1.一種觸控基板，包括：
光源；
光傳輸板，其設(shè)置于所述光源的出光側(cè)；
支撐部，其設(shè)置于所述光傳輸板上；
柔性基板，其設(shè)置于所述支撐部的遠(yuǎn)離所述光傳輸板的一側(cè)并且包括柔性襯底以及設(shè)置于所述柔性襯底上且面向所述光傳輸板的多個(gè)接觸部，其中，所述柔性襯底與所述光傳輸板相對(duì)設(shè)置以在二者之間形成透明間隔層，所述透明間隔層的折射率小于所述光傳輸板的折射率，并且所述柔性襯底到所述光傳輸板的距離大于所述接觸部的高度；以及
光檢測(cè)裝置，其配置為檢測(cè)從所述光傳輸板射出的出射光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控基板，其中，所述光檢測(cè)裝置設(shè)置于所述接觸部的遠(yuǎn)離所述光傳輸板的一側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的觸控基板，其中，所述光檢測(cè)裝置包括多個(gè)子檢測(cè)裝置，所述多個(gè)子檢測(cè)裝置分別設(shè)置于所述多個(gè)接觸部與所述柔性襯底之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸控基板，其中，所述多個(gè)子檢測(cè)裝置為光敏二極管或光敏三極管。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的觸控基板，其中，所述光檢測(cè)裝置設(shè)置于所述柔性襯底的遠(yuǎn)離所述接觸部的一側(cè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的觸控基板，其中，所述多個(gè)接觸部相對(duì)于所述柔性襯底傾斜設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的觸控基板，其中，所述光檢測(cè)裝置為攝像頭。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控基板，其中，所述光檢測(cè)裝置設(shè)置于所述光傳輸板的遠(yuǎn)離所述接觸部的一側(cè)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的觸控基板，其中，所述光檢測(cè)裝置為攝像頭或者光敏二極管陣列或者光敏三極管陣列。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的觸控基板，還包括反射層，其中，所述反射層設(shè)置于所述多個(gè)接觸部與所述柔性襯底之間。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的觸控基板，其中，所述反射層包括多個(gè)反射部，所述多個(gè)反射部分別對(duì)應(yīng)所述多個(gè)接觸部。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的觸控基板，還包括隔墊物，其中，所述隔墊物設(shè)置于所述支撐部的內(nèi)側(cè)并且位于所述柔性襯底與所述光傳輸板之間，所述隔墊物的高度等于所述柔性襯底到所述光傳輸板的距離。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的觸控基板，其中，所述隔墊物不透光。
14.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的觸控基板，其中，所述多個(gè)接觸部是透明的。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的觸控基板，其中，所述接觸部的側(cè)面設(shè)置有反射面。
16.一種觸控顯示裝置，包括權(quán)利要求1至15中任一項(xiàng)所述的觸控基板。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的觸控顯示裝置，還包括顯示面板，其中，所述觸控基板設(shè)置于所述顯示面板的出光側(cè)，并且所述光傳輸板設(shè)置于所述柔性基板與所述顯示面板之間。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的觸控顯示裝置，還包括陣列基板，其中，所述觸控基板與所述陣列基板相對(duì)設(shè)置，并且所述光傳輸板設(shè)置于所述柔性基板與所述陣列基板之間。
19.根據(jù)權(quán)利要求16至18中任一項(xiàng)所述的觸控顯示裝置，還包括背光源和光導(dǎo)結(jié)構(gòu)，其中，所述光導(dǎo)結(jié)構(gòu)配置為將從所述觸控基板的光傳輸板的側(cè)面射出的光導(dǎo)入所述背光源中。