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觸控結(jié)構(gòu)與制作方法及其應(yīng)用裝置與流程

文檔序號(hào):12718023閱讀:307來(lái)源:國(guó)知局
觸控結(jié)構(gòu)與制作方法及其應(yīng)用裝置與流程

本發(fā)明涉及一種觸控結(jié)構(gòu)與其制作方法及其應(yīng)用裝置,且特別是涉及一種薄型化的觸控結(jié)構(gòu)與其制作方法及其應(yīng)用裝置。



背景技術(shù):

隨著顯示科技的進(jìn)步,各式顯示裝置不斷推陳出新,其中搭載著觸控面板的顯示裝置目前已經(jīng)廣泛應(yīng)用于各種消費(fèi)電子產(chǎn)品之中。

傳統(tǒng)外掛于顯示模塊之外(out-cell)的觸控面板,一般包含單玻璃觸控結(jié)構(gòu)(OGS)、雙玻璃觸控結(jié)構(gòu)(GG)與雙薄膜觸控結(jié)構(gòu)(Cover Glass/Sensor Film X/Sensor Film Y,GFF)三種主要類型,其具有可提供觸控面板和顯示模塊多元的彈性組合選擇的優(yōu)點(diǎn)。但由于外掛式的觸控面板需要采用較多的材料且包含復(fù)雜的堆疊層,因此整體結(jié)構(gòu)較為厚重且不易薄化。

以雙玻璃觸控結(jié)構(gòu)為例,其使用一片玻璃作為外蓋玻璃(cover glass),另一片玻璃作為感測(cè)玻璃(sensor glass),用來(lái)容納形成于其表面上的感測(cè)電極。由于,外蓋玻璃需高硬度故無(wú)法減薄,若對(duì)感測(cè)玻璃進(jìn)行減薄,又會(huì)降低感測(cè)玻璃的機(jī)械強(qiáng)度,而導(dǎo)致其在制作工藝中容易破裂,不但使制作工藝難度增加也使良率大幅下降,相對(duì)墊高了制作工藝成本變高。

因此,仍有需要提供一種先進(jìn)觸控結(jié)構(gòu)與其制作方法及其應(yīng)用裝置,以改善現(xiàn)有技術(shù)所面臨的問(wèn)題。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,是有關(guān)于一種觸控結(jié)構(gòu),包括:一導(dǎo)電玻璃單元和位于導(dǎo)電玻璃單元的一側(cè)的一導(dǎo)電膜單元。導(dǎo)電玻璃單元包括一玻璃基板以及一第一圖案化電極層。玻璃基板具有一第一表面和與第一表面相對(duì)的一第二表面,其中第一表面具有一第一粗糙度,第二表面具有一第二粗糙度,且第一粗糙度大于第二粗糙度。第一圖案化電極層位于第二表面上。導(dǎo)電膜單元包括:一透光膜;以及位于透光膜片上的一第二圖案化電極層。

本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例是有關(guān)于一種觸控顯示裝置,包括:一個(gè)顯示面板以及先前所述的觸控結(jié)構(gòu)。其中,顯示面板具有一個(gè)出光面;此觸控結(jié)構(gòu)位于出光面上。

本發(fā)明的又一個(gè)實(shí)施例是有關(guān)于一種觸控結(jié)構(gòu)的制作方法,包括下述步驟。提供一第一玻璃基板,具有一第一表面和與該第一表面相對(duì)的一第二表面。再于第二表面上形成一第一圖案化電極層。提供一第一透光膜,在透光膜上形成一第二圖案化電極層。對(duì)第一玻璃基板進(jìn)行一薄化制作工藝,使第一表面經(jīng)過(guò)薄化,經(jīng)薄化的第一表面具有大于第二表面的一粗糙度。進(jìn)行一貼合制作工藝,將第一透光膜貼附于經(jīng)薄化的第一表面或第二表面上。其中,貼合制作工藝和薄化制作工藝的步驟先后順序可以互換。

由于分別位于玻璃基板上以及透光膜片上的第一圖案化電極層和第二圖案化電極層是各自進(jìn)行制作。因此,形成第一圖案化電極層和第二圖案化電極層的制作工藝步驟并不會(huì)對(duì)薄化后的玻璃基板的機(jī)械強(qiáng)度產(chǎn)生影響。且在一些實(shí)施例中,是將兩片玻璃彼此貼附組合之后,才對(duì)玻璃基板進(jìn)行薄化,可降低玻璃基板于制作工藝中發(fā)生破裂的機(jī)率,增加良率。另外,在一些實(shí)施例中,薄化后的玻璃基板可作為外蓋玻璃使用,并不需額外附加其他玻璃層,可降低制作工藝成本,達(dá)到前述的發(fā)明目的。

