技術總結(jié)
本發(fā)明公開一種基于離子束技術的復雜曲面去除函數(shù)計算方法，一、測量離子束流在距離離子源L處的離子濃度分布d0；二、通過去除函數(shù)實驗獲得所選定的離子源工作參數(shù)在距離L處的平面基準去除函數(shù)；并對去除函數(shù)進行標定，獲得離子濃度與材料去除率的對應系數(shù)矩陣C；三、測量離子束流在距離離子源L處離子濃度分布da，計算得到與距離離子源L處離子束流濃度分布所對應的平面去除函數(shù)F；四、測量離子束流濃度空間分布并進行歸一化得到離子束流空間分布矩陣Id；五、計算復雜曲面表面曲率半徑變化對去除函數(shù)的影響獲得矩陣ω；六、根據(jù)平面去除函數(shù)F、離子束流空間分布矩陣Id和矩陣ω，得到去除函數(shù)R；本發(fā)明能夠?qū)﹄x子束拋光復雜曲面過程中去除函數(shù)的變化進行準確計算。

技術研發(fā)人員：張學軍;唐瓦;薛棟林;鄧偉杰;尹小林
受保護的技術使用者：中國科學院長春光學精密機械與物理研究所
文檔號碼：201610590627
技術研發(fā)日：2016.07.25
技術公布日：2017.06.16