觸控模組的制作方法
【專利摘要】一種觸控模組，包括觸控區(qū)域以及位于觸控區(qū)域外圍的走線區(qū)域，該觸控模組包括一基板，該基板對(duì)應(yīng)觸控區(qū)域的位置設(shè)置有由導(dǎo)電材質(zhì)形成的第一感測(cè)電極以及第二感測(cè)電極，該第一感測(cè)電極與第二感測(cè)電極相互絕緣設(shè)置，該基板對(duì)應(yīng)走線區(qū)域的位置設(shè)置有導(dǎo)電信號(hào)線。該導(dǎo)電信號(hào)線包括至少兩層導(dǎo)電結(jié)構(gòu)，該至少兩層導(dǎo)電結(jié)構(gòu)包括層疊設(shè)置的第一導(dǎo)電層和第二導(dǎo)電層。
【專利說(shuō)明】觸控模組

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及一種觸控模組。

【背景技術(shù)】
[0002] 隨著電子技術(shù)的不斷發(fā)展，手機(jī)、便攜式電腦、個(gè)人數(shù)字助理（PDA)、平板電腦、媒 體播放器等消費(fèi)性電子產(chǎn)品大多都采用觸控模組作為輸入設(shè)備，W使產(chǎn)品具有更友好的人 機(jī)交互方式。
[0003] 根據(jù)其觸控原理的不同，觸控模組包括電阻式觸控模組、電容式觸控模組、紅外式 觸控模組W及聲波式觸控模組等。目前，應(yīng)用較為廣泛的觸控模組包括電阻式、電容式、光 學(xué)式、音波式等觸控模組。其中，尤W電容式觸控模組的應(yīng)用更為廣泛。電容式觸控模組由 于其觸控靈敏度好、使用壽命長(zhǎng)、不易被外界信號(hào)干擾等優(yōu)點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于各種消費(fèi)性電 子廣品。
[0004] 目前，被廣泛使用的電容式觸控模組，例如投射式電容觸控模組，大多包括觸控感 測(cè)區(qū)域W及位于該觸控感測(cè)區(qū)域外圍的走線（fan-out)區(qū)域或邊框（border)區(qū)域。
[0005] 投射式電容觸控屏的觸控感應(yīng)部件一般由行電極和列電極交錯(cuò)形成感應(yīng)矩陣。行 電極和列電極分別可設(shè)置在同一透明基板的兩面，防止在交錯(cuò)位置出現(xiàn)短路。
[0006] 另外，一種典型的電容式觸控模組，也可將行電極和列電極設(shè)置在同一透明基板 的同側(cè)，其行電極和列電極分別包括序列感測(cè)片，感測(cè)片可W為菱形或其它多邊形。此觸控 模組通常采用的設(shè)計(jì)方案為：行電極或者列電極之一在導(dǎo)電膜上連續(xù)設(shè)置，而另一個(gè)電極 在導(dǎo)電膜上W連續(xù)設(shè)置的電極為間隔設(shè)置成若干電極塊，在交錯(cuò)點(diǎn)的位置通過(guò)導(dǎo)電橋?qū)⑾?鄰的電極塊電連接，從而形成另一方向上的連續(xù)電極。導(dǎo)電橋與連續(xù)設(shè)置的電極之間由絕 緣層分隔，從而有效的阻止行電極和列電極在交錯(cuò)點(diǎn)短路。然后，制作好的行電極和列電極 再通過(guò)邊框區(qū)域的金屬走線連接到一控制電路巧日FPC)。該種結(jié)構(gòu)的觸控模組一般需要五 道光刻制程(黃光制程）分別制作導(dǎo)電橋、絕緣層、連續(xù)設(shè)置的電極(行電極和列電極之一)、 金屬導(dǎo)線、W及金屬導(dǎo)線上方覆蓋之保護(hù)層。為了節(jié)約制程成本，一些電容式觸控模組將走 線區(qū)的導(dǎo)線跟感測(cè)電極使用相同材料在同一光刻制程中形成。一種應(yīng)用廣泛的電極材料為 氧化銅錫（IT0)等透明氧化物半導(dǎo)體材料。然而，使用氧化銅錫作為走線區(qū)域的導(dǎo)線，其線 阻會(huì)較高，會(huì)影響信號(hào)的傳輸效果。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 為解決W上問(wèn)題，有必要提供一種可降低走線區(qū)域?qū)Ь€線阻的觸控模組。