附圖說(shuō)明

圖1A至圖1H為本發(fā)明的第一實(shí)施例所繪示的一系列用來(lái)形成觸控結(jié)構(gòu)的制作工藝結(jié)構(gòu)剖面示意圖;

圖2A至圖2H為本發(fā)明的第二實(shí)施例所繪示的一系列用來(lái)形成觸控結(jié)構(gòu)的制作工藝結(jié)構(gòu)剖面示意圖;以及

圖3為本發(fā)明的一實(shí)施例繪示采用圖1H所示的觸控結(jié)構(gòu)所制作而成的觸控顯示裝置的結(jié)構(gòu)剖面示意圖。

符號(hào)說(shuō)明

20:第一導(dǎo)電膜單元 22:第二導(dǎo)電膜單元

40:第一導(dǎo)電膜單元 42:第二導(dǎo)電膜單元

90:觸控顯示裝置 100:觸控結(jié)構(gòu)

101:第一玻璃基板

101a:第一玻璃基板的第一表面

101b:第一玻璃基板的第二表面

102:第一圖案化電極層 102a:外部導(dǎo)線

103:第二玻璃基板

103a:第二玻璃基板的第三表面

103b:第二玻璃基板的第四表面

104:第三圖案化電極層 105:框膠

106:薄化制作工藝 108:第二圖案化電極層

109:承載基板 110:第一透光膜

111:外部導(dǎo)線 112:光學(xué)膠

113:第二透光膜 114:第四圖案化電極層

115:光學(xué)膠 116:金屬導(dǎo)線

118:保護(hù)層 119:光學(xué)膠

120:外蓋玻璃 121:軟性電路板

122:邊框 200:觸控結(jié)構(gòu)

201:第一玻璃基板

201a:第一玻璃基板的第一表面

201b:第一玻璃基板的第二表面

202:第一圖案化電極層 202a:外部導(dǎo)線

203:第二玻璃基板

203a:第二玻璃基板的第三表面

203b:第二玻璃基板的第四表面

204:第三圖案化電極層 205:框膠

206:薄化制作工藝 208:第二圖案化電極層

209:承載基板 210:第一透光膜

211:外部導(dǎo)線 212:光學(xué)膠

213:第二透光膜 214:第四圖案化電極層

215:光學(xué)膠 218:保護(hù)層

221:軟性電路板 222:邊框

300:顯示面板 301:出光面

具體實(shí)施方式

本發(fā)明提供一種薄型化的觸控結(jié)構(gòu)與其制作方法及其應(yīng)用裝置,可以簡(jiǎn)化制作工藝、增加良率并且降低制作工藝成本。為了對(duì)本發(fā)明的上述實(shí)施例及其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂,下文特舉數(shù)個(gè)優(yōu)選實(shí)施例,并配合所附的附圖作詳細(xì)說(shuō)明。

但必須注意的是,這些特定的實(shí)施案例與方法,并非用以限定本發(fā)明的范圍。本發(fā)明仍可采用其他特征、元件、方法及參數(shù)來(lái)加以實(shí)施。優(yōu)選實(shí)施例的提出,僅用以例示本發(fā)明的技術(shù)特征,并非用以限定本發(fā)明的權(quán)利要求。該技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者,將可根據(jù)以下說(shuō)明書(shū)的描述,在不脫離本發(fā)明的精神范圍內(nèi),作均等的修飾與變化。在不同實(shí)施例與附圖之中,相同的元件,將以相同的元件符號(hào)加以表示。

請(qǐng)參照?qǐng)D1A至圖1H,圖1A至圖1H是根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例所繪示的一系列用來(lái)形成觸控結(jié)構(gòu)100的制作工藝結(jié)構(gòu)剖面示意圖。其中形成觸控結(jié)構(gòu)100的方法包含下述步驟:

