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陣列基板及其制作方法、觸摸屏與流程

文檔序號(hào):12362126閱讀:218來源:國知局
陣列基板及其制作方法、觸摸屏與流程

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體地,涉及一種陣列基板及其制作方法、觸摸屏。



背景技術(shù):

在現(xiàn)有的TFT-LCD產(chǎn)品的制造工藝中,無論是HIC還是FIC的互容式觸摸屏,在進(jìn)行分時(shí)驅(qū)動(dòng)時(shí),作為公共電極的ITO層用于分別傳遞公共信號(hào)和觸摸信號(hào),以目前HIC產(chǎn)品(內(nèi)嵌式觸控面板)為例,如圖1所示,由設(shè)置在觸控面板內(nèi)部的公共電極兼做發(fā)射電極(Tx)1,成盒后,在彩膜基板的背面制作接收電極(Rx)2,其中,發(fā)射電極1和接收電極2的圖案均為若干條狀,且彼此垂直。

如圖1所示,上述發(fā)射電極1的ITO層在顯示面板的長邊方向(豎直方向)設(shè)置有多個(gè)條狀間隙12,各個(gè)條狀間隙12與各個(gè)相鄰的兩個(gè)接收電極2之間的間隙相對應(yīng),在模組顯示灰階畫面下,如圖2所示,顯示面板3上往往存在多個(gè)黑色條紋4,該黑色條紋4的數(shù)量與條狀間隙12的數(shù)量一致。產(chǎn)生這種顯示不良的原因在于:

如圖3所示,在上述發(fā)射電極1的ITO層上設(shè)置有挖空部11,該挖空部11的位置與亞像素單元的位置相對應(yīng),且挖空部11在顯示面板的長邊方向上的長度為H1。而在條狀間隙12處,條狀間隙12和挖空部11構(gòu)成異形挖空部,該異形挖空部在顯示面板的長邊方向上的長度為H2。由于異形挖空部的形狀和尺寸與挖空部11的形狀和尺寸不同,導(dǎo)致在異形挖空部處形成的電場及透過率與挖空部11之間存在差異,從而造成在模組顯示灰階畫面下,顯示面板上出現(xiàn)黑色條紋等不良。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一,提出了一種陣列基板及其制作方法、觸摸屏,其可以避免在模組顯示灰階畫面下,顯示面板上出現(xiàn)黑色條紋等不良。

為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的而提供一種陣列基板,包括觸摸電極層,所述觸摸電極層包括多個(gè)間隙,各個(gè)間隙與各個(gè)相鄰的兩條接收電極之間的間隙一一對應(yīng),還包括第一保護(hù)層和填充層,所述觸摸電極層、第一保護(hù)層和填充層由上而下依次設(shè)置,其中,

在所述觸摸電極層上設(shè)置有挖空部,所述挖空部的位置與亞像素單元的位置相對應(yīng);并且,其中一部分挖空部與所述間隙構(gòu)成異形挖空部;

所述填充層的位置與所述異形挖空部的位置相對應(yīng),且所述填充層與所述異形挖空部部分重疊,以使所述異顯挖空部未與所述填充層重疊的非重疊部分的形狀與所述挖空部的形狀一致;

在所述第一保護(hù)層上設(shè)置有第一開孔,且在所述第一開孔內(nèi)設(shè)置有第一連接部,用以連接所述觸摸電極層與所述填充層。

可選的,還包括平坦化層,所述填充層設(shè)置在所述平坦化層上;

在所述第一保護(hù)層上設(shè)置有第二開孔,且在所述第二開孔內(nèi)設(shè)置有第二連接部,用以連接所述亞像素單元中的電極和S/D金屬層。

可選的,還包括第二保護(hù)層,所述第二保護(hù)層設(shè)置在所述觸摸電極層上。

可選的,所述觸摸電極層用作公共電極層。

作為另一個(gè)技術(shù)方案,本發(fā)明還提供一種陣列基板的制作方法,其包括以下步驟:

S1,在平坦化層上形成填充層;

S2,在所述填充層上形成第一保護(hù)層;

S3,在所述第一保護(hù)層上形成觸摸電極層;

在步驟S3中,在所述觸摸電極層上設(shè)置有挖空部,所述挖空部的位置與亞像素單元的位置相對應(yīng);并且,其中一部分挖空部與所述間隙構(gòu)成異形挖空部;

在步驟S1中,所述填充層的位置與所述異形挖空部的位置相對應(yīng),且所述填充層與所述異形挖空部部分重疊,以使所述異顯挖空部未與所述填充層重疊的非重疊部分的形狀與所述挖空部的形狀一致;

