本發(fā)明涉及觸控技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種蓋板及其制備方法、顯示裝置。
背景技術(shù):
隨著顯示技術(shù)的飛速發(fā)展,觸控屏已被人們廣泛地應(yīng)用于智能手機(jī)、平板電腦、電視等電子產(chǎn)品中。由于電容式觸控屏具有定位精確靈敏、觸摸手感好以及使用壽命長(zhǎng)等特點(diǎn),而受到越來(lái)越多的關(guān)注。觸控屏按觸控方式可以分為互容式觸控屏和自容式觸控屏,由于互容式觸控屏可以實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)觸控,因而成為目前觸控屏市場(chǎng)上的主流和未來(lái)的發(fā)展趨勢(shì)。
其中,單玻璃全貼合技術(shù)(One Glass Solution,簡(jiǎn)稱OGS)是指在保護(hù)玻璃上直接形成氧化銦錫(Indium tin oxide,簡(jiǎn)稱ITO)材料的觸控電極和ITO材料或金屬材料的搭橋,保護(hù)玻璃同時(shí)起到保護(hù)功能和觸控功能的雙重作用。
現(xiàn)有的OGS觸控屏中觸控結(jié)構(gòu)如圖1所示,包括相互交叉的第一觸控電極10和第二觸控電極20,第一觸控電極10包括多個(gè)直接相連的第一觸控子電極101,第二觸控電極20中的第二觸控子電極201通過(guò)搭橋30連接。這就導(dǎo)致在制作形成第一觸控電極10和第二觸控電極20的過(guò)程中至少需要三次構(gòu)圖工藝,因而使得構(gòu)圖工藝的次數(shù)較多,從而導(dǎo)致生產(chǎn)成本增加。
此外,采用搭橋30連接第二觸控子電極201,容易出現(xiàn)靜電放電(Electro-Static Discharge,簡(jiǎn)稱ESD)過(guò)程中橋點(diǎn)處擊穿的可能性,影響產(chǎn)品性能。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的實(shí)施例提供一種蓋板及其制備方法、顯示裝置,可減少構(gòu)圖工藝次數(shù),同時(shí)可避免ESD實(shí)驗(yàn)中橋點(diǎn)擊穿現(xiàn)象。
為達(dá)到上述目的,本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
第一方面,提供一種蓋板,包括透明襯底,設(shè)置在所述透明襯底上的感應(yīng)電極層和驅(qū)動(dòng)電極層,所述感應(yīng)電極層和所述驅(qū)動(dòng)電極層之間通過(guò)絕緣層隔離;所述感應(yīng)電極層包括多個(gè)感應(yīng)電極,所述驅(qū)動(dòng)電極層包括多個(gè)驅(qū)動(dòng)電極,所述感應(yīng)電極和所述驅(qū)動(dòng)電極交叉設(shè)置;其中,所述感應(yīng)電極和所述驅(qū)動(dòng)電極均呈網(wǎng)格結(jié)構(gòu)。
優(yōu)選的,所述感應(yīng)電極和所述驅(qū)動(dòng)電極均為金屬材料。
進(jìn)一步優(yōu)選的,所述金屬材料的方阻小于等于0.3Ω/cm2。
優(yōu)選的,所述蓋板還包括保護(hù)層,所述保護(hù)層設(shè)置在所述感應(yīng)電極層和所述驅(qū)動(dòng)電極層中遠(yuǎn)離所述透明襯底的一者的上方。
進(jìn)一步優(yōu)選的,所述保護(hù)層和所述絕緣層的材料相同。
基于上述,可選的,所述網(wǎng)格結(jié)構(gòu)中網(wǎng)格的形狀為規(guī)則多邊形或無(wú)規(guī)則多邊形。
第二方面,提供一種顯示裝置,包括設(shè)置在所述顯示裝置出光側(cè)的上述第一方面的蓋板。
優(yōu)選的,所述顯示裝置包括顯示面板,所述蓋板設(shè)置在所述顯示面板的出光側(cè);其中,所述顯示面板為液晶顯示面板,或有機(jī)電致發(fā)光二極管顯示面板。
