本發(fā)明涉及玻璃基板及其制造方法、保護玻璃及其制造方法、以及便攜式信息終端。

背景技術(shù)：

近年來，作為電子設(shè)備類中的高度的安全對策，大量使用將指紋用于個人認證的方法。指紋認證的方法有光學式、熱敏式、壓力式、靜電容量式、超聲波式等，但從傳感靈敏度、電能消耗的觀點出發(fā)，認為靜電容量式、超聲波式為佳。

靜電容量式傳感器對被檢測物接近或接觸的部位的局部靜電容量變化進行檢測。一般的靜電容量式傳感器根據(jù)靜電容量的大小來測定在該傳感器內(nèi)配置的電極與被檢測物之間的距離。另外，超聲波式傳感器可以通過使用超聲波對被檢測物進行三維檢測。在這種方式下，可以透過液體等異物進行檢測，作為提高了安全性的生物體認證傳感器受到期待。使用這些傳感器的指紋認證功能由于小型輕量且電能消耗低，因此特別是搭載在智能電話、移動電話、平板型個人電腦等便攜式信息終端(Personal Data Assistance：PDA)中。通常，為了保護指紋認證傳感器(以下僅稱為傳感器)，在該傳感器的上部配置有保護玻璃。

專利文獻1中，作為便攜式設(shè)備用保護玻璃，在保護玻璃的主表面形成有用于使利用者識別文字或圖形的凹部。此處，通過使凹部的霧度值為10％以上，提高了凹部的可視性。另外，使凹部的表面粗糙度Ra大于主表面平坦部的表面粗糙度Ra。由此，通過凹部與主表面 平坦部之間手觸感之差來使識別凹部的觸覺性提高。

專利文獻2中公開了便攜式設(shè)備用保護玻璃的制造方法。該制造方法中，通過在配置抗蝕劑掩模的基礎(chǔ)上對板狀玻璃進行蝕刻，裁切出多個便攜式設(shè)備用保護玻璃。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2013-137383號

專利文獻2：日本特開2013-1599號

技術(shù)實現(xiàn)要素：

發(fā)明要解決的問題

在指紋認證傳感器、特別是靜電容量式傳感器的上部配置有保護玻璃的情況下，為了確保該傳感器的傳感靈敏度，保護玻璃優(yōu)選為薄壁。此處，作為通過設(shè)置凹部使保護玻璃的一部分成為薄壁的例子，可列舉上述的專利文獻1的保護玻璃。該專利文獻1中，完全沒有記載在凹部配置傳感器等各種裝置。然而，即便是在專利文獻1的便攜式設(shè)備用保護玻璃中在凹部配置靜電容量式傳感器的情況下，也會由于凹部的霧度值和表面粗糙度Ra大而產(chǎn)生不良情況。即，由于該凹部的表面粗糙，因此傳感器電極與被檢測物之間的距離變得不均一，所檢測的靜電容量也變得不均一。在此情況下，傳感器靈敏度下降，有可能無法發(fā)揮所期望的功能。此外，由于凹部的霧度值和表面粗糙度Ra大，因此該凹部變得明顯，與主表面平坦部之間的統(tǒng)一感消失，保護玻璃整體上的美觀變差。

另外，在專利文獻2的制造方法中，需要制作反映多個保護玻璃的外形形狀的抗蝕劑掩模，掩模制作工序復雜。另外，在用于從板狀玻璃得到多個保護玻璃的切割工序中，需要進行蝕刻，因此招致由于切割工序的長時間化、蝕刻劑的廢棄等導致的成本增加等。

本發(fā)明是鑒于上述問題而完成的，其目的在于提供一種在組裝有指紋認證傳感器的情況下可發(fā)揮所期望的傳感能力的保護玻璃、具有保護玻璃的便攜式信息終端、和用于裁切出(抜き出す)多個保護玻璃的玻璃基板、以及簡便的保護玻璃和玻璃基板的制造方法。

用于解決問題的手段

本發(fā)明的上述目的通過下述構(gòu)成來實現(xiàn)。

(1)一種玻璃基板，其用于裁切出多個對保護對象進行保護的保護玻璃，其特征在于：

在所述玻璃基板的正面或背面設(shè)置有多個凹部；

所述玻璃基板具備通過設(shè)置多個所述凹部而形成的多個薄壁部、和與所述薄壁部連接的厚壁部；

所述薄壁部的霧度值為8％以下。

(2)如(1)所述的玻璃基板，其特征在于，

所述薄壁部的表面的算術(shù)平均粗糙度為50nm以下。

(3)如(1)或(2)所述的玻璃基板，其特征在于，

多個所述凹部通過蝕刻而設(shè)置。

(4)如(1)～(3)中任一項所述的玻璃基板，其特征在于，

多個所述凹部每隔預定間隔而設(shè)置。

(5)如(1)～(4)中任一項所述的玻璃基板，其特征在于，

多個所述凹部僅設(shè)置于所述玻璃基板的正面或背面中的一個面。

(6)如(1)～(5)中任一項所述的玻璃基板，其特征在于，

所述凹部的底面是隨著朝向中心部而突出的形狀。

(7)如(1)～(6)中任一項所述的玻璃基板，其特征在于，

所述凹部的側(cè)面是與該凹部的底面平滑地連接的曲面形狀。

(8)如(7)所述的玻璃基板，其特征在于，

所述側(cè)面的曲率半徑為所述底面的深度以上。

(9)如(7)或(8)所述的玻璃基板，其特征在于，

所述側(cè)面的曲率半徑隨著從所述凹部的中央部朝向周邊部而增大。

(10)如(7)～(9)中任一項所述的玻璃基板，其特征在于，

所述側(cè)面的曲率半徑為0.1mm以上且2mm以下。

(11)如(1)～(10)中任一項所述的玻璃基板，其特征在于，

所述凹部的側(cè)面與所述玻璃基板的正面或背面之間的連接部分為平滑地連續(xù)的曲面形狀。

(12)如(1)～(11)中任一項所述的玻璃基板，其特征在于，

對所述玻璃基板的正面的至少一部分實施了防眩處理。

(13)如(12)所述的玻璃基板，其特征在于，

所述防眩處理實施于與所述凹部相對的部位的至少一部分。

(14)如(12)所述的玻璃基板，其特征在于，

所述防眩處理實施于與所述凹部相對的部位的周邊部的至少一部分。

(15)如(12)～(14)中任一項所述的玻璃基板，其特征在于，

所述防眩處理通過蝕刻而進行。

(16)如(12)～(14)中任一項所述的玻璃基板，其特征在于，

所述防眩處理通過涂布而進行。

(17)如(1)～(16)中任一項所述的玻璃基板，其特征在于，

在所述玻璃基板的正面或背面的周邊部形成有用于在裁切出多個所述保護玻璃時進行位置對準的多個標記。

(18)一種保護玻璃，其對保護對象進行保護，其特征在于：

在所述保護玻璃的正面或背面設(shè)置有至少一個凹部；

所述保護玻璃具備通過設(shè)置所述凹部而形成的薄壁部、和與所述薄壁部連接的厚壁部；

所述薄壁部的霧度值為8％以下。

(19)如(18)所述的保護玻璃，其特征在于，

所述薄壁部的表面的算術(shù)平均粗糙度為50nm以下。

(20)如(18)或(19)所述的保護玻璃，其特征在于，

所述凹部通過蝕刻而設(shè)置。

(21)如(18)～(20)中任一項所述的保護玻璃，其特征在于，

所述凹部的底面是隨著朝向中心部而突出的形狀。

(22)如(18)～(21)中任一項所述的保護玻璃，其特征在于，

對所述正面和所述背面實施了研磨。

(23)如(22)所述的保護玻璃，其特征在于，

在化學強化后實施了所述研磨。

(24)如(18)～(23)中任一項所述的保護玻璃，其特征在于，

對所述保護玻璃的正面的至少一部分實施了防眩處理。

(25)如(24)所述的保護玻璃，其特征在于，

所述防眩處理實施于與所述凹部相對的部位的至少一部分。

(26)如(24)所述的保護玻璃，其特征在于，

所述防眩處理實施于與所述凹部相對的部位的周邊部的至少一部分。

(27)如(24)～(26)中任一項所述的保護玻璃，其特征在于，

所述防眩處理通過蝕刻而進行。

(28)如(24)～(26)中任一項所述的保護玻璃，其特征在于，

所述防眩處理通過涂布而進行。

(29)如(18)～(28)中任一項所述的保護玻璃，其特征在于，

對所述保護玻璃的正面的至少一部分實施了耐指紋涂布。

(30)如(29)所述的保護玻璃，其特征在于，

所述耐指紋涂布僅實施于所述厚壁部。

(31)如(29)所述的保護玻璃，其特征在于，

所述耐指紋涂布僅實施于所述薄壁部。

(32)如(29)所述的保護玻璃，其特征在于，

所述耐指紋涂布實施于所述保護玻璃的正面整面。

(33)如(18)～(32)中任一項所述的保護玻璃，其特征在于，

所述凹部的側(cè)面是與該凹部的底面平滑地連接的曲面形狀。

(34)如(33)所述的保護玻璃，其特征在于，

所述側(cè)面的曲率半徑為所述底面的深度以上。

(35)如(33)或(34)所述的保護玻璃，其特征在于，

所述側(cè)面的曲率半徑隨著從所述凹部的中央部朝向周邊部而增大。

(36)如(33)～(35)中任一項所述的保護玻璃，其特征在于，

所述側(cè)面的曲率半徑為0.1mm以上且2mm以下。

(37)如(18)～(36)中任一項所述的保護玻璃，其特征在于，

所述凹部的側(cè)面與所述保護玻璃的正面或背面之間的連接部分為平滑地連續(xù)的曲面形狀。

(38)如(18)～(37)中任一項所述的保護玻璃，其特征在于，

在所述保護玻璃的背面設(shè)置有印刷層。

(39)如(18)～(38)中任一項所述的保護玻璃，其特征在于，

所述凹部設(shè)置于所述保護玻璃的背面，并且在所述凹部設(shè)置有印刷層。

(40)如(18)～(39)中任一項所述的保護玻璃，其特征在于，

所述保護對象為便攜式信息終端。

(41)一種便攜式信息終端，其特征在于，

其具有如(18)～(40)中任一項所述的保護玻璃。

(42)如(41)所述的便攜式信息終端，其特征在于，

所述凹部設(shè)置于所述保護玻璃的正面，

在所述保護玻璃的背面中與所述凹部相對的位置設(shè)置有指紋認證傳感器。

(43)如(42)所述的便攜式信息終端，其特征在于，

所述指紋認證傳感器的尺寸大于所述凹部的尺寸。

(44)如(41)所述的便攜式信息終端，其特征在于，

所述凹部設(shè)置于所述保護玻璃的背面，

在所述凹部配置有指紋認證傳感器。

(45)如(41)所述的便攜式信息終端，其特征在于，

所述凹部設(shè)置于所述保護玻璃的正面，

在所述保護玻璃的背面中與所述凹部相對的位置配置有靜電容量式傳感器。

(46)如(45)所述的便攜式信息終端，其特征在于，

所述靜電容量式傳感器的尺寸大于所述凹部的尺寸。

(47)如(41)所述的便攜式信息終端，其特征在于，

所述凹部設(shè)置于所述保護玻璃的背面，

在所述凹部配置有靜電容量式傳感器。

(48)如(41)所述的便攜式信息終端，其特征在于，

所述凹部設(shè)置于所述保護玻璃的正面，

在所述保護玻璃的背面中與所述凹部相對的位置配置有超聲波式傳感器。

(49)如(48)所述的便攜式信息終端，其特征在于，

所述超聲波式傳感器的尺寸大于所述凹部的尺寸。

(50)如(41)所述的便攜式信息終端，其特征在于，

所述凹部設(shè)置于所述保護玻璃的背面，

在所述凹部配置有超聲波式傳感器。

(51)一種玻璃基板的制造方法，所述玻璃基板用于裁切出多個對保護對象進行保護的保護玻璃，其特征在于：

包括用于在玻璃構(gòu)件的正面或背面中的一個面設(shè)置多個凹部的凹部形成工序，

在所述凹部形成工序中，在所述一個面配置具有用于形成多個所述凹部的多個凹部形成用孔的第一掩模構(gòu)件且在另一面配置第二掩模構(gòu)件，然后對所述玻璃構(gòu)件實施蝕刻處理。