首先,提供一個(gè)第一玻璃基板101,使第一玻璃基板101具有一個(gè)第一表面101a和與第一表面101a相對(duì)的第二表面101b(如圖1A所繪示)。在本發(fā)明的一些實(shí)施例之中,第一表面101a和第二表面101b可具有相同的粗糙程度,其中二者的表面粗糙度實(shí)質(zhì)介于1納米(nm)至5納米之間。第一玻璃基板101的厚度實(shí)質(zhì)介于300微米(μm)至600微米之間。

接著,在第一玻璃基板101的第二表面101b上形成第一圖案化電極層102。在本案一實(shí)施例中,可使第一圖案化電極層102與第二表面101b直接接觸(如圖1B所繪示)?;蛘?,在第一玻璃基板101和第一圖案化電極層102之間,可依需要設(shè)置一層或多層的光學(xué)補(bǔ)償層。在本發(fā)明的一些實(shí)施例之中,第一圖案化電極層102的形成,包括先采用沉積技術(shù),例如濺鍍(sputtering)或低壓化學(xué)氣相沉積(Low-pressure Chemical Vapor Deposition,LPCVD)于第一玻璃基板101的第二表面101b上形成一導(dǎo)電材料層。再通過(guò)黃光蝕刻制作工藝,移除一部分導(dǎo)電材料層,用于在第一玻璃基板101的第二表面101b上形成第一圖案化電極層102。

在本實(shí)施例中,觸控結(jié)構(gòu)100是一種電容式觸控結(jié)構(gòu),例如,第一圖案化電極層102用來(lái)作為電容式觸控結(jié)構(gòu)的觸控電極,例如,感測(cè)電極(Rx)。在另一些實(shí)施例中,第一圖案化電極層102還包括位于周邊區(qū)的外部導(dǎo)線102a。外部導(dǎo)線102a可與第一圖案化電極層102電連接。外部導(dǎo)線102a可由形成第一圖案化電極層102的制作工藝所形成,而具有與第一圖案化電極層102相同的材質(zhì)。但外部導(dǎo)線102a的材料與形成方示并不以此為限,也可由其他導(dǎo)電物質(zhì)形成,例如可由金屬形成。

在本發(fā)明的一些實(shí)施例之中,第一圖案化電極層102可以是一種由金屬、金屬氮化物材質(zhì)(例如,氮化鋁(AlN))、金屬氧化物(例如,氧化銦錫(Indium Tin Oxide,ITO)、摻銻氧化錫(Antimony Tin Oxide,ATO)、氧化錫(SnO2)、氧化鋅(ZnO)、氧化銦(InO)、銻酸鋅(Zn(SbO3)2)、五氧化銻(Sb2O5)、摻鋁氧化銦(Aluminum-doped Zinc Oxide,AZO)、氧化銦鎵鋅(Indium Gallium Zinc Oxide,IGZO))或上述任意組合所構(gòu)成的透明電極層。在本發(fā)明的另一些實(shí)施例之中,第一圖案化電極層102也可以是一種金屬網(wǎng)格(metal mesh)結(jié)構(gòu)。其中,金屬網(wǎng)格結(jié)構(gòu)可以是由金屬材料所構(gòu)成,且此金屬材料選自于由銅(Cu)、銀(Ag)、鋁(Al)以及上述的任意組合所組成的一族群。

參閱圖1C,同時(shí)提供一個(gè)第二玻璃基板103,使其具有第三表面103a和與第三表面103a相對(duì)的第四表面103b,并于第四表面103b上形成一個(gè)第三圖案化電極層104。在本發(fā)明一實(shí)施例中,可使第三圖案化電極層104與第四表面103b直接接觸。第三圖案化電極層104可作為觸控結(jié)構(gòu)的觸控電極,例如,感測(cè)電極(Rx)。在本實(shí)施例之中,由于第二玻璃基板103和第三圖案化電極層104與第一玻璃基板101和第一圖案化電極層102結(jié)構(gòu)和材質(zhì)可為相同,因此第二玻璃基板103和第三圖案化電極層104的詳細(xì)結(jié)構(gòu)與制作方法,并不在此贅述。但在其他實(shí)施例之中,第二玻璃基板103和第三圖案化電極層104的結(jié)構(gòu)和材質(zhì),也可以與第一玻璃基板101和第一圖案化電極層102不同。

之后,采用框膠105將第一玻璃基板101與第二玻璃基板103對(duì)準(zhǔn)并結(jié)合(對(duì)組),使位于第一玻璃基板101第二表面101b上的第一圖案化電極層102面對(duì)位于第二玻璃基板103的第四表面103b上的第三圖案化電極層104(如圖1C所繪示)。