第三方面,提供一種蓋板的制備方法,包括:在透明襯底上通過(guò)構(gòu)圖工藝形成第一電極層;所述第一電極層包括多個(gè)第一電極,所述第一電極呈網(wǎng)格結(jié)構(gòu);在形成有所述第一電極層的透明襯底上形成絕緣層;在所述絕緣層上通過(guò)構(gòu)圖工藝形成第二電極層;所述第二電極層包括多個(gè)第二電極,所述第二電極呈網(wǎng)格結(jié)構(gòu);其中,所述第一電極和所述第二電極交叉;所述第一電極和所述第二電極互為驅(qū)動(dòng)電極和感應(yīng)電極。
優(yōu)選的,所述方法還包括:在形成有所述第二電極層的透明襯底上形成保護(hù)層。
本發(fā)明的實(shí)施例提供一種蓋板及其制備方法、顯示裝置,通過(guò)將感應(yīng)電極層和驅(qū)動(dòng)電極層設(shè)置在透明襯底上,可無(wú)需對(duì)起隔離作用的絕緣層進(jìn)行刻蝕,只需形成一層絕緣層即可,因而最多只需兩次構(gòu)圖工藝即可完成對(duì)感應(yīng)電極層和驅(qū)動(dòng)電極層的制造,相對(duì)現(xiàn)有技術(shù)可減少構(gòu)圖工藝次數(shù),工藝過(guò)程簡(jiǎn)單,良率高。在此基礎(chǔ)上,由于感應(yīng)電極和驅(qū)動(dòng)電極均呈網(wǎng)格結(jié)構(gòu)且直接形成在透明襯底上,因此可以提高蓋板的透過(guò)率,可使透過(guò)率達(dá)到90%以上。此外,相對(duì)現(xiàn)有技術(shù)由于無(wú)需搭橋橋點(diǎn),因此可避免ESD過(guò)程中橋點(diǎn)擊穿現(xiàn)象,提升了產(chǎn)品的性能。
附圖說(shuō)明
為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見(jiàn)地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為現(xiàn)有技術(shù)提供的一種觸控結(jié)構(gòu)的示意圖;
圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種蓋板的俯視示意圖;
圖3為圖2中A-A1-A2-A3-A4-A’向剖視示意圖;
圖4為圖2中B-B’向剖視示意圖一;
圖5為圖2中B-B’向剖視示意圖二;
圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種感應(yīng)電極中網(wǎng)格的形狀示意圖;
圖7為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示裝置的示意圖;
圖8(a)為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種制備蓋板的流程示意圖一;
圖8(b)為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種制備蓋板的流程示意圖二;
圖8(c)為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種制備蓋板的流程示意圖三。
附圖標(biāo)記:
10-第一觸控電極;101-第一觸控子電極;20-第二觸控電極;201-第二觸控子電極;30-搭橋;40-蓋板;41-透明襯底;42-感應(yīng)電極;421-金屬線;43-驅(qū)動(dòng)電極;44-絕緣層;45-保護(hù)層;50-顯示面板;60-OCR。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒景l(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