(52)如(51)所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，

所述蝕刻處理是在使所述玻璃構(gòu)件和蝕刻劑在與所述玻璃構(gòu)件的正面或背面平行的方向相對移動的同時進行的。

(53)如(52)所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，

所述蝕刻處理是通過使所述玻璃構(gòu)件擺動而進行的。

(54)如(52)所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，

所述蝕刻處理是通過產(chǎn)生所述蝕刻劑的流動而進行的。

(55)如(51)～(54)中任一項所述的玻璃基板的制造方法，其特征在于，

在所述玻璃基板的制造方法中還包括對所述玻璃基板正面的至少一部分實施防眩處理的工序。

(56)一種保護玻璃的制造方法，其特征在于，

從(1)～(17)中任一項所述的玻璃基板裁切出多個保護玻璃，使得所述多個保護玻璃各自含有至少一個所述凹部。

(57)如(56)所述的保護玻璃的制造方法，其特征在于，

在將所述玻璃基板進行化學強化后，裁切出多個所述保護玻璃。

(58)如(56)所述的保護玻璃的制造方法，其特征在于，

在裁切出多個所述保護玻璃后，將各個所述保護玻璃進行化學強化。

(59)如(56)～(58)中任一項所述的保護玻璃的制造方法，其特征在于，

所述保護玻璃的正面和背面被研磨。

(60)如(56)～(59)中任一項所述的保護玻璃的制造方法，其特征在于，

對所述保護玻璃的背面進行印刷。

(61)如(60)所述的保護玻璃的制造方法，其特征在于，

通過在所述玻璃基板的背面設(shè)置所述凹部，從而在所述保護玻璃的背面設(shè)置凹部，

在所述保護玻璃的背面的凹部、和在所述保護玻璃的背面中未形成所述凹部的部分分別實施所述印刷。

(62)如(61)所述的保護玻璃的制造方法，其特征在于，

所述凹部的側(cè)面為與該凹部的底面平滑地連接的曲面形狀，

所述側(cè)面是通過移印法印刷的。

發(fā)明的效果

根據(jù)本發(fā)明，由于薄壁部的霧度值為8％以下，因而可以兼具薄壁部的平坦性和保護玻璃的美觀。即，薄壁部的霧度值為8％以下，該薄壁部的平坦性高，因而即便是在與凹部對應的位置配置有指紋認證傳感器(靜電容量式傳感器、超聲波式傳感器等。以下也僅稱為傳感器)的情況下，也可實現(xiàn)所期望的傳感能力。另外，假設(shè)在薄壁部的背面 設(shè)置有印刷層的情況下，薄壁部的平坦性低時，印刷中使用的墨不能進入薄壁部的背面的凹凸，美觀受損，但本發(fā)明的情況下，由于薄壁部的平坦性高，因而在印刷層的美觀方面優(yōu)異。另外，薄壁部的霧度值為8％以下，該薄壁部的透射率高，因而該薄壁部與厚壁部之間有統(tǒng)一感，可實現(xiàn)整體上美觀性優(yōu)異的保護玻璃。

另外，通過在玻璃構(gòu)件的一個面配置具有凹部形成用孔的第一掩模構(gòu)件、在另一面配置第二掩模構(gòu)件，然后實施蝕刻處理，由此可得到具有多個凹部的玻璃基板，因而非常簡便。

另外，如果從該玻璃基板按照各自包含至少一個凹部的方式進行裁切，則可得到多個保護玻璃，因而不需要像以往技術(shù)那樣準備具有保護玻璃的外形形狀的掩模。

附圖說明

圖1為保護玻璃的截面圖。

圖2為圖1中的II-II截面向視圖。

圖3中，(a)為圖2中的III-III截面圖，(b)為從Z方向觀察凹部的圖。

圖4為配置有傳感器的保護玻璃的截面圖。

圖5中，(a)為在正面設(shè)置有凹部的情況下的保護玻璃的截面圖，(b)為從Z方向觀察凹部的圖。

圖6為配置有傳感器的保護玻璃的截面圖。

圖7為在凹部設(shè)置有突出部的情況下的保護玻璃的截面圖。

圖8為玻璃基板的俯視圖。

圖9為圖8中的IX部分的放大圖。

圖10為圖8中的X部分的放大圖。

圖11為玻璃構(gòu)件的俯視圖。

圖12為設(shè)置有凹部的玻璃構(gòu)件的俯視圖。

圖13為第一掩模構(gòu)件的俯視圖。

圖14為第二掩模構(gòu)件的俯視圖。

圖15為變形例涉及的第一掩模構(gòu)件的俯視圖。

圖16為變形例涉及的玻璃基板的俯視圖。

圖17為變形例涉及的玻璃基板的俯視圖。

圖18為組裝進殼體后的保護玻璃的截面圖。

圖19為設(shè)置有印刷層的保護玻璃的截面圖。

圖20為設(shè)置有印刷層的保護玻璃的截面圖。

圖21為設(shè)置有印刷層的保護玻璃的截面圖。

圖22中，(a)～(d)為用于對在實施例3的保護玻璃上形成印刷層的順序進行說明的圖，是從背面?zhèn)扔^察保護玻璃的圖。

圖23中，(a)～(e)為用于對在實施例4的保護玻璃上形成印刷層的順序進行說明的圖，是從背面?zhèn)扔^察保護玻璃的圖。

圖24為設(shè)置有印刷層的實施例4的保護玻璃的截面圖。

圖25為設(shè)置有印刷層的實施例5的保護玻璃的截面圖。

圖26為從正面?zhèn)扔^察設(shè)置有印刷層的實施例5的保護玻璃的圖。

圖27為實施例5的變形例涉及的保護玻璃的截面圖。

圖28為從正面?zhèn)扔^察實施例5的變形例涉及的保護玻璃的圖。

圖29為從正面?zhèn)扔^察實施例5的變形例涉及的保護玻璃的圖。

圖30中，(a)～(f)為用于對在實施例6的保護玻璃上形成印刷層的順序進行說明的圖，是從背面?zhèn)扔^察保護玻璃的圖。

圖31為設(shè)置有印刷層的實施例6的保護玻璃的截面圖。

圖32為實施AG處理后的保護玻璃的俯視圖。

圖33為圖32的A-A截面圖。

圖34為變形例涉及的實施AG處理后的保護玻璃的俯視圖。

圖35為圖34的A’-A’截面圖。

圖36為施加AFP層后的保護玻璃的截面圖。

圖37是變形例涉及的施加AFP層后的保護玻璃的截面圖。

圖38是變形例涉及的施加AFP層后的保護玻璃的截面圖。

附圖標記說明

1 保護玻璃

2 角部

3 正面

4 揚聲器孔

5 背面

6 顯示區(qū)域

7 凹部

8 底面

9 側(cè)面

11 AG處理區(qū)域

12 AFP層

13 薄壁部

14 正面

15 背面

17 厚壁部

18 正面

19 背面

30～35 印刷層

40 傳感器

41 膠粘層

42 相機模塊

43 殼體

44 液晶層

45 膠粘層

101 玻璃基板

103 正面

107 凹部

113 薄壁部

117 厚壁部

120 槽部

121 第一標記

122 第二標記

201 玻璃構(gòu)件

203 正面

207 凹部

301 第一掩模構(gòu)件

307 凹部形成用孔

320 槽部形成用孔

401 第二掩模構(gòu)件

具體實施方式

以下，對本發(fā)明的實施方式進行說明，但本發(fā)明不限于以下實施方式。另外，在不脫離本發(fā)明的范圍的情況下可以對以下的實施方式施加各種變形和置換等。

(保護玻璃)

本實施方式涉及的保護玻璃用于保護任意的保護對象。以下，對以智能電話等便攜式信息終端作為保護玻璃的保護對象進行了說明，但作為保護對象可以應用任意的對象，能夠應用于例如液晶顯示器裝置等電子設(shè)備。

如圖1和圖2所示，本實施方式的保護玻璃1在整體上為平板狀的近似長方體，具有圖1上側(cè)的正面3、和與正面3相對的圖1下側(cè)的背面5。在本說明書中，正面是指包含保護玻璃1的組裝體(組件)的外側(cè)的面、即在通常使用狀態(tài)中使用者可接觸的面。另外，背面是指組裝體的內(nèi)側(cè)的面、即在通常使用狀態(tài)中使用者無法接觸的面。另外，在以下的說明中，以保護玻璃1的長邊方向為X方向，以短邊方向為Y方向，以厚度方向為Z方向。

在保護玻璃1的正面3或背面5形成至少一個凹部7。圖1和圖2 中示出了在保護玻璃1的背面5形成有一個凹部7的例子。凹部7形成于保護玻璃1的X方向端部附近且為Y方向中央部附近。需要說明的是，形成凹部7的位置只要是保護玻璃1的正面3或背面5，則可以設(shè)定在任意位置。而且，凹部7的數(shù)目也是任意的。

通過這樣設(shè)置凹部7，由此在保護玻璃1上在X方向和Y方向與凹部7重疊的位置處形成薄壁部13，并且形成與該薄壁部13的周邊部連接、Z方向厚度大于薄壁部13的厚壁部17。厚壁部17的正面18和背面19設(shè)置成平面形狀。另一方面，薄壁部13的正面14設(shè)置成平面形狀，背面15反映如后述那樣的凹部7的底面8的形狀。

圖3中更詳細示出了凹部7的形狀。如圖3(b)所示，從Z方向觀察時，凹部7為具有在X方向延伸的短邊和在Y方向延伸的長邊的近似矩形形狀。另外，凹部7具有近似平坦的底面8、和與底面8的周邊部連接的側(cè)面9。側(cè)面9設(shè)置成與底面8平滑地連接的曲面形狀(R形狀)。通過該構(gòu)成，底面8與側(cè)面9之間的連接部中的應力集中被松弛(緩和)，強度提高。特別是在凹部7中配置有指紋認證傳感器40的情況下(參見圖4)，由于每次認證都將手指壓貼于薄壁部13，因此對上述連接部反復施加力，因而具有在形狀上避免其局部的應力集中的效果。側(cè)面9的曲率半徑隨著從凹部7的中央部朝向周邊部而增大。即，側(cè)面9是隨著朝向X方向外側(cè)和Y方向外側(cè)而變得平緩的曲面。通過該構(gòu)成，在凹部7設(shè)置于保護玻璃1的正面3中時、而且在對應的背面5側(cè)配置有指紋認證傳感器的情況下(參見圖6)，向凹部7的手指進入性提高，可以自然地將指尖的中心部分引導至凹部7的底面8。因而，盡管側(cè)面9的曲率半徑因位置而異，但該曲率半徑在所有位置設(shè)定為底面8的深度d以上。通過該構(gòu)成，向凹部7的手指進入性提高，可以自然地將指尖的中心部分引導至凹部7的底面8。更具體而言，側(cè)面9的曲率半徑優(yōu)選為0.1mm以上且2mm以下、更優(yōu)選為0.2mm以上且1mm以下。假設(shè)側(cè)面9的曲率半徑小于0.1mm時，前述的提高強度的效果變?nèi)?，特別是在凹部7設(shè)置于保護玻璃1的正面3 的情況下(參見圖5和圖6)，難以用指尖、布等除去在底面8與側(cè)面9之間的連接部積存的灰塵等。另外，側(cè)面9的曲率半徑大于2mm的情況下，在后述的一次蝕刻工序中難以加工?？紤]在后述的一次蝕刻工序中的加工性時，側(cè)面9的曲率半徑相對于凹部7的深度d優(yōu)選為3倍以內(nèi)、更優(yōu)選為2倍以內(nèi)。

