1.一種電磁場散射測量領(lǐng)域中仿真模型的減基方法，包括以下步驟：
步驟101，在待仿真模型所包含的可變參數(shù)對應(yīng)的參數(shù)域中，進(jìn)行采樣，獲得一系列可變參數(shù)的采樣點；
步驟102，定義待仿真結(jié)構(gòu)的參考形貌，將參考形貌離散化；所述參考形貌，指待仿真結(jié)構(gòu)的可變參數(shù)取值為其參數(shù)域的中間值的仿真結(jié)構(gòu)；
步驟103，將所有可變參數(shù)采樣點對應(yīng)的實際形貌上描述待仿真模型的控制方程，轉(zhuǎn)化為參考形貌上的控制方程；
步驟104，基于步驟102中參考形貌的離散結(jié)果，將步驟103中所有可變參數(shù)采樣點對應(yīng)的控制方程，轉(zhuǎn)化為高維線性方程組進(jìn)行求解，稱高維線性方程組為高維模型；
步驟105，根據(jù)應(yīng)用需要，選出決定待仿真模型輸出參數(shù)的主域或主邊界，從高維模型中分離出關(guān)于主域內(nèi)或主邊界上待求變量的部分，稱為高維部分模型；
所述主域?qū)?yīng)于有限元法或有限時域差分法，所述主邊界對應(yīng)于邊界元法或矩量法；
步驟106，利用貪婪算法，在所有可變參數(shù)采樣點對應(yīng)的高維部分模型中進(jìn)行迭代，每一步迭代選出一個投影誤差最大的參數(shù)；最大投影誤差小于預(yù)設(shè)誤差閾值時，迭代終止；所有在迭代過程中選出的參數(shù)對應(yīng)的高維部分模型的解，將作為基函數(shù)構(gòu)成減基空間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述方法，其特征在于，步驟101中，所述可變參數(shù)包括待仿真模型的形貌參數(shù)，或者還包括輸入項的特征參數(shù)，包括入射電磁波的波長或/和入射角。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述方法，其特征在于，步驟101中，在可變參數(shù)的參數(shù)域內(nèi)采樣，可采用包括均勻采樣、對數(shù)采樣或切比雪夫采樣在內(nèi)的多種方法。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述步驟，其特征在于，步驟102中離散參考形貌選用常單元、線性單元或高階單元。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述方法，其特征在于，步驟103中如果可變參數(shù)不包含表征待仿真結(jié)構(gòu)的形貌參數(shù)，則參考形貌和實際形貌上控制方程相同。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述方法，其特征在于，步驟106的實現(xiàn)包含以下步驟：
步驟201，從所有可變參數(shù)采樣點中任選一個參數(shù)，計算其所對應(yīng)的高維部分模型的解并歸一化，作為構(gòu)造減基空間的第一個基函數(shù)；
步驟202，基于基函數(shù)，構(gòu)造減基空間；
步驟203，將各個可變參數(shù)采樣點對應(yīng)的高維部分模型，投影至步驟202所述的不完備的減基空間，得到不完備的低維模型并求解；
步驟204，計算步驟203投影過程中各個可變參數(shù)采樣點對應(yīng)的投影誤差；
所述投影誤差，指分別求解高維部分模型和對應(yīng)的不完備低維模型所得解之間的誤差的范數(shù)；
步驟205，從步驟204中所得的各個可變參數(shù)采樣點對應(yīng)的投影誤差中，選出最大值，與預(yù)定的誤差閾值比較大?。?/p>
步驟206，若步驟205中最大投影誤差大于誤差閾值，則從可變參數(shù)采樣點中選出與最大投影誤差對應(yīng)的參數(shù)，該參數(shù)對應(yīng)的高維部分模型的解，與已有的減基空間的基函數(shù)正交歸一化后，添加至基函數(shù)組合中，轉(zhuǎn)步驟202；
步驟207，若步驟205中最大投影誤差小于誤差閾值，則獲得完備的減基空間，減基空間構(gòu)造結(jié)束。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述方法，其特征在于，步驟204中，計算投影誤差采用l2范數(shù)或l∞范數(shù)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述方法，其特征在于，步驟206中，基函數(shù)的正交歸一化采用QR分解法或Gram-Schmit方法實現(xiàn)。