參閱圖1D,后續(xù),對(duì)第一玻璃基板101的第一表面101a和第二玻璃基板103的第三表面103a進(jìn)行薄化制作工藝106。在本發(fā)明的一實(shí)施例中,薄化制作工藝106是采用包含有氫氟酸(HF)溶液的蝕刻劑的濕式制作工藝,可移除一部分的第一玻璃基板101和第二玻璃基板103。如此,第一玻璃基板101的第一表面101a經(jīng)過(guò)薄化,經(jīng)薄化后的第一表面101a具有實(shí)質(zhì)大于第二表面101b的粗糙度。同時(shí),第三表面103a經(jīng)過(guò)薄化,經(jīng)薄化的第三表面103a具有實(shí)質(zhì)大于第四表面103b的粗糙度。

在本實(shí)施例之中,薄化后的第一表面101a和第三表面103a可具有相同的粗糙程度,其中二者的表面粗糙度實(shí)質(zhì)介于100納米至300納米之間。被薄化后的第一玻璃基板101和第二玻璃基板103的厚度實(shí)質(zhì)介于50微米至300微米之間(如圖1D所繪示)。在另一些實(shí)施例中,會(huì)在對(duì)經(jīng)過(guò)薄化后的第一表面101a和第三表面103a進(jìn)行一研磨制作工藝(未繪示),使第一表面101a和第三表面103a具有實(shí)質(zhì)介于1.5納米至5納米之間的粗糙度。因此,依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例,經(jīng)過(guò)薄化后的第一表面101a和第三表面103a,最后的粗糙度可為1.5nm至300nm之間。

參閱圖1E,另外,提供一第一導(dǎo)電膜單元20。在本發(fā)明的一些實(shí)施例中,第一導(dǎo)電膜單元20的形成包括下述步驟:首先,通過(guò)旋涂(spin coating)制作工藝或其他方式,在一個(gè)承載基板109上涂布一塑化材料,用于形成一第一透光膜110,例如一各向同性膜(Isotropic film),厚度可為介于5微米至50微米之間。

在本發(fā)明的一些實(shí)施例中施例中,涂布于承載基板109上的塑化材料可以是選自于聚酰亞胺(Polyimide,PI)、聚對(duì)苯二甲酸二乙酯(PET,polyethylene terephthalate)以及上述的組合所組成的一族群。所形成的第一透光膜110,例如在本實(shí)施例中,可以是厚度實(shí)質(zhì)介于5微米至10微米的聚酰亞胺薄膜;或者,在另一些實(shí)施例中,可以是厚度實(shí)質(zhì)介于20微米至50微米的聚對(duì)苯二甲酸二乙酯薄膜。

接著,采用沉積技術(shù),例如濺鍍或低壓化學(xué)氣相沉積,在第一透光膜110上形成一層導(dǎo)電材料層。再通過(guò)黃光蝕刻制作工藝,移除一部分導(dǎo)電材料層,用于在第一透光膜110上形成第二圖案化電極層108。在本發(fā)明一實(shí)施例,可使第二圖案化電極層108與第一透光膜110直接接觸?;蛘?,在第一透光膜110和第二圖案化電極層108之間,可依需要設(shè)置一層或多層的光學(xué)補(bǔ)償層。在本實(shí)施例中,第二圖案化電極層108可用來(lái)作為電容式觸控結(jié)構(gòu)的觸控電極,例如,驅(qū)動(dòng)電極(Tx)。

在本發(fā)明的一些實(shí)施例之中,第二圖案化電極層108的適用材料,可見(jiàn)前述第一圖案化電極層102的適用材料,在此不再贅述。第二圖案化電極層108與第一圖案化電極層102所使用的材料,可為相同或不同。

在本實(shí)施例中,第二圖案化電極層108是由氧化銦錫所構(gòu)成的透明電極。另外,第一導(dǎo)電膜單元20還包括位于周邊區(qū)的外部導(dǎo)線111。外部導(dǎo)線111可與第二圖案化電極層108電連接。外部導(dǎo)線111可由和第二圖案化電極層108相同的制作工藝相同的材料而形成?;蛘?,外部導(dǎo)線111可為其他導(dǎo)電材料。例如,可通過(guò)金屬沉積制作工藝,在第一透光膜110的周邊區(qū)形成金屬導(dǎo)線111。