需要說明的是，如圖4所示，側(cè)面9與背面5之間的連接部分也優(yōu)選設(shè)成平滑地連續(xù)的曲面形狀。通過該連接部分設(shè)成沒有邊緣的曲面形狀，由此具有不易發(fā)生因掉落或與外部的堅硬構(gòu)件接觸而導致的缺損、破損的效果。為了使側(cè)面9與背面5之間的連接部分為平滑地連續(xù)的曲面形狀，也可以在形成凹部7后通過拋光輪研磨等對連接部分進行精加工。然而，在通過濕式蝕刻設(shè)置凹部7的情況下，也可以在蝕刻工序后通過保持比通常更長的直至將玻璃基板從蝕刻劑抽取出并剝離、清洗掩模為止的時間以使上述連接部分形成平滑地連續(xù)的曲面形狀。在通過蝕刻形成的凹部7的側(cè)面9與掩模之間的分界部分由于表面張力而殘留蝕刻劑，在與殘留的蝕刻劑接觸的側(cè)面9和背面9之間的連接部分處蝕刻盡管微弱但仍進行，因此該連接部分的邊緣成為平滑的連續(xù)曲面。出于該目的的保持時間可以根據(jù)所使用的蝕刻劑和玻璃基板的耐蝕刻性在幾秒至幾十分鐘之間進行調(diào)整。

如本實施方式那樣，在凹部7設(shè)置于保護玻璃1的背面5的情況下，薄壁部13的正面14的算術(shù)平均粗糙度Ra優(yōu)選為50nm以下、更優(yōu)選為45nm以下、進一步優(yōu)選為30nm以下。在凹部7設(shè)置于背面5的構(gòu)成中，如圖4所示，靜電容量式傳感器等指紋認證傳感器40經(jīng)由膠粘層41被配置于凹部7(薄壁部13的背面15)，且對與薄壁部13的正面14抵接的被檢測物(例如手指)進行檢測。因此，薄壁部13的正面14的算術(shù)平均粗糙度Ra為50nm以下時，由于與手指的指紋的凹凸程度相比充分小，因此在傳感靈敏度變高的方面為優(yōu)選。另外，在這樣的構(gòu)成中，保護玻璃1的正面3整個面變平坦，因而美觀度非常優(yōu)異。另外，薄壁部13的正面14的算術(shù)平均粗糙度Ra的下限沒有 特別限定，優(yōu)選為2nm以上、更優(yōu)選為4nm以上。需要說明的是，薄壁部13的正面14的算術(shù)平均粗糙度Ra可以通過研磨磨粒、研磨方法等的選擇而進行調(diào)整。

薄壁部13的背面15(凹部7的底面8和側(cè)面9)的算術(shù)平均粗糙度Ra更適合與薄壁部13的正面14同樣，優(yōu)選為50nm以下、更優(yōu)選為45nm以下、進一步優(yōu)選為30nm以下。薄壁部13的背面15的算術(shù)平均粗糙度Ra為50nm以下時，由于與手指的指紋的凹凸程度相比充分小，因此在傳感靈敏度高的方面為優(yōu)選。

算術(shù)平均粗糙度Ra可以基于日本工業(yè)標準JIS B0601進行測定。

需要說明的是，如圖5所示，凹部7可以設(shè)置于保護玻璃1的正面3。在這種情況下，薄壁部13的正面14、特別是凹部7的底面8的算術(shù)平均粗糙度Ra也優(yōu)選為50nm以下、更優(yōu)選為45nm以下、進一步優(yōu)選為30nm以下。在凹部7設(shè)置于正面3的構(gòu)成中，如圖6所示，指紋認證傳感器40配置于保護玻璃1的背面5中在Z方向上與凹部7相對的位置、即配置于薄壁部13的背面15。傳感器40通過膠粘層41配置于保護玻璃1的背面5。需要說明的是，在傳感器40被固定于殼體等的情況下，也可以不設(shè)置上述膠粘層41。與圖4的例子不同，傳感器40不配置于凹部7，因而在X、Y、Z方向之中至少一個方向上可以使傳感器40的尺寸大于凹部7的尺寸。因此，通過將尺寸較大的傳感器配置于薄壁部13的背面15，能夠增強薄壁部13。并且，該傳感器40對與薄壁部13的正面14、特別是凹部7的底面8抵接的被檢測物進行檢測。因此，凹部7的底面8的算術(shù)平均粗糙度Ra為50nm以下時，由于與手指的指紋的凹凸程度相比充分小，因此在傳感靈敏度高的方面為優(yōu)選。另外，在這樣的構(gòu)成中，便攜式信息終端的使用者能夠根據(jù)凹部7通過視覺、觸覺等容易地識別薄壁部13的位置和配置于薄壁部13的背面15的傳感器的位置。另外，凹部7的底面8的算術(shù)平均粗糙度Ra的下限沒有特別限定，優(yōu)選為2nm以上、更優(yōu)選為 4nm以上。需要說明的是，凹部7的底面8的算術(shù)平均粗糙度Ra可以通過在設(shè)置凹部7時的蝕刻條件等進行調(diào)整。

與薄壁部13的正面14同樣，薄壁部13的背面15的算術(shù)平均粗糙度Ra優(yōu)選為50nm以下、更優(yōu)選為45nm以下、進一步優(yōu)選為30nm以下。薄壁部13的背面15的算術(shù)平均粗糙度Ra為50nm以下時，由于與手指的指紋的凹凸程度相比充分小，因此在傳感靈敏度高的方面為優(yōu)選。

需要說明的是，如圖6所示，側(cè)面9與正面3之間的連接部分也優(yōu)選為平滑地連續(xù)的曲面形狀。通過將該連接部分設(shè)為沒有邊緣的曲面形狀，由此具有如下效果：手指不會被邊緣鉤掛，從而指頭進入性進一步提高，并且不易發(fā)生因掉落或與外部的堅硬構(gòu)件接觸而導致的缺損、破損。

薄壁部13的霧度值(霧度)優(yōu)選為8％以下、進一步優(yōu)選為7％以下。通過使薄壁部13的霧度值為8％以下，可以兼具薄壁部13的平坦性和保護玻璃1的美觀性。即，薄壁部13的霧度值為8％以下，該薄壁部13的平坦性高，因而如上所述，即便是在與凹部7對應的位置配置有指紋認證傳感器的情況下，也可以實現(xiàn)所期望的傳感能力。

另外，在對薄壁部13的背面15進行了印刷的情況下，薄壁部13的平坦性會對印刷層的平坦性造成影響。通過使薄壁部13的霧度值為8％以下，可以確保不會對傳感器靈敏度造成影響的平坦性。另一方面，在薄壁部13的霧度值大于8％的情況下，印刷中使用的墨不能完全進入在薄壁部13的正面形成的凹凸中，將保護玻璃1安裝至保護對象中后外觀變差。

另外，通過使薄壁部13的霧度值為8％以下而提高該薄壁部13的透射率，由此在薄壁部13與厚壁部17之間有統(tǒng)一感，可以實現(xiàn)整體 上美觀性優(yōu)異的保護玻璃。

需要說明的是，厚壁部17的霧度值為1％以下、優(yōu)選為0.5％以下、進一步優(yōu)選為0.2％以下。這樣，與通過蝕刻處理等形成的薄壁部13相比，厚壁部17具有高的平坦性和透射率。因此，假如是薄壁部13的霧度值大于8％的情形，相對于具有高透射率的厚壁部17，薄壁部13變模糊，保護玻璃1整體上的設(shè)計性變差。

需要說明的是，薄壁部13的霧度值可以通過在設(shè)置凹部7時的蝕刻條件等而進行調(diào)整。霧度值基于日本工業(yè)標準JIS K 7136進行測定。

如圖7所示，凹部7的底面8可以設(shè)成隨著朝向中心部而向Z方向上突出的形狀。由此，突出的部位的指觸感變好。底面8的突出部的中心部(最突出的部分)的Z方向厚度t優(yōu)選為5μm以上且20μm以下。底面8的突出部的Z方向厚度t為20μm以上的情況下，傳感器誤識別的可能性升高，在5μm以下的情況下，不能用指觸的感覺來確認變化。需要說明的是，底面8的突出部的有無、和突出部的Z方向厚度可以通過在設(shè)置凹部7時的蝕刻條件等而進行調(diào)整。底面8的突出部的Z方向厚度t可以用例如株式會社基恩士制的激光位移計LT-9000進行測定。

保護玻璃1優(yōu)選為化學強化玻璃?；瘜W強化玻璃在其表層具有得自化學強化處理的壓縮應力層，因此可以得到高的機械強度。

為了提高平滑性，優(yōu)選對保護玻璃1的正面3和背面5進行了研磨加工。例如，使用絨面革墊，以包含氧化鈰或硅膠的研磨漿料作為研磨劑來進行時，則可以除去存在于保護玻璃1的正面3和背面5的傷痕(裂紋)、保護玻璃1的撓曲和凹陷，保護玻璃1的強度提高。該研磨可以在保護玻璃1的化學強化前后的任一時期進行，優(yōu)選在化學強化后進行。其原因為，對于實施了通過離子交換而進行化學強化 后的強化玻璃板而言，在其正面和背面產(chǎn)生缺陷。另外，有時殘留最大1μm左右的微細的凹凸。在力作用于玻璃板的情況下，在前述的缺陷、微細凹凸所存在的部位應力集中，有時即便是小于理論強度的力也可破裂。因此，通過研磨除去在化學強化后的玻璃板的表面存在的具有缺陷和微細凹凸的層(缺陷層)。需要說明的是，存在缺陷的缺陷層的厚度也取決于化學強化的條件，但通常為0.01～0.5μm。

另外，如上所述，本實施方式的保護玻璃1不限于便攜式信息終端的保護用途，特別是在用于保護便攜式信息終端的情況下，厚壁部17的Z方向厚度為2mm以下、優(yōu)選為1.5mm以下、更優(yōu)選為0.8mm以下。其原因是由于，在比2mm厚的情況下，與薄壁部13的厚度之差變大，除了變得難以加工之外，在便攜式信息終端的使用中還增加重量。另外，為了提高厚壁部17的剛性，厚壁部17的Z方向厚度為0.1mm以上、優(yōu)選為0.15mm以上、更優(yōu)選為0.2mm以上。在比0.1mm薄的情況下，剛性變得過低，有可能不能用于保護便攜式信息終端。

另外，薄壁部13的Z方向厚度為0.4mm以下、優(yōu)選為0.35mm以下、更優(yōu)選為0.3mm以下、進一步優(yōu)選為0.25mm以下、特別優(yōu)選為0.2mm以下、最優(yōu)選為0.1mm以下。特別是在薄壁部13的背面15配置有靜電容量式傳感器的情況下，薄壁部13越薄，則所檢測的靜電容量越大，傳感靈敏度提高。例如，在對指尖的指紋的微細凹凸進行檢測的指紋認證的情況下，由于與指尖的指紋的微細凹凸對應的靜電容量之差變大，因此可以進行高傳感靈敏度的檢測。另一方面，薄壁部13的Z方向厚度的下限沒有特別限定，但薄壁部13變得過薄時，強度下降，有難以發(fā)揮作為傳感器等的保護部的合適功能的趨勢。因此，薄壁部13的Z方向厚度例如為0.01mm以上、優(yōu)選為0.05mm以上。相對于薄壁部13的Z方向厚度，厚壁部17的Z方向厚度優(yōu)選為10倍以下、更優(yōu)選為8倍以下。厚壁部17的Z方向厚度相對于薄壁部13的Z方向厚度為10倍以上時，有可能發(fā)生加工困難。厚壁部17的Z方向厚度相對于薄壁部13的Z方向厚度的比沒有特定下限值，可以根 據(jù)用途進行設(shè)定。在便攜式信息終端的保護用途中，典型而言為1.5倍以上。薄壁部13的面積相對于厚壁部17的面積的比為1/2以下、優(yōu)選為1/3以下、更優(yōu)選為1/4以下。薄壁部13相對于厚壁部17的面積比大于1/2時，強度有可能顯著受損。