[000引本發(fā)明提供的一種觸控模組，包括觸控區(qū)域W及位于觸控區(qū)域外圍的走線區(qū)域， 該觸控模組包括一基板，該基板對(duì)應(yīng)觸控區(qū)域的位置設(shè)置有由導(dǎo)電材質(zhì)形成的第一感測(cè)電 極W及第二感測(cè)電極，該第一感測(cè)電極與第二感測(cè)電極相互絕緣設(shè)置，該基板對(duì)應(yīng)走線區(qū) 域的位置設(shè)置有導(dǎo)電信號(hào)線。該導(dǎo)電信號(hào)線包括至少兩層導(dǎo)電結(jié)構(gòu)，該至少兩層導(dǎo)電結(jié)構(gòu) 包括層疊設(shè)置的第一導(dǎo)電層和第二導(dǎo)電層，該第一導(dǎo)電層和第二導(dǎo)電層的材料為氧化銅 錫。
[0009] 優(yōu)選地，所述第一導(dǎo)電層、第二導(dǎo)電層、w及第二感測(cè)電極在同一光刻制程中形 成。
[0010] 優(yōu)選地，所述第一感測(cè)電極包括多個(gè)第一感測(cè)單元W及將相鄰兩個(gè)第一感測(cè)單元 電性連接的橋接結(jié)構(gòu)，所述第一導(dǎo)電層與該橋接結(jié)構(gòu)在同一光刻制程中形成，所述第二導(dǎo) 電層與第二感測(cè)電極在同一光刻制程中形成。
[0011] 優(yōu)選地，所述橋接結(jié)構(gòu)正上方覆蓋一絕緣覆層，所述第二感測(cè)電極包括多個(gè)第二 感測(cè)單元W及將該多個(gè)第二感測(cè)單元串聯(lián)連接的連接導(dǎo)線，該連接導(dǎo)線橫越過(guò)該橋接結(jié)構(gòu) W及該絕緣覆層將相鄰兩個(gè)第二感測(cè)單元電性連接。
[0012] 優(yōu)選地，所述第一導(dǎo)電層與第二導(dǎo)電層重合，且該第一導(dǎo)電層與第二導(dǎo)電層的厚 度相同。
[0013] 本發(fā)明提供另一種觸控模組，包括觸控區(qū)域W及位于觸控區(qū)域外圍的走線區(qū)域， 該觸控模組包括一基板，該基板對(duì)應(yīng)觸控區(qū)域的位置設(shè)置有由導(dǎo)電材質(zhì)形成的第一感測(cè)電 極W及第二感測(cè)電極，該第一感測(cè)電極與第二感測(cè)電極相互絕緣設(shè)置，該基板對(duì)應(yīng)走線區(qū) 域的位置設(shè)置有導(dǎo)電信號(hào)線。該導(dǎo)電信號(hào)線包括至少兩層導(dǎo)電結(jié)構(gòu)，該至少兩層導(dǎo)電結(jié)構(gòu) 包括層疊設(shè)置的第一導(dǎo)電層和第二導(dǎo)電層，該第一導(dǎo)電層位于第二導(dǎo)電層正下方，該第一 導(dǎo)電層的材料為金屬材料，該第二導(dǎo)電層的材料為氧化銅錫。
[0014] 優(yōu)選地，所述第一導(dǎo)電層、第二導(dǎo)電層、W及第二感測(cè)電極在同一光刻制程中形 成。
[0015] 優(yōu)選地，所述第一感測(cè)電極包括多個(gè)第一感測(cè)單元W及將相鄰兩個(gè)第一感測(cè)單元 電性連接的橋接結(jié)構(gòu)，所述第一導(dǎo)電層與該橋接結(jié)構(gòu)在同一光刻制程中形成，所述第二導(dǎo) 電層與第二感測(cè)電極在同一光刻制程中形成。
[0016] 優(yōu)選地，所述第一導(dǎo)電層與第二導(dǎo)電層重合，且該第一導(dǎo)電層的厚度大于該第二 導(dǎo)電層的厚度。
[0017] 相較于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明觸控模組的導(dǎo)電信號(hào)線的光刻制程可與第一感測(cè)電極的 光刻制程或第二感測(cè)電極的光刻制程整合為一個(gè)光刻制程，從而減少觸控模組的制程成 本。此外，導(dǎo)電信號(hào)線采用雙層導(dǎo)電結(jié)構(gòu)，還可減小阻抗，提高導(dǎo)電率。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0018] 圖1是本發(fā)明提供的觸控顯示裝置的立體示意圖。
[0019] 圖2是圖1中所示的觸控模組的布線結(jié)構(gòu)示意圖。
[0020] 圖3是一實(shí)施例中所述觸控模組的觸控圖形結(jié)構(gòu)的平面示意圖。
[0021] 圖4是一實(shí)施例中圖2所示的觸控模組沿IV-IV切線的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0022] 圖5是另一實(shí)施例中圖2所示的觸控模組沿IV-IV切線的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023] 主要元件符號(hào)說(shuō)明

【權(quán)利要求】