本發(fā)明實(shí)施例提供一種蓋板40,如圖2-4所示,包括透明襯底41,設(shè)置在透明襯底41上的感應(yīng)電極層和驅(qū)動(dòng)電極層,感應(yīng)電極層和驅(qū)動(dòng)電極層之間通過(guò)絕緣層44隔離。感應(yīng)電極層包括多個(gè)感應(yīng)電極42,驅(qū)動(dòng)電極層包括多個(gè)驅(qū)動(dòng)電極43,感應(yīng)電極42和驅(qū)動(dòng)電極43交叉設(shè)置。
其中,感應(yīng)電極42和驅(qū)動(dòng)電極43均呈網(wǎng)格結(jié)構(gòu)。
需要說(shuō)明的是,第一,不對(duì)感應(yīng)電極層和驅(qū)動(dòng)電極層的材料進(jìn)行限定,可以是透明導(dǎo)電材料,例如ITO,也可以是金屬材料。
第二,對(duì)于絕緣層44的材料,可以是無(wú)機(jī)材料例如SiO2(二氧化硅)、SixNy、SiOxNy(氮氧化硅)等無(wú)機(jī)透明材料,也可以是有機(jī)材料例如作為OC(over coating,涂覆保護(hù))層的有機(jī)材料等高透過(guò)率有機(jī)材料。
第三,感應(yīng)電極42呈網(wǎng)格結(jié)構(gòu),即為:每個(gè)感應(yīng)電極42均包括多條線,這些線交叉形成多個(gè)網(wǎng)格。
同理,每個(gè)驅(qū)動(dòng)電極43也包括多條線,這些線交叉形成多個(gè)網(wǎng)格。
第四,透明襯底41例如可以為玻璃襯底。
本發(fā)明實(shí)施例提供一種蓋板40,通過(guò)將感應(yīng)電極層和驅(qū)動(dòng)電極層設(shè)置在透明襯底41上,可無(wú)需對(duì)起隔離作用的絕緣層44進(jìn)行刻蝕,只需形成一層絕緣層44即可,因而最多只需兩次構(gòu)圖工藝即可完成對(duì)感應(yīng)電極層和驅(qū)動(dòng)電極層的制造,相對(duì)現(xiàn)有技術(shù)可減少構(gòu)圖工藝次數(shù),工藝過(guò)程簡(jiǎn)單,良率高。在此基礎(chǔ)上,由于感應(yīng)電極42和驅(qū)動(dòng)電極43均呈網(wǎng)格結(jié)構(gòu)且直接形成在透明襯底41上,因此可以提高蓋板40的透過(guò)率,可使透過(guò)率達(dá)到90%以上。此外,相對(duì)現(xiàn)有技術(shù)由于無(wú)需搭橋橋點(diǎn),因此可避免ESD過(guò)程中橋點(diǎn)擊穿現(xiàn)象,提升了產(chǎn)品的性能。
優(yōu)選的,感應(yīng)電極42和驅(qū)動(dòng)電極43均為金屬材料。
其中,金屬材料可以為金屬單質(zhì)或合金等。
由于金屬材料的方阻較低,即使將本發(fā)明實(shí)施例提供的蓋板40應(yīng)用在大尺寸或超大尺寸觸控顯示屏上,也能被IC(Integrated Circuit,集成電路)驅(qū)動(dòng),而且可達(dá)到較好的觸控效果,支持多點(diǎn)觸控。此外,可通過(guò)選擇常規(guī)的金屬材料而大幅節(jié)省材料制程成本。
進(jìn)一步優(yōu)選的,所述金屬材料的方阻小于等于0.3Ω/cm2。
示例的,所述金屬材料可以為Ag(銀)、Cu(銅)、Al(鋁)、或AlNb(鋁鈮合金)合金等。
本發(fā)明實(shí)施例通過(guò)采用導(dǎo)電性特別好的金屬材料來(lái)制作感應(yīng)電極42和驅(qū)動(dòng)電極43,可達(dá)到極好的觸控效果,且最高可支持無(wú)數(shù)點(diǎn)觸控。
進(jìn)一步優(yōu)選的,所述金屬材料的方阻小于等于0.1Ω/cm2。
基于上述,如圖5所示,所述蓋板40還包括保護(hù)層45,該保護(hù)層45設(shè)置在感應(yīng)電極層和驅(qū)動(dòng)電極層中遠(yuǎn)離透明襯底41的一者的上方。
具體的,參考圖5所示,可以先在透明襯底41上制作形成感應(yīng)電極42,之后制作形成驅(qū)動(dòng)電極43,然后在驅(qū)動(dòng)電極43上方形成保護(hù)層45。