薄壁部13的楊氏模量為60GPa以上、優(yōu)選為65GPa以上、更優(yōu)選為70GPa以上。薄壁部13的楊氏模量為60GPa以上時，可以充分防止因與來自外部的碰撞物的碰撞而導致的薄壁部13的破損。另外，在指紋認證傳感器配置于凹部7的情況下，可以充分防止因智能電話等的掉落、碰撞而導致的薄壁部13的破損。此外，可以充分防止由薄壁部13保護的傳感器的破損等。另外，薄壁部13的楊氏模量的上限沒有特別限定，從生產(chǎn)率的觀點出發(fā)，薄壁部13的楊氏模量例如為200GPa以下、優(yōu)選為150GPa以下。

薄壁部13的維氏硬度Hv優(yōu)選為400以上、更優(yōu)選為500以上。薄壁部13的維氏硬度為400以上時，可以充分防止因與來自外部的碰撞物的碰撞而導致的薄壁部13的擦傷。另外，在指紋認證傳感器配置于凹部7的情況下，可以充分防止因智能電話等的掉落、碰撞而導致的薄壁部13的擦傷。此外，可以充分防止由薄壁部13保護的傳感器的破損等。另外，薄壁部13的維氏硬度的上限沒有特別限定，過高時有時難以研磨、加工。因此，該化學強化玻璃的維氏硬度例如為1200以下、優(yōu)選為1000以下。需要說明的是，維氏硬度例如可以通過在日本工業(yè)標準JIS Z 2244中記載的維氏硬度試驗進行測定。

薄壁部13的頻率1MHz下的相對介電常數(shù)優(yōu)選為7以上、更優(yōu)選為7.2以上、進一步優(yōu)選為7.5以上。在靜電容量式傳感器配置于薄壁部13的背面15的情況下，通過提高薄壁部13的相對介電常數(shù)，可以增大所檢測的靜電容量，從而可以實現(xiàn)優(yōu)異的傳感靈敏度。特別是薄壁部13的頻率1MHz下的相對介電常數(shù)為7以上時，即便在對指尖的指紋的微細凹凸進行檢測的指紋認證的情況下，由于與指尖的指紋的 微細凹凸對應的靜電容量之差變大，因此可以進行高傳感靈敏度的檢測。另外，對于薄壁部13的相對介電常數(shù)的上限沒有特別限定，但過高時，介電損耗增大，電能消耗增加，并且有時反應變慢。因此，薄壁部13的頻率1MHz下的相對介電常數(shù)例如優(yōu)選為20以下、更優(yōu)選為15以下。相對介電常數(shù)通過對在保護玻璃1的雙面制作有電極的電容器的靜電容量進行測定而得到。

優(yōu)選在保護玻璃1的背面5設(shè)置印刷層。特別是，如圖3所示，在凹部7設(shè)置于保護玻璃1的背面的情況下，優(yōu)選在凹部7(薄壁部13的背面15)也設(shè)置印刷層。通過設(shè)置這樣的印刷層，可以有效地防止隔著保護玻璃1看到作為保護玻璃1的保護對象的便攜式信息終端、配置于薄壁部13的背面15的指紋認證傳感器。另外，可以賦予所期望的顏色，可得到優(yōu)異的美觀性。對于印刷層的厚度而言，為了維持高的保護玻璃1(薄壁部13)的靜電容量，印刷層的厚度越薄越好。印刷層的厚度優(yōu)選為30μm以下、更優(yōu)選為25μm以下、特別優(yōu)選為10μm以下。但是，使用了包含相對介電常數(shù)高的化合物的墨(例如包含TiO₂的墨)的白印刷中，由于印刷層的相對介電常數(shù)高，因而印刷層的厚度優(yōu)選為100μm以下、更優(yōu)選為50μm以下、特別優(yōu)選為25μm以下。

在保護玻璃1的背面5設(shè)置印刷層的情況下，配置于該印刷層的背面中與凹部7在Z方向上相對的位置(薄壁部13的背側(cè))。因此，印刷層的表面的算術(shù)平均粗糙度Ra優(yōu)選為50nm以下、更優(yōu)選為45nm以下、進一步優(yōu)選為30nm以下。更適合的是，背面的算術(shù)平均粗糙度Ra也優(yōu)選為50nm以下、更優(yōu)選為45nm以下、進一步優(yōu)選為30nm以下。印刷層的正面和背面的算術(shù)平均粗糙度Ra為50nm以下時，由于與手指的指紋的凹凸程度相比充分小，因此在傳感靈敏度高的方面為優(yōu)選。另外，印刷層的正面和背面的算術(shù)平均粗糙度Ra的下限沒有特別限定，優(yōu)選為2nm以上、更優(yōu)選為4nm以上。

根據(jù)這樣的保護玻璃1，在為了保護便攜式信息終端的任意面(例如正面、側(cè)面)而被組裝入殼體等中時，可以在薄壁部13的背面15配置指紋認證傳感器。此處，在薄壁部13的背面15裝入的傳感器通過與Z方向相對的薄壁部13而被保護，因而可以在不合用傳感器蓋等不同種類材料的情況下實現(xiàn)材料一致而具有統(tǒng)一感的設(shè)計性優(yōu)異的保護玻璃1。另外，構(gòu)件數(shù)目少即可，可以簡化組裝工序，因而對削減成本也有很大的效果。此外，由于使得用于裝入其它構(gòu)件的保護玻璃開口減少，因此易于賦予防水、防滴性。

上述的保護玻璃1是通過從如圖8所示的設(shè)置有多個凹部107的玻璃基板101按照包含至少一個凹部107的方式裁切出而得到的。因此，首先，說明玻璃基板101的構(gòu)成，對該玻璃基板101的制造方法進行說明，然后對保護玻璃1的制造方法進行詳細描述。

(玻璃基板)

圖8中示出了用于裁切出多個對保護對象進行保護的保護玻璃1的玻璃基板101。圖8中，被裁切出的保護玻璃1的外形以虛線表示，通過以沿該虛線的方式切割玻璃基板101，可以得到多個保護玻璃1。

在玻璃基板101的正面103(圖8中近身側(cè)的面)或背面中的一個面設(shè)置有多個凹部107。圖8中示出了在玻璃基板101的正面103設(shè)置有多個凹部107的例子。需要說明的是，如后述的那樣，多個凹部107通過對正面103進行蝕刻處理而設(shè)置。

玻璃基板101具備通過設(shè)置多個凹部107而形成的多個薄壁部113、和與多個薄壁部113連接的厚壁部117。多個凹部107在X方向和Y方向每隔預定間隔而設(shè)置。因此，薄壁部113也在X方向和Y方向每隔預定間隔而設(shè)置。需要說明的是，多個凹部107不是必須要每隔預定間隔而設(shè)置。然而，為了提高在裁切出多個保護玻璃1時的空間效率，如圖8所示，優(yōu)選每隔預定間隔設(shè)置多個凹部107從而使各 保護玻璃1無間隙地鋪滿。

此處，玻璃基板101的凹部107和薄壁部113的構(gòu)成(形狀、尺寸等)具有與上述的保護玻璃1的凹部7和薄壁部13相同的構(gòu)成。即，薄壁部113的表面的算術(shù)平均粗糙度Ra優(yōu)選為50nm以下、更優(yōu)選為45nm以下、進一步優(yōu)選為30nm以下。薄壁部113的霧度值優(yōu)選為8％以下、進一步優(yōu)選為7％以下。玻璃基板101的凹部107的底面也可以與保護玻璃1的凹部7同樣(參見圖7)設(shè)為隨著朝向中心部而突出的形狀。

與保護玻璃1的凹部7的側(cè)面9同樣(參見圖3～圖7)，玻璃基板101的凹部107的側(cè)面優(yōu)選為與該凹部107的底面平滑地連接的曲面形狀。凹部107的側(cè)面的曲率半徑優(yōu)選隨著從凹部107的中央部朝向周邊部而增大。凹部107的側(cè)面的曲率半徑優(yōu)選設(shè)定為該凹部107的底面的深度以上。凹部107的側(cè)面的曲率半徑優(yōu)選為0.1mm以上且2mm以下。與保護玻璃1的凹部7的側(cè)面9和正面3或背面5之間的連接部分同樣(參見圖4和圖7)，凹部107的側(cè)面與正面103或背面之間的連接部分優(yōu)選為平滑地連續(xù)的曲面形狀。

如圖9和圖10所示，在玻璃基板101的正面103或背面的至少一個面設(shè)置有用于在裁切出多個保護玻璃1時進行位置對準的多個第一標記121和第二標記122。圖9和圖10中，各保護玻璃1的外形(圖8～圖10的虛線)的X方向的延長線以A表示，Y方向的延長線以B表示。第一標記121在保護玻璃1的附近以夾著X方向延長線A的方式一對一對地配置，并且以夾著Y方向延長線B的方式一對一對地配置。每個第一標記121包括一對第一標記片121a。第一標記片121a是由垂直的二個邊構(gòu)成的近似L字形狀。彼此相鄰的第一標記片121a的一邊隔著微小的間隙相對。第二標記122分別配置于玻璃基板101的四角。第二標記122為由垂直的二個邊構(gòu)成的近似十字形狀。構(gòu)成第二標記122的二邊之中，與X方向延長線A平行的邊其一部分與Y方 向延長線B相交，與Y方向延長線B平行的邊其一部分與X方向延長線A相交。

從玻璃基板101切割裁切出保護玻璃1時，讀取第二標記122的位置來選擇切割部位，確認切割線來到了第一標記121的中間部(X方向延長線A或Y方向延長線B)，可以確認進行了準確的切割。

(玻璃基板的制造方法)

接著，對玻璃基板101的制造方法進行說明。首先，將各成分的原料進行調(diào)配使得形成后述的組成，在玻璃熔爐中加熱熔融。通過鼓泡、攪拌、澄清劑的添加等使玻璃均質(zhì)化，通過公知的成形法成形為預定厚度的玻璃板，進行緩冷。作為玻璃的成形法，可列舉例如浮法、沖壓法、熔融法、下拉法和輥鋪法。特別優(yōu)選適于大量生產(chǎn)的浮法。另外，也優(yōu)選浮法以外的連續(xù)成形法、即熔融法和下拉法。通過任意成形法成形為平板狀的玻璃構(gòu)件在被緩冷后切割成所期望的尺寸(玻璃構(gòu)件201的尺寸)。需要說明的是，在需要更準確的尺寸精度的情況等中，可以對切割后的玻璃構(gòu)件實施研磨加工。由此，可以得到如圖11所示的具有平面狀的正面203和背面、整體上為平板狀的玻璃構(gòu)件201。

接下來，轉(zhuǎn)向用于在玻璃構(gòu)件201的正面203或背面中的一個面設(shè)置凹部的凹部形成工序。在以下說明的例子中，如圖12所示，凹部207設(shè)置于玻璃構(gòu)件201的正面203。在凹部形成工序中，在玻璃構(gòu)件201的正面203配置如圖13所示的第一掩模構(gòu)件301，并且在玻璃構(gòu)件201的背面配置如圖14所示的第二掩模構(gòu)件401，然后對玻璃構(gòu)件201實施蝕刻處理。

第一掩模構(gòu)件301的X方向尺寸和Y方向尺寸設(shè)定成能夠覆蓋玻璃構(gòu)件201的整個正面203。在圖13的例子中，第一掩模構(gòu)件301的X方向尺寸和Y方向尺寸大致等于玻璃構(gòu)件201的X方向尺寸和Y方 向尺寸。此外，在第一掩模構(gòu)件301上，在X方向和Y方向每隔預定間隔設(shè)置多個用于在玻璃構(gòu)件201形成多個凹部207的凹部形成用孔307。由此，蝕刻劑經(jīng)由多個凹部形成用孔307到達玻璃構(gòu)件201的正面203，形成多個凹部207。