后續(xù),將第一透光膜110與承載基板109分離,而得到第一導(dǎo)電膜單元20,其包括第一透光膜110、以及位于第一透光膜100上的第二圖案化電極層108和外部導(dǎo)線111。接著,參閱圖1F,通過(guò)光學(xué)膠(Optical Clear Adhesive,OCA)112,將第一透光膜110貼附于被薄化后的第一玻璃基板101的第一表面101a上,使第二圖案化電極層108位于第一透光膜110的遠(yuǎn)離第一玻璃基板101的第一表面101a的一側(cè)上。因此,通過(guò)光學(xué)膠112可使位于第一玻璃基板101的第二表面101b上的第一圖案化電極層102與第一透光膜110隔離;且使第一透光膜110上的第二圖案化電極層108與第一玻璃基板101隔離。在本發(fā)明的一些實(shí)施例之中,光學(xué)膠112的厚度實(shí)質(zhì)介于50微米至200微米之間。

同時(shí),以和第一導(dǎo)電膜單元20類似的方式,提供一個(gè)具有第四圖案化電極層114、第二透光膜113和外部導(dǎo)線116的第二導(dǎo)電膜單元22。并且以相同方式,通過(guò)光學(xué)膠115將第二透光膜113貼附于被薄化后的第二玻璃基板103的第三表面103a上,使第四圖案化電極層114位于第二透光膜113遠(yuǎn)離第二玻璃基板103的第三表面103a的一側(cè)。通過(guò)光學(xué)膠115,可使位于第二玻璃基板103的第四表面103b上的第三圖案化電極層104與第二透光膜113隔離;且使位于第二透光膜113上的第四圖案化電極層114與第二玻璃基板103隔離(如圖1F所繪示)。

接著,以刀輪切割的方式將框膠105移除,使貼附有第一導(dǎo)電膜單元20的第一玻璃基板101與貼附有第二導(dǎo)電膜單元22的第二玻璃基板103彼此分離,形成二個(gè)獨(dú)立的制作工藝單元(如圖1G所繪示),再分別進(jìn)行后續(xù)加工制作工藝。為了方便描述起見(jiàn),以下僅就貼附有第一導(dǎo)電膜單元20的第一玻璃基板101的后續(xù)制作工藝進(jìn)行說(shuō)明。

參閱圖1H,觸控結(jié)構(gòu)100包括一導(dǎo)電玻璃單元10,以及一導(dǎo)電膜單元20。導(dǎo)電玻璃單元10包括:玻璃基板101,和位于玻璃基板101的第二表面101b上的第一圖案化電極層102。導(dǎo)電膜單元20包括:第一透光膜110,和位于第一透光膜110上的第二圖案化電極層108。導(dǎo)電玻璃單元10和導(dǎo)電膜單元20之間,可通過(guò)光學(xué)膠112而貼合。玻璃基板101具有第一表面101a,和與第一表面相對(duì)的第二表面101b。第一表面101a具有第一粗糙度,第二表面101b具有第二粗糙度,第一粗糙度大于第二粗糙度。依據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例,第一粗糙度為1.5納米至300納米之間,第二粗糙度為1納米至5納米之間。

后續(xù),提供一個(gè)外部元件,例如軟性電路板(Flexible Printed Circuit,F(xiàn)PC)121,分別與位于第一透光膜110上的外部導(dǎo)線111以及位于玻璃基板101上的外部導(dǎo)線102a電性接觸。外部導(dǎo)線111和外部導(dǎo)線102a有導(dǎo)接區(qū)域(焊墊區(qū))以與外部元件121電性接觸??衫脽釅汉?、各向異性導(dǎo)電膠、或焊線…等方式,以將外部導(dǎo)線與外部元件進(jìn)行導(dǎo)接。

形成透光保護(hù)層118,覆蓋第一透光膜110以及第二圖案化電極層108上。在第一玻璃基板101的第二表面101b及第一圖案化電極層102上涂布光學(xué)膠119,并覆蓋邊框122和外蓋玻璃120,完成如圖1H所繪示的觸控結(jié)構(gòu)100。