在步驟S2中,在所述第一保護(hù)層上設(shè)置有第一開孔,且在所述第一開孔內(nèi)設(shè)置有第一連接部,用以連接所述觸摸電極層與所述填充層。

可選的,在步驟S2中,在所述第一保護(hù)層上設(shè)置有第二開孔,且在所述第二開孔內(nèi)設(shè)置有第二連接部,用以連接所述亞像素單元中的電極和S/D金屬層。

可選的,在步驟S3之后,還包括步驟S4:

在所述觸摸電極層上形成第二保護(hù)層。

可選的,所述觸摸電極層用作公共電極層。

作為另一個(gè)技術(shù)方案,本發(fā)明還提供一種觸摸屏,包括對盒設(shè)置的陣列基板和彩膜基板,所述彩膜基板包括接收電極層和亞像素單元,所述接收電極層包括間隔設(shè)置的多條接收電極;所述陣列基板包括觸摸電極層,所述觸摸電極層包括間隔設(shè)置的多條觸摸電極,所述多條觸摸電極與所述多條接收電極垂直交叉排布;并且,每條觸摸電極具有多個(gè)間隙,各個(gè)間隙與各個(gè)相鄰的兩條接收電極之間的間隙一一對應(yīng),所述陣列基板采用了本發(fā)明提供的上述陣列基板。

本發(fā)明具有以下有益效果:

本發(fā)明提供的陣列基板及其制作方法、觸摸屏的技術(shù)方案中,通過增設(shè)填充層,該填充層的位置與第一保護(hù)層上的異形挖空部的位置相對應(yīng),且填充層與異形挖空部部分重疊,可以使異顯挖空部未與填充層重疊的非重疊部分的形狀與挖空部的形狀一致,從而可以使在異形挖空部處形成的電場及透過率與挖空部處形成的電場及透過率一致,進(jìn)而可以避免在模組顯示灰階畫面下,顯示面板上出現(xiàn)黑色條紋等不良,從而可以改善顯示效果。

附圖說明

圖1為發(fā)射電極和接收電極的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖2為顯示面板出現(xiàn)黑色條紋的示意圖;

圖3為發(fā)射電極的ITO層的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的陣列基板的觸摸電極層的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的陣列基板的填充層的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖6為觸摸電極層和填充層的位置關(guān)系圖;

圖7為本發(fā)明實(shí)施例提供的陣列基板的第一保護(hù)層的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖8為第一保護(hù)層與填充層和觸摸電極層的位置關(guān)系圖。

具體實(shí)施方式

為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案,下面結(jié)合附圖來對本發(fā)明提供的陣列基板及其制作方法、觸摸屏進(jìn)行詳細(xì)描述。

請一并參閱圖4-8,本發(fā)明實(shí)施例提供的陣列基板,其包括由上而下依次設(shè)置的觸摸電極層5、第一保護(hù)層9、填充層8和平坦化層7。其中,觸摸電極層5由若干條狀結(jié)構(gòu)組成,且與同樣由若干條狀結(jié)構(gòu)組成的接收電極相互垂直,如圖1所示。而且,對于每個(gè)條狀結(jié)構(gòu),在顯示面板的長邊方向(豎直方向)設(shè)置有多個(gè)間隙52,各個(gè)間隙52與各個(gè)相鄰的兩條接收電極之間的間隙一一對應(yīng),如圖4所示。

在觸摸電極層5上設(shè)置有挖空部51,該挖空部51的位置與亞像素單元的位置相對應(yīng);并且,其中一部分挖空部51與間隙52構(gòu)成異形挖空部,如圖4所示,挖空部51在顯示面板的長邊方向上的長度為H1,而成異形挖空部在顯示面板的長邊方向上的長度為H2,H2大于H1,從而異形挖空部的形狀和尺寸與挖空部11的形狀和尺寸之間存在差異。

填充層8的位置與上述異形挖空部的位置相對應(yīng),且填充層8與異形挖空部部分重疊,具體來說,包括第一重疊部81和第二重疊部82。其中,第一重疊部81與間隙52完全重疊,從而使異顯挖空部未與填充層8重疊的非重疊部分53的形狀與挖空部51的形狀一致,如圖5所示,第一重疊部81在顯示面板的長邊方向上的長度H3與挖空部51在顯示面板的長邊方向上的長度為H1相等。第二重疊部82與觸摸電極層5部分重疊,以便于二者之間的連接,如圖6所示。借助填充層8,可以使在異形挖空部處形成的電場及透過率與挖空部51處形成的電場及透過率一致,進(jìn)而可以避免在模組顯示灰階畫面下,顯示面板上出現(xiàn)黑色條紋等不良,從而可以改善顯示效果。