第二掩模構(gòu)件401的X方向尺寸和Y方向尺寸設(shè)定成能夠覆蓋玻璃構(gòu)件201的整個背面。在圖14的例子中，第一掩模構(gòu)件301的X方向尺寸和Y方向尺寸大致等于玻璃構(gòu)件201的X方向尺寸和Y方向尺寸。第二掩模構(gòu)件401覆蓋玻璃構(gòu)件201的整個背面，防止該背面被蝕刻。

第一掩模構(gòu)件301和第二掩模構(gòu)件401的材料包括例如作為感光性有機材料特別是作為感光性樹脂材料的抗蝕劑、樹脂、金屬膜、陶瓷等耐蝕刻劑性材料。凹部形成用孔307在抗蝕劑的情況下通過進行預定的曝光、顯影而形成。

蝕刻方法可以為濕式蝕刻和干式蝕刻中的任一種，但從成本的觀點出發(fā)優(yōu)選為濕式蝕刻。作為蝕刻劑，濕式蝕刻的情況下可列舉以氫氟酸為主要成分的溶液，干式蝕刻的情況下可列舉氟系氣體等。

另外，優(yōu)選使玻璃構(gòu)件201和蝕刻劑在與玻璃構(gòu)件201的正面203或背面平行的方向(XY方向)相對移動的同時進行蝕刻處理。這樣的蝕刻可以使玻璃構(gòu)件201在XY方向擺動的同時進行，也可以通過使蝕刻劑產(chǎn)生在XY方向的流動來進行，也可以組合這兩種來進行。基本上，蝕刻處理對于玻璃構(gòu)件201是各向同性地進行的，因此第一掩模構(gòu)件301的凹部形成用孔307的開口邊正下方處，還以與所蝕刻的深度同等的半徑向側(cè)面方向進行蝕刻，可以使玻璃構(gòu)件201的凹部207的側(cè)面與保護玻璃1的凹部7同樣(參見圖3～圖7)地設(shè)成與該凹部207的底面平滑地連接的曲面形狀。另外，對于蝕刻處理，如果使玻璃構(gòu)件201和蝕刻劑在與玻璃構(gòu)件201的正面203或背面平行的方向(XY方 向)上相對移動的同時進行蝕刻，則隨著蝕刻的進行，產(chǎn)生從第一掩模構(gòu)件301的凹部形成用孔307的開口邊起向玻璃構(gòu)件201的凹部207側(cè)帶入的流動，從凹部207周邊部向側(cè)面的流速比從凹部207中央部向側(cè)面的流速快，因此從凹部207周邊至側(cè)面?zhèn)鹊奈g刻速率相對地提高，可以使凹部207的側(cè)面的曲率半徑隨著從凹部207的中央部朝向周邊部而增大。另外，可以使凹部207的側(cè)面的曲率半徑為該凹部207的底面的深度以上。另外，通過調(diào)整蝕刻處理時間以及玻璃構(gòu)件201與蝕刻劑的相對移動速度，可以將凹部107的側(cè)面的曲率半徑調(diào)整為0.1mm以上且2mm以下。此外，如上述那樣，通過使玻璃構(gòu)件201和蝕刻劑在與玻璃構(gòu)件201的正面203或背面平行的方向(XY方向)相對地移動的同時進行蝕刻，由此可以使凹部207的底面為隨著朝向中心部而突出的形狀。

另外，為了使凹部207的底面的算術(shù)平均粗糙度Ra、即通過設(shè)置凹部207而形成的薄壁部的表面的算術(shù)平均粗糙度Ra為50nm以下，按照提高玻璃構(gòu)件201正面的蝕刻液的流動性的方式進行蝕刻處理即可。另外，為了使上述薄壁部的霧度值為8％以下，按照提高玻璃構(gòu)件201正面的蝕刻液的流動性的方式進行蝕刻處理即可。另外，為了使凹部207的底面為隨著朝向中心部而突出的形狀，按照制造出蝕刻液碰到凹部207的角部的流動的方式進行蝕刻處理即可。

在玻璃構(gòu)件201的正面203或背面中的一個面設(shè)置凹部的方法不限于上述那樣的利用蝕刻處理的方法，也可以是利用機械加工的方法。該利用機械加工的方法中，使用加工中心機、其它數(shù)控機床，使砂輪接觸玻璃構(gòu)件201的正面203或背面并進行旋轉(zhuǎn)移位，形成預定尺寸的凹部207。例如，使用利用電沉積或金屬結(jié)合劑固定有金剛石磨粒、CBN磨粒等的砂輪，以主軸轉(zhuǎn)速100～30,000rpm、切削速度1～10,000mm/min進行磨削。

接下來，可以對凹部207的底面和側(cè)面進行研磨加工。研磨加工 工序中，使旋轉(zhuǎn)磨具的研磨加工部以各自獨立的一定壓力分別與凹部207的底面和側(cè)面接觸，以一定速度進行相對地移動而進行。通過在一定壓力、一定速度的條件下進行研磨，可以以一定的研磨速率對磨削面進行均勻研磨。作為旋轉(zhuǎn)磨具的研磨加工部的接觸時的壓力，從經(jīng)濟性和易控制性等方面考慮，優(yōu)選為1～1,000,000Pa。從經(jīng)濟性和易控制性等方面考慮，速度優(yōu)選為1～10,000mm/min。移動量根據(jù)玻璃構(gòu)件201的形狀、尺寸合適確定。對于旋轉(zhuǎn)磨具而言，只要其研磨加工部是可進行研磨的旋轉(zhuǎn)體就沒有特別限定，可列舉具有工具卡緊部的轉(zhuǎn)子、使磨具安裝于刳刨機(leutor)的方式等。作為旋轉(zhuǎn)磨具的材質(zhì)，只要至少其研磨加工部為鈰墊、橡膠砂輪、毛氈拋光輪、聚氨酯等可加工除去被加工物且楊氏模量優(yōu)選為7GPa以下、進一步優(yōu)選為5GPa以下的材質(zhì)，就不限定種類。通過使旋轉(zhuǎn)磨具的材質(zhì)使用楊氏模量7GPa以下的構(gòu)件，由此能夠利用壓力使研磨加工部沿凹部207的形狀變形，從而將底面和側(cè)面加工成上述預定的表面粗糙度。旋轉(zhuǎn)磨具的研磨加工部的形狀可列舉圓或環(huán)型的平臺、圓柱型、炮彈型、盤型、桶型等。

在使旋轉(zhuǎn)磨具的研磨加工部接觸凹部207的底面和側(cè)面進行研磨的情況下，優(yōu)選在夾雜有研磨磨粒漿料的狀態(tài)下進行加工。在此情況下，作為研磨磨粒，可列舉二氧化硅、氧化鈰、剛玉、白剛玉(WA)、金剛砂、氧化鋯、SiC、金剛石、二氧化鈦、氧化鍺等，其粒度優(yōu)選為10nm～10μm。旋轉(zhuǎn)磨具的相對移動速度如上所述可以在1～10,000mm/min的范圍中選定。旋轉(zhuǎn)磨具的研磨加工部的轉(zhuǎn)速為100～10,000rpm。轉(zhuǎn)速小時加工速率變慢，有時為了形成所期望的表面粗糙度而耗費過多時間，轉(zhuǎn)速大時加工速率變快或者工具的磨耗嚴重，因此有時難以控制研磨。

在如上述那樣使旋轉(zhuǎn)磨具以各自獨立的壓力與凹部207的底面和側(cè)面接觸進行研磨加工的情況下，壓力的調(diào)節(jié)可以使用氣動活塞、測壓元件等。例如，如果設(shè)置使旋轉(zhuǎn)磨具朝向凹部207的底面進退的氣動活塞和使旋轉(zhuǎn)磨具朝向凹部207的側(cè)面進退的另一氣動活塞，則可 以調(diào)整研磨加工部對凹部207的底面和側(cè)面的壓力。如此，使對凹部207的底面和側(cè)面的壓力獨立，使旋轉(zhuǎn)磨具以獨立的一定壓力與各個面接觸的同時使單獨的旋轉(zhuǎn)磨具以一定速度相對地移動，由此可以同時以獨立的研磨速率對各個面進行均勻地研磨。

需要說明的是，可以按照沿著凹部207的形狀的方式使旋轉(zhuǎn)磨具和玻璃構(gòu)件201相對地移動而進行研磨加工。移動的方式只要是可恒定控制移動量、方向、速度的方式就可以為任何方式。例如，可列舉使用多軸機械臂等的方式等。

對于如以上那樣形成有多個凹部207的玻璃構(gòu)件201(參見圖12)，用激光刻印或印刷等方法賦予第一標記121和第二標記122，可得到如圖8所示的玻璃基板101。然后，通過讀取第二標記122的部位以確定切割位置，并且利用金剛石切刀等切割工具切割玻璃基板101，由此裁切出多個保護玻璃1。之后，以切割線通過一對第一標記121的中間部(X方向延長線A或Y方向延長線B)來確認按所期望的形狀裁切出了保護玻璃1。

需要說明的是，如圖15所示，第一掩模構(gòu)件301可以具有與多個保護玻璃1的外形對應的槽部形成用孔320。使用這樣的第一掩模構(gòu)件301進行蝕刻的情況下，如圖16所示，在玻璃基板101的正面103設(shè)置與多個保護玻璃1的外形對應的槽部120。然后，沿著槽部120切割玻璃基板101，由此可以裁切出多個保護玻璃1。如此，通過預先在玻璃基板101設(shè)置與保護玻璃1的外形對應的槽部120，可以更準確地裁切出保護玻璃1。

另外，如圖17所示，可以按照各自包含多個凹部107的方式從玻璃基板101裁切出多個保護玻璃1。例如，如圖18所示，在應該配置于保護玻璃1內(nèi)側(cè)的傳感器40、相機模塊42等各種裝置的數(shù)量為多個的情況下，設(shè)置與該傳感器40、相機模塊42等的個數(shù)相同數(shù)量的凹部 107即可。

圖18中示出了將傳感器40、相機模塊42和液晶層44容納于智能電話等的殼體43中的狀態(tài)。此處，液晶層44經(jīng)由膠粘層45固定于保護玻璃1的背面5(厚壁部17的背面19)。另外，相機模塊42的透鏡側(cè)的前端部被固定于殼體43。在這樣的構(gòu)成中，相機模塊42的前端部有時延伸至殼體43的更外側(cè)。然而，如圖示的例子那樣，在與相機模塊42相對的位置中，保護玻璃1的背面5設(shè)置有凹部7，由此可以在該凹部7中容納相機模塊42的底部而吸收該相機模塊42的厚度，可以對包含向薄壁化發(fā)展的設(shè)備的相機部的齊平表面化(flush surface)做出貢獻。另外，也可以顛倒相機模塊42的前端部和底部，從而可將相機模塊42的透鏡固定于保護玻璃1的凹部7。由此，保護玻璃1的凹部7像常用于單反相機的透鏡的“鏡頭保護蓋”那樣發(fā)揮功能，有保護相機透鏡和防止塵埃侵入的效果。需要說明的是，這種情況下，凹部7的底面(薄壁部13的背面15)需要光學研磨，凹部7的側(cè)面需要被遮光?？梢栽诎疾?、薄壁部13的正面14形成不易附著指紋的AFP膜、MgF₂等防反射膜等。

另外，凹部107的形狀沒有特別限定，可以應用任意的形狀。例如，從凹部107的Z方向觀察的截面形狀不限于矩形形狀，可以應用例如圓形狀、近似橢圓形狀、橢圓形狀、三角形形狀等。

(保護玻璃的制造方法)

