1.一種柔性銅網(wǎng)柵基觸摸屏，其特征是，觸摸屏包含：柔性銅網(wǎng)柵基導(dǎo)電膜和光學(xué)膠，其中，柔性銅網(wǎng)柵基導(dǎo)電膜包括柔性透明襯底、減反增透層、銅網(wǎng)柵導(dǎo)電層；所述減反增透層被布置在所述柔性透明薄膜襯底的兩側(cè)，其中柔性透明襯底包含：聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯和雙面加硬透明涂層，其中，雙面加硬透明涂層為紫外固化的聚丙烯酸酯涂層；減反增透層包含：低折射率薄膜層和高折射率薄膜層；銅網(wǎng)柵導(dǎo)電層包含銅網(wǎng)柵層和銅氧化物層；用光學(xué)膠把兩片相同結(jié)構(gòu)的柔性銅網(wǎng)柵基導(dǎo)電膜粘接，其中柔性銅網(wǎng)柵基導(dǎo)電膜中的銅氧化物層與光學(xué)膠接觸，形成電容式觸摸屏，其中一個(gè)銅網(wǎng)柵導(dǎo)電層為第一觸控功能層，用于感應(yīng)觸控點(diǎn)在X軸方向的位置，另一個(gè)銅網(wǎng)柵導(dǎo)電層為第二觸控電極，用于感應(yīng)觸控點(diǎn)在Y軸方向的位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種柔性銅網(wǎng)柵基觸摸屏，其特征是，所述減反增透層中的低折射率薄膜層為二氧化硅或氟化鎂。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種柔性銅網(wǎng)柵基觸摸屏，其特征是，所述減反增透層中的高折射率薄膜層為五氧化二鈮或二氧化鈦。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種柔性銅網(wǎng)柵基觸摸屏，其特征是，所述低折射率薄膜層和高折射率薄膜層交替堆疊，低折射率薄膜層數(shù)多于或等于高折射率薄膜層數(shù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種柔性銅網(wǎng)柵基觸摸屏，其特征是，所述銅網(wǎng)柵導(dǎo)電層中的銅氧化物層布置在銅網(wǎng)柵層的上、下表面。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種柔性銅網(wǎng)柵基觸摸屏，其特征是，所述銅網(wǎng)柵導(dǎo)電層中的銅網(wǎng)柵層的銅網(wǎng)柵為菱形或方形或六方形，線(xiàn)條的線(xiàn)寬為2～10微米，金屬化率為1.25～2％。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種柔性銅網(wǎng)柵基觸摸屏，其特征是，所述低折射率薄膜層和高折射率薄膜層其厚度分別為15～90nm和15～110nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種柔性銅網(wǎng)柵基觸摸屏，其特征是，所述銅網(wǎng)柵導(dǎo)電層中銅氧化物層的厚度為20～60nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種柔性銅網(wǎng)柵基觸摸屏，其特征是，所述光學(xué)膠厚度為25微米～50微米。
10.一種制造權(quán)利要求1所述一種柔性銅網(wǎng)柵基觸摸屏的方法，其特征是，在柔性透明襯底的雙面涂覆加硬涂層；在柔性透明襯底上下表面濺鍍減反增透層；在一側(cè)減反增透層表面濺鍍銅網(wǎng)柵基導(dǎo)電層；用光刻工藝把銅網(wǎng)柵導(dǎo)電層刻蝕成觸摸屏用電極結(jié)構(gòu)；用光學(xué)膠把兩片相同結(jié)構(gòu)的柔性銅網(wǎng)柵基導(dǎo)電膜粘接，其中銅網(wǎng)柵導(dǎo)電層與光學(xué)膠接觸，形成電容式觸摸屏，其中一個(gè)銅網(wǎng)柵導(dǎo)電層為第一觸控功能層，用于感應(yīng)觸控點(diǎn)在X軸方向的位置，另一個(gè)銅網(wǎng)柵導(dǎo)電層為第二觸控電極，用于感應(yīng)觸控點(diǎn)在Y軸方向的位置。