中的每一個(gè)指派鑲嵌因子并且基于指派給第一點(diǎn)的第一鑲嵌因子來生成至少一個(gè)第一新點(diǎn)。20.一種圖形處理裝置，包括:圖形處理器；以及顯示器，被配置為顯示經(jīng)所述圖形處理器處理的信號(hào)，其中，所述圖形處理器包括:外殼著色器，被配置為向面片中包括的多個(gè)點(diǎn)中的每一個(gè)指派鑲嵌因子；以及鑲嵌器，被配置為在所述多個(gè)點(diǎn)中的第一點(diǎn)的附近基于指派給所述第一點(diǎn)的第一鑲嵌因子來生成至少一個(gè)第一新點(diǎn)，其中，所述至少一個(gè)第一新點(diǎn)對(duì)應(yīng)于所述第一點(diǎn)。21.如權(quán)利要求20所述的裝置，其中，所述鑲嵌器生成包括所述第一點(diǎn)與所述至少一個(gè)第一新點(diǎn)之間的連通性關(guān)系的拓?fù)湫畔?，并且在發(fā)生裂紋時(shí)利用所述拓?fù)湫畔⑸芍辽僖粋€(gè)基兀。22.—種由圖形處理器在圖形管線中鑲嵌表面的方法，該方法包括:向面片中的多個(gè)點(diǎn)中的每一個(gè)指派鑲嵌因子；以及在所述多個(gè)點(diǎn)中的第一點(diǎn)的附近基于指派給所述第一點(diǎn)的第一鑲嵌因子來生成至少一個(gè)第一新點(diǎn)；以及將所述至少一個(gè)第一新點(diǎn)的坐標(biāo)和拓?fù)湫畔⑤敵龅接蛑鳎渲?，所述至少一個(gè)第一新點(diǎn)的數(shù)目對(duì)應(yīng)于所述第一鑲嵌因子，并且所述至少一個(gè)第一新點(diǎn)對(duì)應(yīng)于所述第一點(diǎn)。23.如權(quán)利要求22所述的方法，其中，所述第一點(diǎn)的附近是所述第一點(diǎn)、包括所述第一點(diǎn)的邊緣或者包括所述第一點(diǎn)的面。24.如權(quán)利要求22所述的方法，其中，拓?fù)湫畔ㄋ傻闹辽僖粋€(gè)第一新點(diǎn)與所述第一點(diǎn)之間的連通性關(guān)系。25.如權(quán)利要求22所述的方法，還包括當(dāng)發(fā)生裂紋時(shí)利用所述拓?fù)湫畔⑸芍辽僖粋€(gè)基兀。【文檔編號(hào)】G06T15/00GK104282035SQ201410324670【公開日】2015年1月14日申請(qǐng)日期:2014年7月9日優(yōu)先權(quán)日:2013年7月9日【發(fā)明者】金錫勛,樸容河,劉昌孝,李佶桓申請(qǐng)人:三星電子株式會(huì)社