接著，對保護玻璃1的制造方法進行說明。如上所述，通過從玻璃基板101按照各自包含至少一個凹部107的方式裁切出多個保護玻璃1，由此可以得到如圖1～圖7所示的保護玻璃1。需要說明的是，保護玻璃1可以是具有一個以上彎曲部的玻璃。另外，凹部7可以形成于上述彎曲部，也可以形成于彎曲后的側(cè)面。

此處，可以在將玻璃基板101進行化學強化后裁切出多個保護玻 璃1，也可以在裁切出多個保護玻璃1后對各保護玻璃1進行化學強化。對于前者的情況，可以以大板的狀態(tài)進行研磨、化學強化的工序，可以使這些工序效率化。對于后者的情況，即便研磨裝置、離子交換浴等設(shè)備為小型設(shè)備也可以應對，并且連保護玻璃1端面也被化學強化，因而容易提高端面強度。

化學強化是指，將玻璃的表層的離子半徑小的堿離子(例如鈉離子)置換成離子半徑大的堿離子(例如鉀離子)。作為化學強化的方法，只要是能夠使玻璃的表層的堿離子與離子半徑更大的堿離子進行離子交換就沒有特別限定，例如可以通過將包含鈉離子的玻璃在包含鉀離子的熔融鹽中進行處理來進行。由于進行了這樣的離子交換處理，因此玻璃表層的壓縮應力層的組成與離子交換處理前的組成有若干不同，但基板厚度中央部的組成與離子交換處理前的組成幾乎相同。

使用含有鈉離子的玻璃作為被實施化學強化的玻璃的情況下，用于進行化學強化處理的熔融鹽優(yōu)選為至少包含鉀離子的熔融鹽。作為這樣的熔融鹽，可以合適列舉例如硝酸鉀。作為熔融鹽，優(yōu)選使用純度高的熔融鹽。

另外，熔融鹽可以是含有其它成分的混合熔融鹽。作為其它成分，可列舉例如硫酸鈉和硫酸鉀等硫酸堿金屬鹽；以及氯化鈉和氯化鉀等氯化堿金屬鹽；碳酸鈉、碳酸鉀等碳酸鹽；碳酸氫鈉、碳酸氫鉀等碳酸氫鹽等。

熔融鹽的加熱溫度優(yōu)選為350℃以上、更優(yōu)選為380℃以上、進一步優(yōu)選為400℃以上。另外，熔融鹽的加熱溫度優(yōu)選為500℃以下、更優(yōu)選為480℃以下、更優(yōu)選為450℃以下。通過使熔融鹽的加熱溫度為350℃以上，由此防止因離子交換速度下降導致化學強化難以進行。另外，通過使熔融鹽的加熱溫度為500℃以下，可以抑制熔融鹽的分解、劣化。

為了賦予充分的壓縮應力，使玻璃與熔融鹽接觸的時間優(yōu)選為1小時以上、更優(yōu)選為2小時以上。另外，在長時間的離子交換中，生產(chǎn)率降低、且壓縮應力值因松弛而下降，因此優(yōu)選為24小時以下、更優(yōu)選為20小時以下。例如，使玻璃在例如400～450℃的硝酸鉀熔融鹽中浸漬2～24小時。

對于化學強化后的保護玻璃1，在表層形成有壓縮應力層。壓縮應力層的表面壓縮應力(Compressive Stress；CS)優(yōu)選為300MPa以上、更優(yōu)選為400MPa以上。CS可以使用表面應力計(例如折原制作所制的FSM-6000)等進行測定。

通過化學強化使玻璃表層的鈉離子與熔融鹽中的鉀離子進行離子交換的情況下，通過化學強化產(chǎn)生的表面壓縮應力層的深度(Depth of Layer；DOL)可以通過任意方法進行測定，例如可以利用EPMA(electron probe micro analyzer、電子探針顯微分析儀)進行玻璃的深度方向的堿離子濃度分析(該例子的情況下為鉀離子濃度分析)，可以將通過測定得到的離子擴散深度視為DOL。另外，DOL也可以使用表面應力計(例如折原制作所制的FSM-6000)等進行測定。另外，在使玻璃表層的鋰離子與熔融鹽中的鈉離子進行離子交換的情況下，利用EPMA進行玻璃的深度方向的鈉離子濃度分析，將通過測定得到的離子擴散深度視為DOL。

保護玻璃1(保護玻璃)的內(nèi)部拉伸應力(Central Tension；CT)優(yōu)選為200MPa以下、更優(yōu)選為150MPa以下、進一步優(yōu)選為100MPa以下、最優(yōu)選為80MPa以下。需要說明的是，將保護玻璃1的厚度設(shè)為t時，CT通常可以通過關(guān)系式CT＝(CS×DOL)/(t-2×DOL)近似地求出。

實施化學強化前的玻璃基板101或保護玻璃1的應變點優(yōu)選為530 ℃以上。這是由于通過使化學強化前的玻璃基板101或保護玻璃1的應變點為530℃以上，由此不易產(chǎn)生表面壓縮應力的松弛。

為了減少對薄壁部13的強化時有時產(chǎn)生的翹曲，可以在薄壁部13的正面14和背面15中至少一個面形成膜。雖然未圖示，但作為這樣的膜，可列舉形成于薄壁部13的正面14的表面膜、形成于背面15的背面膜、形成于凹部7的X方向側(cè)面9和Y方向側(cè)面11的側(cè)面膜等。

這些膜各自抑制形成有膜的部分(正面14、背面15、X方向側(cè)面9和Y方向側(cè)面11)被化學強化。為了發(fā)揮化學強化抑制效果，膜優(yōu)選包含氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、金屬等。原因是由于，對于包含所述物質(zhì)的膜而言，膜中的鈉離子、鉀離子的擴散系數(shù)小于玻璃中的鈉離子、鉀離子的擴散系數(shù)。

作為上述氧化物，可列舉例如無堿氧化物、包含堿金屬元素或堿土金屬元素的復合氧化物，特別優(yōu)選SiO₂。通過應用SiO₂作為主要成分，從而適度抑制膜中鈉離子、鉀離子的擴散。另外，由于膜的透射率高、折射率接近于玻璃，因此可以將通過實施涂布導致的外觀變化抑制至最低限度。另外，以SiO₂為主要成分的膜的物理耐久性、化學耐久性也高。

膜的膜厚為10nm以上、優(yōu)選為12nm以上、更優(yōu)選為15nm以上、更優(yōu)選為20nm以上、進一步優(yōu)選為25nm以上。膜厚為10nm以上時，可以利用阻礙離子交換的效果而抑制膜形成的部分的化學強化。膜的膜厚越厚，化學強化抑制效果越高。

膜的膜厚為1000nm以下、優(yōu)選為500nm以下、更優(yōu)選為200nm以下、更優(yōu)選為100nm以下、進一步優(yōu)選為50nm以下。膜厚大于1000nm時，則薄壁部13的翹曲反而有可能增大。另外，有膜部位和無膜部位的外觀之差有可能變大。

需要說明的是，保護玻璃1可以是未實施化學強化處理的玻璃。

對于保護玻璃1的正面3，可以通過進行AG(anti-glare：防眩)處理而形成AG膜。作為AG處理，可列舉利用用氫氟酸等的蝕刻的處理、利用涂布的處理等。

在利用蝕刻處理的情況下，可以在蝕刻后進行化學強化，也可以在化學強化后進行蝕刻，但優(yōu)選在進行化學強化前進行蝕刻。

在利用涂布處理的情況下，可以在涂布后進行化學強化，也可以在化學強化后進行涂布。在AG膜的成分為無機類材料的情況下，可以是蝕刻處理或涂布處理中的任一種，在AG膜的成分為有機類材料的情況下，可進行涂布處理。

在凹部7設(shè)置于保護玻璃1的背面5時，可考慮如圖32和圖33所示那樣在與凹部7相對的正面3上施加AG處理區(qū)域11。由于保護玻璃1的正面3沒有凹部而是平坦的，因此使用者使用組裝體(組件)時不能立即判斷傳感器位置。因此，通過在與凹部7相對的正面3上施加AG處理，由此使用者能夠目視識別組裝體而判斷傳感器位置。另外，根據(jù)AG處理條件，可得到使用者即便不能目視識別，但利用觸感可立即判斷傳感器位置的效果。此外，AG處理區(qū)域11優(yōu)選施加于如圖34和圖35所示的保護玻璃1的正面3上且與凹部7相對的部位的周邊部的至少一部分。凹部7配置有傳感器40，對接觸與凹部7相對的部位的指頭的指紋等進行檢測。通過在與凹部7相對的部位的周邊部設(shè)置AG處理區(qū)域11，由此可以維持檢測靈敏度。

需要說明的是，在AG膜之上也可以如例如圖36和圖37所示的那樣形成AFP(Anti-Fingerprint：耐指紋涂布)層12。在形成AFP層12的材料為含氟類材料等的情況下，容易產(chǎn)生靜電。根據(jù)傳感器的種 類，靜電有可能使檢測靈敏度下降。在這種情況下，優(yōu)選如圖37所示那樣施加于保護玻璃1的正面3上且與凹部7相對的部位以外。需要說明的是，AFP層12也可以如圖38所示的那樣在未實施AG處理的保護玻璃1的正面3上形成。

另外，優(yōu)選對保護玻璃1的正面3和背面5進行研磨。實施利用離子交換的化學強化后的強化玻璃板在其表面產(chǎn)生缺陷。另外，有時殘留最大為1μm左右的微細凹凸。在力作用于保護玻璃1時，應力集中在前述的缺陷、微細凹凸所存在的部位，有時即便是小于理論強度的力也破裂。因此，將在化學強化后的保護玻璃1的正面3和背面5存在的具有缺陷和微細凹凸的層(缺陷層)通過研磨除去。需要說明的是，存在缺陷的缺陷層的厚度雖然也與化學強化的條件有關(guān)，但通常為0.01～0.5μm。該研磨例如通過雙面研磨裝置進行。雙面研磨裝置的構(gòu)成中具有：具有各自以預定的旋轉(zhuǎn)比率被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的環(huán)形齒輪和太陽齒輪的載具安裝部、以及夾著載具安裝部并相互被反向旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的金屬制的上定盤和下定盤，在載具安裝部安裝有與環(huán)形齒輪和太陽齒輪嚙合的多個載具。載具以自身的中心為軸自轉(zhuǎn)，并且以太陽齒輪為軸進行公轉(zhuǎn)，以此方式進行行星齒輪運動，通過行星齒輪運動，利用與上定盤和下定盤的摩擦對安裝于載具的多個保護玻璃1的雙面(正面3和背面5)進行研磨。

進一步地，在保護玻璃1的背面5設(shè)置有印刷層。印刷層例如通過包含預定的著色材料的墨組合物而形成。該墨組合物除著色材料以外還根據(jù)需要包含粘合劑、分散劑、溶劑等。著色材料可以是顏料、染料等任意著色材料(著色劑)，可以單獨或組合兩種以上使用。需要說明的是，著色材料可以根據(jù)所期望的顏色進行合適選擇，例如要求遮光性的情況下，優(yōu)選使用黑系著色材料等。另外，粘合劑沒有特別限制，可列舉例如聚氨酯系樹脂、酚系樹脂、環(huán)氧系樹脂、尿素三聚氰胺系樹脂、聚硅氧烷系樹脂、苯氧基樹脂、甲基丙烯酸系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚芳酯樹脂、聚酯系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚苯乙烯 系樹脂、聚氯乙烯、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚乙酸乙烯基酯、聚偏二氯乙烯、聚碳酸酯、纖維素類、聚縮醛等公知的樹脂(熱塑性樹脂、熱固化性樹脂、光固化性樹脂等)等。粘合劑可以單獨或組合兩種以上使用。

