技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明是公開(kāi)一種保護(hù)蓋板，是包括一基材以及一涂布層。該基材之厚度范圍是為60至120微米，該基材之平面相差值范圍是為6000至12000。該涂布層是涂布于該基材之上。其中該保護(hù)蓋板具有一第一方向以及一第二方向，該第一方向是為該保護(hù)蓋板之機(jī)械方向，該第二方向是垂直于該第一方向，該第一方向之拉伸應(yīng)力范圍是為50至130兆帕斯卡，該第二方向之拉伸應(yīng)力范圍是為140至300兆帕斯卡，藉由該基材的平面相差值范圍是為6000至12000，使一入射光之穿透光平均分布到該保護(hù)蓋板之可視區(qū)，降低反射光之相位差，以改善彩虹紋以及提升在一偏光鏡下的可視性。

技術(shù)研發(fā)人員：陳俊仁;郭南村;謝嘉銘;林子祥
受保護(hù)的技術(shù)使用者：業(yè)成科技（成都）有限公司;業(yè)成光電（深圳）有限公司;英特盛科技股份有限公司
文檔號(hào)碼：201611051080
技術(shù)研發(fā)日：2016.11.23
技術(shù)公布日：2017.03.22