由于,前述所揭露的制作工藝方法,可通過(guò)框膠105將結(jié)構(gòu)相同的第一玻璃基板101和第二玻璃基板103結(jié)合,進(jìn)行同步的薄化加工,不僅可以增加第一玻璃基板101和第二玻璃基板103薄化加工過(guò)程中的機(jī)械強(qiáng)度,還具有提高生產(chǎn)效率的功能。加上,形成第一圖案化電極層102和第三圖案化電極層104的制作工藝步驟,是在尚未薄化的第一玻璃基板101和第二玻璃基板103上進(jìn)行;且形成第二圖案化電極層108和第四圖案化電極層114的制作工藝則是在承載基板109上完成,并不會(huì)對(duì)第一玻璃基板101和第二玻璃基板103產(chǎn)生機(jī)械沖擊,可大幅降低第一玻璃基板101和第二玻璃基板103在制作工藝中發(fā)生破裂的機(jī)率,增加制作工藝良率。

請(qǐng)參照?qǐng)D2A至圖2G,圖2A至圖2G是根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例所繪示的一系列用來(lái)形成觸控結(jié)構(gòu)200的制作工藝結(jié)構(gòu)剖面示意圖。其中形成觸控結(jié)構(gòu)200的方法包含下述步驟:

首先,提供一第一玻璃基板201,使第一玻璃基板201具有一個(gè)第一表面201a和與第一表面201a相對(duì)的第二表面201b(如圖2A所繪示)。在本發(fā)明的一些實(shí)施例之中,第一表面201a和第二表面201b可具有相同的粗糙程度,其中二者的表面粗糙度實(shí)質(zhì)介于1納米至5納米之間。第一玻璃基板201的厚度實(shí)質(zhì)介于300微米(μm)至600微米之間。

接著,在第一玻璃基板201的第二表面201b上形成第一圖案化電極層202。在本發(fā)明一實(shí)施例中,可使第一圖案化電極層202與第二表面201b直接接觸,并在第二表面201b的周邊區(qū)覆蓋邊框222(如圖2B所繪示)。在本發(fā)明的一些實(shí)施例之中,第一圖案化電極層202的形成方式和適用材料,和上述第一圖案化電極層102類似,在此不再贅述。在本實(shí)施例中,觸控結(jié)構(gòu)200是一種電容式觸控結(jié)構(gòu),第一圖案化電極層202可作為電容式觸控結(jié)構(gòu)觸控電極,例如,感測(cè)電極(Rx)。在另一實(shí)施例中,第一圖案化電極層202還包括位于周邊區(qū)且覆蓋于邊框222上的外部導(dǎo)線202a。外部導(dǎo)線202a可與第一圖案化電極層202電連接。

參閱圖2C,另外,提供一第一導(dǎo)電膜單元40(附圖標(biāo)號(hào)需修改)。在本發(fā)明的一些實(shí)施例中,第一導(dǎo)電膜單元40的形成包括下述步驟:首先,通過(guò)旋涂(spin coating)制作工藝或其他方式,在一個(gè)承載基板209上涂布一塑化材料,用于形成一第一透光膜210,例如一各向同性膜(Isotropic film)。接著,形成一第二圖案化電極層208。在本實(shí)施例中,第二圖案化電極層208可作為電容式觸控結(jié)構(gòu)的觸控電極,例如,驅(qū)動(dòng)電極(Tx)。

在本發(fā)明的一些實(shí)施例中,第一透光膜210的形成方式和適用材料,與上述第一實(shí)施例中的第一透光膜110類似,在此不再贅述。第二圖案化電極層208的形成方式和適用材料,與上述第一實(shí)施例中的第二圖案化電極層108類似,在此不再贅述。

在本實(shí)施例中,第二圖案化電極層208是由氧化銦錫所構(gòu)成的透明電極。另外,第一導(dǎo)電膜單元40還包括位于周邊區(qū)的外部導(dǎo)線211。外部導(dǎo)線211可由形成第二圖案化電極層208的制作工藝所形成,而具有與第二圖案化電極層208相同的材質(zhì)。但外部導(dǎo)線211的材料與形成方示并不以此為限,也可由其他導(dǎo)電材料形成。例如,可通過(guò)金屬沉積制作工藝,在第一透光膜210的周邊區(qū)形成的外部導(dǎo)線211。外部導(dǎo)線211可與第二圖案化電極層208電連接。

