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透明導電性薄膜的制作方法

文檔序號:12663558閱讀:來源:國知局

技術特征:

1.一種透明導電性薄膜,包括:

基材,所述基材包括第一表面和第二表面,在所述第一表面形成含有光學調整材料和硬涂材料的復合層,所述復合層含有多個顆粒,

在所述復合層遠離基材的表面上形成有第一透明導體層,和

在所述第二表面上形成有第二透明導體層,

所述第一透明導體層的表面具有多個凸部,所述凸部起因于所述復合層含有多個顆粒。

2.根據(jù)權利要求1所述的透明導電薄膜,其特征在于:所述第二表面先形成含有光學調整材料和硬涂材料的復合層,所述復合層含有多個顆粒;然后在所述復合層遠離基材的表面上形成有第二透明導體層,所述第二透明導體層的表面具有多個凸部,所述凸部起因于所述復合層含有多個顆粒。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的透明導電性薄膜,其特征在于:所述復合層中所含光學調整材料與硬涂材料的重量比例為10~50。

4.根據(jù)權利要求3所述的透明導電性薄膜,其特征在于:所述復合層材料為有機硅類聚合物、丙烯酸酯類聚合物、芳環(huán)或萘環(huán)聚合物中的至少兩種。

5.根據(jù)權利要求4所述的透明導電性薄膜,其特征在于:所述復合層的厚度為1~3um。

6.根據(jù)權利要求1或2所述的透明導電性薄膜,其特征在于:所述顆粒為球狀顆粒,其直徑為0.5~5um。

7.根據(jù)權利要求1或2所述的透明導電性薄膜,其特征在于:所述第一透明導體層和/或第二透明導體層的厚度為15~100nm。

8.根據(jù)權利要求1或2中所述的透明導電性薄膜,其特征在于:在所述第一透明導體層遠離第一復合層的表面上形成有第一金屬層和/或所述第二透明導體層遠離第二復合層的表面上形成有第二金屬層。

9.根據(jù)權利要求8所述的透明導電性薄膜,其特征在于:所述第一金屬層和/或第二金屬層的厚度為50~600nm。

10.根據(jù)權利要求1或2所述的透明導電性薄膜,其特征在于:所述基材的全反射率為10~20%,單反射率為5~10%,霧度值為0.5~1.5%。

11.根據(jù)權利要求1或2所述的透明導電性薄膜,其特征在于:所述的復合層中所含的球狀顆粒材料為二氧化硅、有機硅聚合物、丙烯酸類聚合物或苯乙烯聚合物之一。

12.根據(jù)權利要求1或2所述的透明導電性薄膜,其特征在于:所述顆粒含量為所述復合層重量的0.03~3%。

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