或者,可以先在透明襯底41上制作形成驅(qū)動(dòng)電極43,之后制作形成感應(yīng)電極42,然后在感應(yīng)電極42上方形成保護(hù)層45。
本發(fā)明實(shí)施例通過(guò)在最遠(yuǎn)離透明襯底41的感應(yīng)電極層或驅(qū)動(dòng)電極層上方設(shè)置保護(hù)層45,可避免當(dāng)位于最外側(cè)的感應(yīng)電極層或驅(qū)動(dòng)電極層的材料為金屬材料時(shí),被氧化、腐蝕而導(dǎo)致觸控性能降低。
進(jìn)一步優(yōu)選的,保護(hù)層45和絕緣層44的材料相同。
本發(fā)明實(shí)施例通過(guò)將保護(hù)層45和絕緣層44的材料設(shè)置為相同,可節(jié)省材料成本,工藝更簡(jiǎn)單。
基于上述,網(wǎng)格結(jié)構(gòu)中網(wǎng)格的形狀可以為規(guī)則多邊形或無(wú)規(guī)則多邊形。
即,如圖2所示,以一個(gè)感應(yīng)電極42為例,其中所有線(例如可以是金屬線421)交叉形成多個(gè)網(wǎng)格,對(duì)于任一個(gè)網(wǎng)格,其形狀可以為規(guī)則多邊形或無(wú)規(guī)則多邊形。
其中,參考圖2中的虛線框所示,網(wǎng)格的形狀可以為菱形,三角形,五邊形等。參考圖6中的虛線框所示,網(wǎng)格的形狀也可以為矩形。
此外,網(wǎng)格的形狀還可以是六邊形等其他規(guī)則的多邊形,或無(wú)規(guī)則多邊形等。
需要說(shuō)明的是,對(duì)于應(yīng)用到任一種尺寸的顯示裝置的蓋板40,在制作形成網(wǎng)格結(jié)構(gòu)的感應(yīng)電極42和驅(qū)動(dòng)電極43之前,首先需使用相關(guān)軟件進(jìn)行光學(xué)模擬,以使感應(yīng)電極42和驅(qū)動(dòng)電極43的網(wǎng)格的參數(shù)與顯示面板相匹配,例如對(duì)于菱形網(wǎng)格,要模擬出合適的菱形邊長(zhǎng)及菱形夾角,從而避免不匹配時(shí),蓋板40貼合在顯示面板后易出現(xiàn)干涉條紋的問(wèn)題。
本發(fā)明實(shí)施例還提供一種顯示裝置,如圖7所示,包括設(shè)置在顯示裝置出光側(cè)的所述蓋板40。
所述顯示裝置具體可以是顯示器、電視、數(shù)碼相框、手機(jī)、平板電腦等具有任何顯示觸控功能的產(chǎn)品或者部件。
可選的,如圖7所示,所述顯示裝置包括顯示面板50,蓋板40設(shè)置在顯示面板50的出光側(cè);其中,所述顯示面板50可以為液晶顯示面板,或OLED(Organic Light Emitting Diode,有機(jī)電致發(fā)光二極管)顯示面板。
此處,顯示面板50和蓋板40可通過(guò)OCR(Optical Clear Resin,光學(xué)透明膠)60連接。
當(dāng)顯示面板50為液晶顯示面板時(shí),其包括陣列基板、對(duì)盒基板以及設(shè)置在二者之間的液晶層。其中,陣列基板可以包括TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶體管),與TFT的漏極電連接的像素電極;進(jìn)一步的還可以包括公共電極。對(duì)盒基板可以包括黑矩陣和彩膜。此處,彩膜可以設(shè)置在對(duì)盒基板上,也可設(shè)置在陣列基板上;公共電極可以設(shè)置在陣列基板上,也可設(shè)置在對(duì)盒基板上。
當(dāng)顯示面板50為OLED顯示面板時(shí),其包括陣列基板和封裝基板。其中,陣列基板可以包括TFT,與TFT的漏極電連接的陽(yáng)極、陰極、以及位于陽(yáng)極和陰極之間的有機(jī)材料功能層。
本發(fā)明實(shí)施例還提供一種蓋板的制備方法,如圖8(a)所示,包括如下步驟:
S10、在透明襯底41上通過(guò)構(gòu)圖工藝,形成第一電極層;所述第一電極層包括多個(gè)第一電極,所述第一電極呈網(wǎng)格結(jié)構(gòu)。