后續(xù),將第一透光膜210與承載基板209分離,而得到第一導(dǎo)電膜單元40,其包括第一透光膜210、以及位于第一透光膜210上的第二圖案化電極層208和外部導(dǎo)線211。接著,參閱圖2D,通過(guò)光學(xué)膠212,將第一透光膜210貼附于第一玻璃基板201的第二表面201b上,使第二圖案化電極層208位于第一透光膜210的遠(yuǎn)離第一玻璃基板201的第二表面201b的一側(cè)上,并通過(guò)光學(xué)膠212使第一透光膜210與第一玻璃基板201隔離。由于,光學(xué)膠212的厚度實(shí)質(zhì)介于50微米至200微米,通過(guò)光學(xué)膠212可使位于第一玻璃基板201的第二表面201b上的第一圖案化電極層202與第一透光膜210隔離;且使位于第一透光膜210上的第二圖案化電極層208與第一玻璃基板201隔離(如圖2D所繪示)。

同時(shí),提供一第二玻璃基板203,使其具有第三表面203a和與第三表面203a相對(duì)的第四表面203b,并于第四表面203b上形成一個(gè)第三圖案化電極層204,可使第三圖案化電極層204與第四表面204b直接接觸。并以和第一導(dǎo)電膜單元40類似的方法,提供一個(gè)具有第四圖案化電極層214、第二透光膜213和外部導(dǎo)線211的第二導(dǎo)電膜單元42。通過(guò)光學(xué)膠215將第二透光膜213貼附于第二玻璃基板203的第四表面203b上,使第四圖案化電極層214位于第二透光膜213的遠(yuǎn)離第二玻璃基板203的第四表面203b的一側(cè)上。

同樣地,第四圖案化電極層214可通過(guò)光學(xué)膠215與第二玻璃基板203隔離;且第三圖案化電極層204可通過(guò)光學(xué)膠215與第二透光膜213隔離。在本實(shí)施例之中,玻璃基板、圖案化電極層、透光膜的制造方式和適用材料,可參考前述,并不在此贅述。

之后,采用框膠205將貼附有第一導(dǎo)電膜單元40的第一玻璃基板201以及貼附有第二導(dǎo)電膜單元42的第二玻璃基板203對(duì)準(zhǔn)并結(jié)合(對(duì)組),使位于第一玻璃基板201的第二表面201b上的第一透光膜210面對(duì)位于第二玻璃基板203的第四表面203b上的第二透光膜213(如圖2E)。

參閱圖2F,再對(duì)第一玻璃基板201的第一表面201a和第二玻璃基板203的第三表面203a進(jìn)行薄化制作工藝206。薄化制作工藝206是采用包含有氫氟酸溶液的蝕刻劑的濕式制作工藝來(lái)移除一部分的第一玻璃基板201和第二玻璃基板203,使第一玻璃基板201的第一表面201a具有實(shí)質(zhì)大于第二表面201b的粗糙度;同時(shí)使第三表面203a具有實(shí)質(zhì)大于第四表面203b的粗糙度(如圖2F所繪示)。

在本實(shí)施例之中,薄化后的第一表面201a和第三表面203a可具有相同的粗糙程度,其中二者的表面粗糙度實(shí)質(zhì)介于100納米至300納米之間。被薄化后的第一玻璃基板201和第二玻璃基板203的厚度實(shí)質(zhì)介于50微米至300微米之間。在另一些實(shí)施例中,會(huì)在對(duì)經(jīng)過(guò)薄化后的第一表面201a和第三表面203a進(jìn)行一研磨制作工藝(未繪示),使第一表面201a和第三表面203a具有實(shí)質(zhì)介于1.5納米至5納米之間的粗糙度。因此,依據(jù)本發(fā)明實(shí)施例,經(jīng)過(guò)薄化后的第一表面201a和第三表面203a,最后的粗糙度可為1.5nm至300nm之間。

接著,以刀輪切割的方式將框膠205移除,使貼附有第一導(dǎo)電膜單元40的第一玻璃基板201與貼附有第二導(dǎo)電膜單元42的第二玻璃基板203彼此分離,形成二個(gè)獨(dú)立的制作工藝單元(如圖2G所繪示),再分別進(jìn)行后續(xù)加工制作工藝。為了方便描述起見(jiàn),以下僅就貼附有第一導(dǎo)電膜單元40的第一玻璃基板201的后續(xù)制作工藝進(jìn)行說(shuō)明。