1. 一種觸控模組，包括觸控區(qū)域以及位于觸控區(qū)域外圍的走線區(qū)域，該觸控模組包括 一基板，該基板對(duì)應(yīng)觸控區(qū)域的位置設(shè)置有由導(dǎo)電材質(zhì)形成的第一感測(cè)電極以及第二感測(cè) 電極，該第一感測(cè)電極與第二感測(cè)電極相互絕緣設(shè)置，該基板對(duì)應(yīng)走線區(qū)域的位置設(shè)置有 導(dǎo)電信號(hào)線，其特征在于，該導(dǎo)電信號(hào)線包括至少兩層導(dǎo)電結(jié)構(gòu)，該至少兩層導(dǎo)電結(jié)構(gòu)包括 層疊設(shè)置的第一導(dǎo)電層和第二導(dǎo)電層，該第一導(dǎo)電層和第二導(dǎo)電層的材料為氧化銦錫。
2. 如權(quán)利要求1所述的觸控模組，其特征在于，所述第一導(dǎo)電層、第二導(dǎo)電層、以及第 二感測(cè)電極在同一光刻制程中形成。
3. 如權(quán)利要求1所述的觸控模組，其特征在于，所述第一感測(cè)電極包括多個(gè)第一感測(cè) 單元以及將相鄰兩個(gè)第一感測(cè)單元電性連接的橋接結(jié)構(gòu)，所述第一導(dǎo)電層與該橋接結(jié)構(gòu)在 同一光刻制程中形成，所述第二導(dǎo)電層與第二感測(cè)電極在同一光刻制程中形成。
4. 如權(quán)利要求3所述的觸控模組，其特征在于，所述橋接結(jié)構(gòu)正上方覆蓋一絕緣覆層， 所述第二感測(cè)電極包括多個(gè)第二感測(cè)單元以及將該多個(gè)第二感測(cè)單元串聯(lián)連接的連接導(dǎo) 線，該連接導(dǎo)線橫越過(guò)該橋接結(jié)構(gòu)以及該絕緣覆層將相鄰兩個(gè)第二感測(cè)單元電性連接。
5. 如權(quán)利要求1所述的觸控模組，其特征在于，所述第一導(dǎo)電層與第二導(dǎo)電層重合，且 該第一導(dǎo)電層與第二導(dǎo)電層的厚度相同。
6. -種觸控模組，包括觸控區(qū)域以及位于觸控區(qū)域外圍的走線區(qū)域，該觸控模組包括 一基板，該基板對(duì)應(yīng)觸控區(qū)域的位置設(shè)置有由導(dǎo)電材質(zhì)形成的第一感測(cè)電極以及第二感測(cè) 電極，該第一感測(cè)電極與第二感測(cè)電極相互絕緣設(shè)置，該基板對(duì)應(yīng)走線區(qū)域的位置設(shè)置有 導(dǎo)電信號(hào)線，其特征在于，該導(dǎo)電信號(hào)線包括至少兩層導(dǎo)電結(jié)構(gòu)，該至少兩層導(dǎo)電結(jié)構(gòu)包括 層疊設(shè)置的第一導(dǎo)電層和第二導(dǎo)電層，該第一導(dǎo)電層位于第二導(dǎo)電層正下方，該第一導(dǎo)電 層的材料為金屬材料，該第二導(dǎo)電層的材料為氧化銦錫。
7. 如權(quán)利要求6所述的觸控模組，其特征在于，所述第一導(dǎo)電層、第二導(dǎo)電層、以及第 二感測(cè)電極在同一光刻制程中形成。
8. 如權(quán)利要求6所述的觸控模組，其特征在于，所述第一感測(cè)電極包括多個(gè)第一感測(cè) 單元以及將相鄰兩個(gè)第一感測(cè)單元電性連接的橋接結(jié)構(gòu)，所述第一導(dǎo)電層與該橋接結(jié)構(gòu)在 同一光刻制程中形成，所述第二導(dǎo)電層與第二感測(cè)電極在同一光刻制程中形成。
9. 如權(quán)利要求8所述的觸控模組，其特征在于，所述橋接結(jié)構(gòu)正上方覆蓋一絕緣覆層， 所述第二感測(cè)電極包括多個(gè)第二感測(cè)單元以及將該多個(gè)第二感測(cè)單元串聯(lián)連接的連接導(dǎo) 線，該連接導(dǎo)線橫越過(guò)該橋接結(jié)構(gòu)以及該絕緣覆層將相鄰兩個(gè)第二感測(cè)單元電性連接。
10. 如權(quán)利要求6所述的觸控模組，其特征在于，所述第一導(dǎo)電層與第二導(dǎo)電層重合， 且該第一導(dǎo)電層的厚度大于該第二導(dǎo)電層的厚度。
【文檔編號(hào)】G06F3/044GK104503636SQ201410689355
【公開日】2015年4月8日 申請(qǐng)日期:2014年11月26日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月26日
【發(fā)明者】戴嘉駿 申請(qǐng)人:業(yè)成光電（深圳）有限公司, 英特盛科技股份有限公司