其中,參考圖2-圖4所示,第一電極例如可以為感應(yīng)電極42,此時(shí)第一電極層即為感應(yīng)電極層。
此處,構(gòu)圖工藝并不限于采用掩模板進(jìn)行構(gòu)圖的方式,也可包括采用打印、印刷等其他構(gòu)圖方式。即,本發(fā)明實(shí)施例中只要可以形成第一電極層的工藝都可以稱為構(gòu)圖工藝。
S11、參考圖3-圖4所示,在形成有第一電極層的透明襯底41上形成絕緣層44。
此處,可通過(guò)沉積或涂覆工藝,直接成膜形成絕緣層44,無(wú)需進(jìn)行構(gòu)圖。
S12、在絕緣層44上通過(guò)構(gòu)圖工藝,形成第二電極層;所述第二電極層包括多個(gè)第二電極,所述第二電極呈網(wǎng)格結(jié)構(gòu),第二電極和第一電極交叉。
其中,參考圖2-圖4所示,第二電極例如可以為驅(qū)動(dòng)電極43,此時(shí)第二電極層即為驅(qū)動(dòng)電極層。
此處,構(gòu)圖工藝并不限于采用掩模板進(jìn)行構(gòu)圖的方式,也可包括采用打印、印刷等其他構(gòu)圖方式。即,本發(fā)明實(shí)施例中只要可以形成第二電極層的工藝都可以稱為構(gòu)圖工藝。
需要說(shuō)明的是,在進(jìn)行S10之前,需根據(jù)蓋板40所應(yīng)用的顯示裝置的不同尺寸,首先需要使用相關(guān)軟件進(jìn)行光學(xué)模擬,以使感應(yīng)電極42和驅(qū)動(dòng)電極43的網(wǎng)格的參數(shù)與顯示面板50相匹配,例如對(duì)于菱形網(wǎng)格,要模擬出合適的菱形邊長(zhǎng)及菱形夾角,從而避免不匹配時(shí),蓋板40貼合在顯示面板50后易出現(xiàn)干涉條紋的問(wèn)題。
此外,第一電極層和第二電極層的材料可以是透明導(dǎo)電材料,例如ITO,也可以是金屬材料。
本發(fā)明實(shí)施例提供一種蓋板的制備方法,通過(guò)兩次構(gòu)圖工藝將感應(yīng)電極42和驅(qū)動(dòng)電極43形成在透明襯底41上,可無(wú)需對(duì)起隔離作用的絕緣層44進(jìn)行刻蝕,只需形成一層絕緣層44即可,因而相對(duì)現(xiàn)有技術(shù)可減少構(gòu)圖工藝次數(shù),工藝過(guò)程簡(jiǎn)單,良率高。在此基礎(chǔ)上,由于感應(yīng)電極42和驅(qū)動(dòng)電極43均呈網(wǎng)格結(jié)構(gòu)且直接形成在透明襯底41上,因此可以提高蓋板40的透過(guò)率,可使透過(guò)率達(dá)到90%以上。此外,相對(duì)現(xiàn)有技術(shù)由于無(wú)需搭橋橋點(diǎn),因此可避免ESD過(guò)程中橋點(diǎn)擊穿現(xiàn)象,提升了產(chǎn)品的性能。
下面提供兩個(gè)具體實(shí)施例以詳細(xì)描述蓋板的制備方法。
實(shí)施例一:一種蓋板的制備方法,如圖8(b)所示,包括如下步驟:
S101、在透明襯底41上形成第一導(dǎo)電薄膜。
其中,可采用沉積、涂覆、濺射等多種方式形成第一導(dǎo)電薄膜。
S102、在第一導(dǎo)電薄膜上形成光刻膠。
其中,可采用沉積、涂覆等方式形成光刻膠。
S103、將掩模板置于所述光刻膠的上方,對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光、顯影,使保留的光刻膠與待形成第一電極層的第一電極對(duì)應(yīng)。
其中,參考圖2-圖4所示,第一電極例如可以為感應(yīng)電極42,此時(shí)第一電極層即為感應(yīng)電極層。
S104、對(duì)未被光刻膠覆蓋的第一導(dǎo)電薄膜進(jìn)行刻蝕,形成所述第一電極層,并去除位于所述第一電極層上方的光刻膠。
此處,可采用干法或濕法刻蝕工藝對(duì)第一導(dǎo)電薄膜進(jìn)行刻蝕。
S105、參考圖3-圖4所示,在形成有第一電極層的透明襯底41上涂覆絕緣薄膜,形成絕緣層44。