用于形成印刷層的印刷法沒有特別限定，可以應用凹版印刷法、柔版印刷法、膠版印刷法、凸版印刷法、絲網(wǎng)印刷法、移印法、噴涂印刷法等合適的印刷法。

此處，如圖19所示，在凹部7設(shè)置于保護玻璃1的正面3的情況下(參見圖5～圖6)，容易在平面形狀的背面形成印刷層30。通過將色彩付與至與凹部7的底面8或側(cè)面9對應的部位，能夠在視覺上容易知曉部位。另外，對與側(cè)面9對應的部位進行鏡面反射印刷(例如銀色印刷)時，具有側(cè)面9的曲率的形狀表現(xiàn)出透鏡效果，與側(cè)面9對應的反射即便改變保護玻璃1的角度也以大角度進行反射，因此可以閃閃發(fā)光呈現(xiàn)出高級感。

另一方面，在凹部7設(shè)置于保護玻璃1的背面5的情況下(參見圖1～圖4)，優(yōu)選在該凹部7、保護玻璃1的背面5中不形成凹部7的平坦部分分別實施印刷。原因是由于，在絲網(wǎng)印刷法等的印刷方向上，形狀追隨性沒有那么高，因此難以一次性地對凹部7、不形成凹部7的平坦部分進行印刷。因此，通過分別實施這些部分的印刷可以實現(xiàn)高精度的印刷。另外，通過在凹部7和不形成凹部7的平坦部分改變印刷的色彩或紋理，可以在視覺上容易知曉地顯示傳感器40的位置，還可以作為設(shè)計上的重點。

更具體而言，如圖20所示，在背面5中不形成凹部7的平坦部分通過絲網(wǎng)印刷法等設(shè)置第一印刷層31。需要說明的是，絲網(wǎng)印刷是指，在具有開口部的絲網(wǎng)上載置印刷材料后，使刮板在絲網(wǎng)上按壓滑動，從絲網(wǎng)的開口部擠出印刷材料，印刷開口部的圖案的方法。另外，凹 部7具有曲面形狀的側(cè)面9，因而適合通過移印法對該凹部7進行印刷。由此，在凹部7的底面8和側(cè)面9形成第二印刷層32。此處，移印法是指，通過將在表面設(shè)置有墨圖案的柔軟的移印頭(pad)(例如聚硅氧烷制移印頭)壓靠于目標基材，將墨圖案轉(zhuǎn)印至基材表面由此進行印刷的方法。移印有時也被稱為Tako印刷或轉(zhuǎn)印(tampo print)。如此，在移印法中，使用比較柔軟、形狀追隨性好的移印頭，因而對凹部7的側(cè)面9的印刷優(yōu)選通過移印法進行。另一方面，絲網(wǎng)印刷法等印刷方法中，由于形狀追隨性不是那么高、墨不能印刷至側(cè)面9，因此是不合適的。需要說明的是，對第一和第二印刷層31、32的印刷的順序沒有特別限定。

另外，如圖21所示，也可以在背面5中不形成凹部7的平坦部分、凹部7的平坦形狀的底面8、曲面形狀的側(cè)面9分別進行印刷。這種情況下，在背面5中不形成凹部7的平坦部分通過絲網(wǎng)印刷法等設(shè)置第一印刷層31。接著，在凹部7的底面8通過絲網(wǎng)印刷法等設(shè)置第二印刷層32。并且，在凹部7的側(cè)面9通過移印法設(shè)置第三印刷層33。為了不移印至底面8，移印頭被設(shè)成沒有與底面8對應的部分的筒狀。如此，通過分別對凹部7的底面8和側(cè)面9進行印刷，在底面8形成的第二印刷層32的膜厚、平坦性的控制變得準確。因此，能夠提高在凹部7的底面8配置有指紋認證傳感器的情況下的傳感器靈敏度。需要說明的是，對第一～第三印刷層31～33的印刷的順序沒有特別限定。另外，通過在第一印刷層31、第二印刷層32和第三印刷層33改變印刷的色彩或紋理，能夠在視覺上容易地知曉顯示傳感器40的位置，也可以作為設(shè)計上的重點。例如，在使第一印刷層31和第二印刷層32為同色、使第三印刷層33為不同色的印刷的情況下，第三印刷層33可以設(shè)成被識別成環(huán)狀圖案的設(shè)計。

需要說明的是，對背面5中不形成凹部7的部分、凹部7的底面8等平坦部分的印刷法不限于利用絲網(wǎng)印刷法的方法，只要可以準確控制印刷層的膜厚等，就可以是利用旋轉(zhuǎn)絲網(wǎng)印刷法、凸版印刷法、膠 版印刷法、噴涂印刷法等的方法。另外，也可以是利用靜電復印法、熱轉(zhuǎn)印法、噴墨法等的印刷。

另外，如圖7所示，如在凹部7的底面8為隨著朝向中心部在Z方向上突出的形狀的情況那樣，凹部7的底面8為曲面形狀的情況下，對底面8的印刷也優(yōu)選利用移印法進行。

需要說明的是，對凹部7的側(cè)面9、具有突出形狀情況下的底面8等曲面形狀的印刷法只要對該曲面形狀的追隨性良好就不限于移印法，可以采用例如噴涂印刷法。

(玻璃組成)

作為保護玻璃1、玻璃基板101和玻璃構(gòu)件201，可列舉例如以下的(i)～(vii)中的任一種的玻璃。需要說明的是，以下的(i)～(v)的玻璃組成是以氧化物基準的摩爾％表示的組成，(vi)～(vii)的玻璃組成是以氧化物基準的質(zhì)量％表示的組成。

(i)包含SiO₂50～80％、Al₂O₃2～25％、Li₂O 0～10％、Na₂O 0～18％、K₂O 0～10％、MgO 0～15％、CaO 0～5％和ZrO₂0～5％的玻璃。

(ii)含有SiO₂50～74％、Al₂O₃1～10％、Na₂O 6～14％、K₂O 3～11％、MgO 2～15％、CaO 0～6％和ZrO₂0～5％，且SiO₂和Al₂O₃的含量的合計為75％以下，Na₂O和K₂O的含量的合計為12～25％，MgO和CaO的含量的合計為7～15％的玻璃。

(iii)含有SiO₂68～80％、Al₂O₃4～10％、Na₂O 5～15％、K₂O 0～1％、MgO 4～15％和ZrO₂0～1％，且SiO₂和Al₂O₃的含量的合計為80％以下的玻璃。

(iv)含有SiO₂67～75％、Al₂O₃0～4％、Na₂O 7～15％、K₂O 1～9％、MgO 6～14％、CaO 0～1％和ZrO₂0～1.5％，且SiO₂和Al₂O₃的含量的合計為71～75％，Na₂O和K₂O的含量的合計為12～20％的玻璃。

(v)包含SiO₂60～75％、Al₂O₃0.5～8％、Na₂O 10～18％、K₂O 0～5％、MgO 6～15％、CaO 0～8％的玻璃。

(vi)含有SiO₂63～75％、Al₂O₃3～12％、MgO 3～10％、CaO 0.5～10％、SrO 0～3％、BaO 0～3％、Na₂O 10～18％、K₂O 0～8％、ZrO₂0～3％、Fe₂O₃0.005～0.25％，且R₂O/Al₂O₃(式中R₂O為Na₂O+K₂O)為2.0以上且4.6以下的玻璃。

(vii)含有SiO₂66～75％、Al₂O₃0～3％、MgO 1～9％、CaO 1～12％、Na₂O 10～16％、K₂O 0～5％的玻璃。

(實施例1)

對于圖8所示的玻璃基板101和其制造方法的實施例進行說明。使用了X方向長度730mm、Y方向長度920mm、Z方向厚度0.5mm的玻璃構(gòu)件201(參見圖11)。在玻璃構(gòu)件201形成有X方向以130mm間距為5行、Y方向以65mm間距為13列、合計65個的凹部207(參見圖12)。凹部207的尺寸設(shè)為X方向長度5mm、Y方向長度13mm、Z方向深度0.27mm。即，通過設(shè)置凹部207而形成的薄壁部的Z方向厚度為0.23mm。

在玻璃構(gòu)件201的正面203或背面形成凹部207的方法如下所述。首先，在玻璃構(gòu)件201的正面203或背面涂布抗蝕劑材料，通過曝光在抗蝕劑材料上開出與凹部207的底面相同尺寸的孔(凹部形成用孔307)，形成圖13所示的第一掩模構(gòu)件301。在玻璃構(gòu)件201的背面涂布抗蝕劑材料后保持原樣不開孔，形成了圖14所示的第二掩模構(gòu)件401。

接著，在將第一和第二掩模構(gòu)件301、401配置于正面203和背面的狀態(tài)下，將玻璃構(gòu)件201浸于氫氟酸(HF)溶液中，在XYZ方向使之擺動的同時使HF溶液從第一掩模構(gòu)件301的凹部形成用孔307滲入，對玻璃構(gòu)件201進行了蝕刻。對玻璃構(gòu)件201進行蝕刻直至凹部207的深度為0.27mm，然后將玻璃構(gòu)件201從HF溶液中提起，剝離 抗蝕劑材料(第一和第二掩模構(gòu)件301、401)，并進行清洗、干燥。通過以上的操作，可以制作如圖8所示的具有凹部107的玻璃基板101。

另外，在玻璃基板101的周邊部形成用于在裁切多個保護玻璃1時進行位置對準的多個第一和第二標記121、122。凹部107的側(cè)面是與該凹部107的底面平滑地連接的曲面形狀，從凹部107的底面向側(cè)面的曲率半徑最大約為0.4mm。另外，凹部107的側(cè)面與玻璃基板101的正面103的平坦部之間的連接部分大致垂直。

玻璃構(gòu)件201使用作為旭硝子株式會社的鋁硅酸鹽玻璃的Dragontrail(旭硝子株式會社的注冊商標)。

(實施例2)

對玻璃基板101和其制造方法的實施例進行說明。相對于實施例1，使用旭硝子株式會社的鋁硅酸鹽玻璃的Dragontrail-X作為玻璃構(gòu)件201，并且將凹部207的形狀設(shè)成直徑10mm的圓形。另外，蝕刻后，從氫氟酸(HF)溶液取出玻璃構(gòu)件201后，原樣保持30秒鐘后剝離抗蝕劑材料(第一和第二掩模構(gòu)件301、401)并進行清洗。除前述以外與實施例1同樣地制成了玻璃基板101。

凹部107的側(cè)面為與該凹部107的底面平滑地連接的曲面形狀，從凹部的底面向側(cè)面的曲率半徑最大約為0.4mm。凹部107的側(cè)面與玻璃基板101的正面103的平坦部之間的連接部分為平滑地連續(xù)的曲面形狀，該連接部分的曲率半徑約為0.4mm(例如參見圖4、圖6)。從凹部107的底面向側(cè)面的曲率半徑為向玻璃基板101側(cè)凹陷的曲率半徑。從凹部107的側(cè)面向玻璃基板101的正面103的平坦部的形狀是從玻璃基板101側(cè)向外側(cè)凸起、并且在凹部107的側(cè)面的途中具有拐點的形狀。

(實施例3)

對保護玻璃1和其制造方法的實施例進行說明。使用玻璃切割用的滾輪切割裝置將實施例1或2的玻璃基板101切割成各具有一個凹部107的130mm×65mm的長方形的尺寸。由此，得到了多個在各自背面5具有一個凹部7的長方形的保護玻璃1。在切割時，讀取第二標記122確定切割位置。另外，對于是否正確進行了切割而言，是確認切割線是否在第一標記121的中心行進，并確認被正確切割成預定的形狀。第二標記122與凹部107在位置關(guān)系方面相關(guān)，因而可以在130mm×65mm的所期望的位置配置凹部107。

如圖22(a)所示，將長方形的保護玻璃1在俯視下的四角的角部2用CNC(砂輪切削)切削，形成具備曲率R的形狀。同時通過CNC實施倒角。倒角可以進行R倒角(使玻璃邊緣成為半圓狀態(tài)的加工)和C倒角(斜向削除處理)等各種倒角，在本實施例中設(shè)為C倒角。另外，在CNC工序中，在預定的位置設(shè)置揚聲器(speaker)孔4。需要說明的是，也可以在預先設(shè)置揚聲器孔4后形成凹部7。另外，揚聲器孔4可以在其它工序中通過蝕刻設(shè)置。另外，也可以通過將保護玻璃1的端面進行切缺來設(shè)置揚聲器孔。