后續(xù),提供一個(gè)外部元件,例如軟性電路板221,分別與位于第一透光膜210上的外部導(dǎo)線211以及位于玻璃基板201上的外部導(dǎo)線202a電性接觸。外部導(dǎo)線211和外部導(dǎo)線202a有導(dǎo)接區(qū)域(焊墊區(qū))以與外部元件221電性接觸。可利用熱壓合、各向異性導(dǎo)電膠、或焊線…等方式,以將外部導(dǎo)線與外部元件進(jìn)行導(dǎo)接。形成透光保護(hù)層218,覆蓋第一透光膜210以及第二圖案化電極層208上,完成如圖2H所繪示的觸控結(jié)構(gòu)200。薄化后的第一玻璃基板201對(duì)觸控結(jié)構(gòu)200具有保護(hù)作用,可作為觸控結(jié)構(gòu)200的外蓋玻璃,不需額外附加其他玻璃層,可達(dá)到節(jié)省制作工藝成本的目的。

由于,前述所揭露的制作工藝方法,可通過(guò)框膠205將結(jié)構(gòu)相同的第一玻璃基板201和第二玻璃基板203結(jié)合,進(jìn)行同步的薄化加工,不僅可以增加第一玻璃基板201和第二玻璃基板203薄化加工過(guò)程中的機(jī)械強(qiáng)度,還具有提高生產(chǎn)效率的功能。加上,形成第一圖案化電極層202和第三圖案化電極層204的制作工藝步驟都是在尚未薄化的第一玻璃基板201和第二玻璃基板203上進(jìn)行;且形成第二圖案化電極層208和第四圖案化電極層214的制作工藝則是在承載基板209上完成,并不會(huì)對(duì)第一玻璃基板201和第二玻璃基板203產(chǎn)生機(jī)械沖擊,可大幅降低第一玻璃基板201和第二玻璃基板203在制作工藝中發(fā)生破裂的機(jī)率,增加制作工藝良率。

請(qǐng)參照?qǐng)D3,圖3是根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例繪示采用圖1H的觸控結(jié)構(gòu)100所制作而成的觸控顯示裝置90的結(jié)構(gòu)剖面示意圖。在本發(fā)明的一些實(shí)施例中,觸控顯示裝置90是一種外掛式的觸控顯示面板,其至少包括一個(gè)顯示面板300以及如圖1H所繪示的觸控結(jié)構(gòu)100。顯示面板300可以是,例如液晶顯示面板(Liquid Crystal Display,LCD)、發(fā)光二極管(Light-Emitting Diode,LED)顯示面板、有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)顯示面板或電子墨水(E-Ink)顯示面板。其中,顯示面板300具有一個(gè)出光面301。觸控結(jié)構(gòu)100位于出光面上。

根據(jù)上述,本發(fā)明的實(shí)施例是提供一種薄型化的觸控結(jié)構(gòu)與制作方法及其應(yīng)用裝置。在一實(shí)施例中,先提供一個(gè)玻璃基板,在玻璃基板的一側(cè)形成第一圖案化電極層,再對(duì)玻璃基板的另一側(cè)進(jìn)行薄化制作工藝。之后,再將具有第二圖案化電極層的導(dǎo)電膜單元貼附于玻璃基板上。在另一實(shí)施例中,則是先于玻璃基板的一側(cè)形成第一圖案化電極層,并在第一圖案化電極層上貼附具有第二圖案化電極層的導(dǎo)電膜單元。再對(duì)玻璃基板的另一側(cè)進(jìn)行薄化制作工藝。

由于分別位于玻璃基板上以及透光膜上的第一圖案化電極層和第二圖案化電極層是各自進(jìn)行制作。因此,形成第一圖案化電極層和第二圖案化電極層的制作工藝步驟并不會(huì)對(duì)薄化后的玻璃基板的機(jī)械強(qiáng)度產(chǎn)生影響。且在一些實(shí)施例中,是將兩片玻璃彼此貼附組合之后,才對(duì)玻璃基板進(jìn)行薄化,可降低玻璃基板于制作工藝中發(fā)生破裂的機(jī)率,增加良率。另外,在一些實(shí)施例中,薄化后的玻璃基板可作為外蓋玻璃使用,并不需額外附加其他玻璃層,可降低制作工藝成本,達(dá)到前述的發(fā)明目的。

雖然結(jié)合以上優(yōu)選實(shí)施例公開(kāi)了本發(fā)明,然而其并非用以限定本發(fā)明,任何該技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者,在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi),可作些許的更動(dòng)與潤(rùn)飾,因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以附上的權(quán)利要求所界定的為準(zhǔn)。

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