S106、在絕緣層44上形成第二導(dǎo)電薄膜。
其中,可采用沉積、涂覆、濺射等多種方式形成第二導(dǎo)電薄膜。
S107、在第二導(dǎo)電薄膜上形成光刻膠。
其中,可采用沉積、涂覆等方式形成光刻膠。
S108、將掩模板置于所述光刻膠的上方,對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光、顯影,使保留的光刻膠與待形成第二電極層的第二電極對(duì)應(yīng)。
其中,參考圖2-圖4所示,第二電極例如可以為驅(qū)動(dòng)電極43,此時(shí)第二電極層即為驅(qū)動(dòng)電極層。
S109、對(duì)未被光刻膠覆蓋的第二導(dǎo)電薄膜進(jìn)行刻蝕,形成所述第二電極層,并去除位于所述第二電極層上方的光刻膠。
此處,可采用干法或濕法刻蝕工藝對(duì)第二導(dǎo)電薄膜進(jìn)行刻蝕。
本發(fā)明實(shí)施例通過(guò)采用成膜、曝光、顯影、刻蝕、光刻膠剝離的傳統(tǒng)構(gòu)圖工藝,可使形成的感應(yīng)電極42和驅(qū)動(dòng)電極43的網(wǎng)格匹配精度較好。
實(shí)施例二,一種蓋板的制備方法,如圖8(c)所示,包括如下步驟:
S201、在透明襯底41上通過(guò)印刷工藝或打印工藝,形成第一電極層;所述第一電極層包括多個(gè)第一電極,所述第一電極呈網(wǎng)格結(jié)構(gòu)。
其中,參考圖2-圖4所示,第一電極例如可以為感應(yīng)電極42,此時(shí)第一電極層即為感應(yīng)電極層。
S202、參考圖3-圖4所示,在形成有第一電極層的透明襯底上涂覆絕緣薄膜,形成絕緣層44。
S203、在絕緣層44上通過(guò)印刷工藝或打印工藝,形成第二電極層;所述第二電極層包括多個(gè)第二電極,所述第二電極呈網(wǎng)格結(jié)構(gòu),第二電極和第一電極交叉。
其中,參考圖2-圖4所示,第二電極例如可以為驅(qū)動(dòng)電極43,此時(shí)第二電極層即為驅(qū)動(dòng)電極層。
基于上述,優(yōu)選的,所述方法還包括:在形成有第二電極層的透明襯底41上形成保護(hù)層45。
其中,參考圖5所示,以第二電極層為驅(qū)動(dòng)電極層為例,即保護(hù)層45形成在驅(qū)動(dòng)電極43上方進(jìn)行示意。
此處,可通過(guò)沉積或涂覆工藝,直接成膜形成保護(hù)層45,無(wú)需進(jìn)行構(gòu)圖。
本發(fā)明實(shí)施例通過(guò)在最遠(yuǎn)離透明襯底41的感應(yīng)電極層或驅(qū)動(dòng)電極層上方形成保護(hù)層45,可避免當(dāng)位于最外側(cè)的感應(yīng)電極層或驅(qū)動(dòng)電極層的材料為金屬材料時(shí),被氧化、腐蝕而導(dǎo)致觸控性能的降低。
進(jìn)一步優(yōu)選的,保護(hù)層45和絕緣層44的材料相同。
基于上述,網(wǎng)格結(jié)構(gòu)中的網(wǎng)格的形狀可以為規(guī)則多邊形或無(wú)規(guī)則多邊形。
其中,參考圖2中的虛線框所示,網(wǎng)格的形狀可以為菱形,三角形,五邊形等。參考圖6中的虛線框所示,網(wǎng)格的形狀也可以為矩形。
此外,網(wǎng)格的形狀還可以是六邊形等其他規(guī)則的多邊形,或無(wú)規(guī)則多邊形等。
以上所述,僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式,但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此,任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi),可輕易想到變化或替換,都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此,本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。