接著，使用KNO₃熔融鹽對保護玻璃1實施了化學強化處理。對于從實施例1的玻璃基板101得到的保護玻璃1(Dragontrail)，在410℃實施2.5小時的化學強化處理，結(jié)果DOL(Depth-of-Layer)為25μm、CS(Compressive Stress)為750MPa。對于從實施例2的玻璃基板101得到的保護玻璃1(Dragontrail-X)，在410℃實施5小時的化學強化處理，結(jié)果DOL為25μm、CS為900MPa。CS和DOL的測定使用有限會社折原制作所的玻璃表面應力計FSM-6000進行測定。

接著，對于保護玻璃1的背面5實施了印刷。該印刷形成黑色的三層31～33，與圖21所示的第一～第三印刷層31～33的形成方法大致相同。

首先，如圖22(b)所示，對保護玻璃1的背面5中除揚聲器孔4、凹部7和相當于便攜式信息終端顯示部的部分(顯示區(qū)域6)以外的區(qū)域?qū)嵤┖谏∷?，形成了第一印刷?1。接著，如圖22(c)所示，對凹部7的底面實施黑色印刷，形成了第二印刷層32。接下來，如圖22(d)所示，對凹部7的側(cè)面實施黑色印刷，形成了第三印刷層33。

第一印刷層31是通過絲網(wǎng)印刷形成的，通過一次絲網(wǎng)印刷印刷約4μm的Z方向厚度。實施兩次該印刷，使第一印刷層31的Z方向厚度約為8μm。第二印刷層32通過移印而形成。通過一次移印印刷約3μm的Z方向厚度。實施三次該移印，使第二印刷層32的Z方向厚度約為9μm。第三印刷層33通過移印而形成。實施三次該移印，使第三印刷層33的Z方向厚度約為9μm。將第三印刷層33設(shè)成與第一和第二印刷層31、32在XY方向重疊(在Z方向相對)。由此，可以對凹部7進行不漏光的黑色印刷。從保護玻璃1的正面3(與形成有凹部7的背面5相反側(cè)的面。參見圖1等。)觀察時，根據(jù)色調(diào)幾乎分辨不出凹部7的邊界在何處。

需要說明的是，作為黑色印刷的方法，也有使第一印刷層31的黑色印刷為一次、且在第三印刷層33的印刷結(jié)束后實施一次第一印刷層31的黑色印刷的方法。另外，如果將工藝條件進行最優(yōu)化，則還能夠同時對凹部7的底面和側(cè)面進行黑色印刷，從而同時形成第二和第三印刷層31、32。

最后，對保護玻璃1的正面3賦予AFP(Anti-Fingerprint：耐指紋涂布)。AFP的賦予方法一般而言有溶液涂布法、噴涂法和蒸鍍法，本實施例中用蒸鍍法進行成膜。由此，制作了所期望的保護玻璃1。

(實施例4)

參照圖23和圖24對保護玻璃1和其制造方法的實施例進行說明。本實施例中，與實施例3相比，印刷方法不同，但其它方面相同。

首先，對圖23(a)所示的保護玻璃1的背面5中除了揚聲器孔4、凹部7和顯示區(qū)域6以外的區(qū)域?qū)嵤┌咨∷?，形成第一印刷?1(參見圖23(b))。在附圖中，白色印刷以點狀陰影表示，黑色印刷以斜線的陰影表示。

接著，在第一印刷層31之上(背面)實施黑色印刷，形成了第二印刷層32(參見圖23(c))。接下來，對凹部7的底面8和側(cè)面9實施白色印刷，形成了第三印刷層33(參見圖23(d))。進一步地，在第三印刷層33之上(背面)實施黑色印刷，形成了第四印刷層34(參見圖23(e))。

第一印刷層31通過絲網(wǎng)印刷的白色印刷而形成，通過一次印刷印刷約6μm的Z方向厚度。實施三次該印刷，使第一印刷層31的Z方向厚度約為18μm。第二印刷層32通過絲網(wǎng)印刷的黑色印刷而形成，使第一印刷層31的Z方向厚度約為4μm。第二印刷層32的黑色印刷印刷于第一印刷層31的白色印刷之上(背面)，但若從白色印刷向外露出，則會看到黑色，因而以小于白色印刷的面積實施印刷。

第三印刷層33通過移印的白色印刷而形成，通過一次印刷印刷約3μm的Z方向厚度。實施六次該印刷，使第三印刷層33的Z方向厚度約為18μm。第四印刷層34通過移印的黑色印刷而形成。實施一次該印刷，使第四印刷層的Z方向厚度約為3μm。

不實施第二印刷層32的黑色印刷時，則第一印刷層31的白色印刷與第三印刷層33的白色印刷重合，形成白色的反射率高的區(qū)域。為了避免這一點，重要的是形成第二印刷層。從正面3側(cè)觀察本實施例的保護玻璃1時，可以確認在整個面同樣地被白色印刷的狀態(tài)。此處，對白色印刷的背面實施黑色印刷是為了使白色印刷部的反射率為一定。另外，由此，在白色印刷的背面具有亮的部件的情況下，可以避 免僅在該部分形成亮的部位。另外，也可以防止在具有發(fā)光部件的情況下發(fā)生的漏光。

另外，與實施例4不同，本實施例中凹部7看起來是立體的。這是由于，從保護玻璃1的正面3側(cè)觀察時，存在被白色印刷的凸形狀，由于因外部光而產(chǎn)生影，由此目視識別出凸形狀而得到立體感。由此，有產(chǎn)生深邃感的效果。

(實施例5)

參照圖25對保護玻璃1和其制造方法的實施例進行說明。本實施例與實施例3(參見圖22)相比，第二和第三印刷層32、33的印刷方法不同，但其它方面大致相同。

首先，對保護玻璃1的背面5中除了揚聲器孔4、凹部7和顯示區(qū)域6以外的區(qū)域?qū)嵤┖谏∷?，形成了第一印刷?1。接著，對凹部7的側(cè)面9實施銀色印刷，形成了第二印刷層32。此處，在附圖中，銀色印刷以網(wǎng)狀陰影表示。接下來，對凹部7的底面8實施黑色印刷，形成了第三印刷層33。第一印刷層31通過絲網(wǎng)印刷而形成，第二和第三印刷層32、33通過移印而形成。

如圖26所示，從正面3側(cè)觀察保護玻璃14的情況下，第二印刷層32能夠以環(huán)狀的設(shè)計形式而被識別出，可以在視覺上容易知曉地顯示傳感器40的位置。需要說明的是，在銀色印刷以外，第二印刷層32也可以通過白色印刷、金色印刷等各種有色印刷形成。

另外，在傾斜面印刷第二印刷層32的情況下，難以控制印刷寬度，因而在要求控制印刷寬度的情況下，可以在第一印刷層31的平坦部形成第二印刷層32。在此情況下，由于并非傾斜面的印刷，因而可以用絲網(wǎng)印刷。

另外，如圖27所示，在第一印刷層31的一部分中開出環(huán)狀的孔，可以對該孔印刷第二印刷層32。這種情況下，第二印刷層32也能夠以環(huán)狀的設(shè)計形式而被識別出。

需要說明的是，在圖28和圖29中，示出了在凹部7的形狀分別為圓形狀和橢圓形狀、通過銀色印刷形成第二印刷層32的情況下從正面3側(cè)觀察的保護玻璃1。

(實施例6)

參照圖30和圖31對保護玻璃1和其制造方法的實施例進行說明。本實施例與實施例4(參見圖23和圖24)相比，在五個印刷層31～35的形成方面不同，但其它方面大致相同。

首先，對凹部7的側(cè)面9實施銀色印刷，形成了第一印刷層31(參見圖30(b))。接下來，對保護玻璃1的背面5中除了揚聲器孔4、凹部7和顯示區(qū)域6以外的區(qū)域?qū)嵤┌咨∷?，形成了第二印刷?2(參見圖30(c))。接著，對第二印刷層32之上(背面)實施黑色印刷，形成了第三印刷層33(參見圖30(d))。接下來，對凹部7的底面8實施白色印刷，形成了第四印刷層34(參見圖30(e))。進而，在第四印刷層34之上(背面)實施黑色印刷，形成了第五印刷層35(參見圖30(f))

第一印刷層31通過移印而形成，第二和第三印刷層32、33通過絲網(wǎng)印刷而形成，第四和第五印刷層34、35通過移印而形成。

從正面3側(cè)觀察本實施例的保護玻璃1的情況下，第一印刷層31能夠以環(huán)狀的設(shè)計形式而被識別出，可以在視覺上容易知曉地顯示傳感器40的位置。需要說明的是，除銀色印刷以外，第一印刷層31可以通過白色印刷、金色印刷等各種有色印刷而形成。

(實施例7)

在實施例3或?qū)嵤├?中，也可以使用印刷前的保護玻璃1對未形成有凹部7的面實施印刷。在此情況下，如果如實施例3或?qū)嵤├?那樣僅為單一顏色，則成為對無凹凸的平面進行印刷，因而可以利用絲網(wǎng)印刷對包括凹部7的背面部分在內(nèi)的整個預定的印刷范圍進行印刷。

需要說明的是，即便是在如實施例5或?qū)嵤├?那樣對凹部7的底面8和側(cè)面9印刷不同顏色的情況下，通過改變圖案對凹部背面部分印刷與其它部分不同的顏色，可以印刷所期望的圖案。

(實施例8)

在實施例3中，對于化學強化后且印刷前的保護玻璃1，利用雙面研磨機將正面3和背面5研磨約3μm。由此可以提高面強度。雖然未能研磨凹部7的底面8和側(cè)面9，但是由于用蝕刻對凹部7進行了加工，因而傷痕、裂紋已被除去，面強度高，不需要研磨。

(實施例9)

對便攜式信息終端的實施例進行說明。使指紋認證傳感器40(參見圖4)的傳感器面抵接固定于實施例3的保護玻璃1的凹部7的底面8。膠粘層41的Z方向厚度約為10μm。將液晶層44(TFT顯示器)經(jīng)由膠粘層45層疊至保護玻璃1的背面5的非印刷部。膠粘層45的Z方向厚度約為100μm。以保護玻璃1的未形成凹部7的面(正面3)為外側(cè)，與其它部件一起組裝進殼體43，由此制作了智能電話。

盡管在智能電話的顯示器側(cè)配置有指紋認證傳感器40，但保護玻璃1的正面3可以設(shè)為保持平坦的設(shè)計。需要說明的是，如實施例5或?qū)嵤├?那樣，對凹部7的側(cè)面9印刷與其它部位不同的顏色的情況下，可以通過該印刷圖案容易地知道指紋認證傳感器40的位置。

(實施例10)

在使用實施例7的保護玻璃1制造便攜式信息終端的情況下，使指紋認證傳感器40的傳感器面抵接固定于保護玻璃1的薄壁部13的背面15。在凹部7設(shè)置于保護玻璃1的正面3、指紋認證傳感器40配置于薄壁部13的背面15的情況下，只要在指紋認證傳感器40的功能上沒有問題，則指紋認證傳感器40的尺寸就可以大于凹部7。通過指紋認證傳感器40的尺寸大于凹部7，可以增加薄壁部13薄的保護玻璃1的強度。

另外，將液晶層44(TFT顯示器)經(jīng)由膠粘層45層疊至保護玻璃1的背面5的非印刷部。以保護玻璃1的形成有凹部7的面(正面1)為外側(cè)，通過與其它部件一起組裝進殼體43中，由此制成智能電話等便攜式信息終端。在此情況下，由于在便攜式信息終端的外表面存在凹部7，因此即便沒有印刷所產(chǎn)生的標記，也容易識別傳感器位置。