此外,如圖7和圖8所示,在第一保護(hù)層9上,且位于第二重疊部82與觸摸電極層5部分重疊的位置處設(shè)置有第一開孔91,且在該第一開孔91內(nèi)設(shè)置有第一連接部(圖中未示出),用以連接觸摸電極層5與填充層8,以使二者電導(dǎo)通,從而使異形挖空部處的電場和其余挖空部51處的電場一致。而且,在第一保護(hù)層9上,且位于挖空部51的位置處設(shè)置有第二開孔92,且在第二開孔92內(nèi)設(shè)置有第二連接部(圖中未示出),用以連接亞像素單元中的電極和S/D金屬層(圖中未示出)。

可選的,陣列基板還包括第二保護(hù)層,該第二保護(hù)層設(shè)置在觸摸電極層5上,用以將觸摸電極層5與上層金屬層(例如亞像素單元中的電極)相隔離。

可選的,觸摸電極層5用作公共電極層,用于分別傳遞公共信號(hào)和觸摸信號(hào)。

需要說明的是,在本實(shí)施例中,挖空部51的形狀為矩形,但是本發(fā)明并不局限于此,在實(shí)際應(yīng)用中,挖空部可以根據(jù)具體情況設(shè)計(jì)為任意形狀,而異形挖空部的形狀也隨挖空部的形狀不同而不同,因此,填充部的形狀也會(huì)作適應(yīng)性的設(shè)計(jì),以使異顯挖空部未與填充層重疊的非重疊部分的形狀與挖空部的形狀一致。

還需要說明的是,在本實(shí)施例中,陣列基板包括平坦化層7,填充層8設(shè)置在該平坦化層7上,但是本發(fā)明并不局限于此,在實(shí)際應(yīng)用中,陣列基板也可以根據(jù)具體情況不設(shè)置平坦化層,或者在填充層8與平坦化層7之間還設(shè)置有其他功能膜層。

作為另一個(gè)技術(shù)方案,本發(fā)明還提供一種陣列基板的制作方法,其包括以下步驟:

S1,在平坦化層上形成填充層;

S2,在填充層上形成第一保護(hù)層;

S3,在第一保護(hù)層上形成觸摸電極層。

在步驟S3中,在觸摸電極層上設(shè)置有挖空部,該挖空部的位置與亞像素單元的位置相對應(yīng);并且,其中一部分挖空部與間隙構(gòu)成異形挖空部。該間隙是每個(gè)條狀結(jié)構(gòu)在顯示面板的長邊方向(豎直方向)上形成的間隙。

在步驟S1中,填充層的位置與異形挖空部的位置相對應(yīng),且填充層與所述異形挖空部部分重疊,以使異顯挖空部未與填充層重疊的非重疊部分的形狀與挖空部的形狀一致。借助該填充層,可以使在異形挖空部處形成的電場及透過率與挖空部處形成的電場及透過率一致,進(jìn)而可以避免在模組顯示灰階畫面下,顯示面板上出現(xiàn)黑色條紋等不良,從而可以改善顯示效果。

在步驟S2中,在第一保護(hù)層上設(shè)置有第一開孔,且在該第一開孔內(nèi)設(shè)置有第一連接部,用以連接觸摸電極層與填充層,以使二者電導(dǎo)通,從而使異形挖空部處的電場和其余挖空部處的電場一致。而且,在第一保護(hù)層上設(shè)置有第二開孔,且在該第二開孔內(nèi)設(shè)置有第二連接部,用以連接亞像素單元中的電極和S/D金屬層。

可選的,在步驟S3之后,還包括步驟S4:

在觸摸電極層上形成第二保護(hù)層。

可選的,觸摸電極層用作公共電極層。

由于上述觸摸電極層、第一保護(hù)層、填充層和平坦化層的結(jié)構(gòu)和功能在前述實(shí)施例中已有了詳細(xì)描述,在此不再贅述。

作為另一個(gè)技術(shù)方案,本發(fā)明還提供一種觸摸屏,其包括對盒設(shè)置的陣列基板和彩膜基板,其中,彩膜基板包括接收電極層和亞像素單元,該接收電極層包括間隔設(shè)置的多條接收電極。陣列基板包括觸摸電極層,該觸摸電極層包括間隔設(shè)置的多條觸摸電極。多條觸摸電極與多條接收電極垂直交叉排布。并且,每條觸摸電極在顯示面板的長邊方向上具有多個(gè)間隙,各個(gè)間隙與各個(gè)相鄰的兩條接收電極之間的間隙一一對應(yīng)。而且,該陣列基板采用了本發(fā)明提供的上述陣列基板。

本發(fā)明提供的觸摸屏,其通過采用本發(fā)明提供的上述陣列基板,可以避免在模組顯示灰階畫面下,顯示面板上出現(xiàn)黑色條紋等不良,從而可以改善顯示效果。

可以理解的是,以上實(shí)施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式,然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言,在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下,可以做出各種變型和改進(jìn),這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。

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