本實(shí)用新型屬于真筆跡電腦手寫技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種真筆跡智能終端電磁壓感筆筆頭部件。

背景技術(shù)：

隨著人類文明的發(fā)展，信息的輸入載體發(fā)生著巨大的改變，如何能夠在清晰表述人類所需表述的內(nèi)容，而又減少因傳統(tǒng)書寫方式對(duì)于自然環(huán)境太過依賴，而導(dǎo)致生態(tài)環(huán)境出現(xiàn)的破壞的情況；真筆跡電腦筆或電磁筆（有源的或無源的）的出現(xiàn)減少了我們對(duì)傳統(tǒng)紙張的過分依賴，并且能夠達(dá)到傳統(tǒng)書寫的效果。

傳統(tǒng)的電磁筆不管是有源或無源的，它的筆頭部件還是依靠一尖端來與書寫板接觸，在使用的過程中，尖端與書寫板接觸時(shí)摩擦力較小，使得書寫時(shí)缺少真實(shí)感和舒適的手感；因此需要針對(duì)此問題提出一種能夠克服傳統(tǒng)電磁筆筆頭缺少真實(shí)感及提高人機(jī)交互的舒適度的手寫筆筆頭部件。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于此，需要克服現(xiàn)有技術(shù)中的上述缺陷中的至少一個(gè)，本實(shí)用新型提供了一種真筆跡智能終端電磁壓感筆筆頭部件，所述一種真筆跡智能終端電磁壓感筆筆頭部件，所述筆頭部件包括：與書寫板接觸一端為具有曲面的接觸端，所述接觸端包括凸起部分和凹陷部分。

根據(jù)本專利背景技術(shù)中對(duì)現(xiàn)有技術(shù)所述，傳統(tǒng)筆的筆頭設(shè)計(jì)還僅僅是依靠位于筆桿外一尖端來與書寫板接觸，達(dá)到書寫的目的；而本申請(qǐng)的筆頭部件為具有曲面的接觸端，且接觸端包括了凸起和凹陷部分，增大了與書寫板接觸的摩擦，使得具有了真筆跡和舒適的手感，因此具有明顯的優(yōu)點(diǎn)。

另外，根據(jù)本實(shí)用新型公開的一種真筆跡智能終端電磁壓感筆筆頭部件還具有如下附加技術(shù)特征：

進(jìn)一步地，所述筆頭部件后端聯(lián)結(jié)推動(dòng)桿。

進(jìn)一步地，所述筆頭部件為具有彈性的結(jié)構(gòu)。

進(jìn)一步地，所述凸起部分和凹陷部分由凸點(diǎn)和凹點(diǎn)結(jié)構(gòu)構(gòu)成。

進(jìn)一步地，所述凸起部分和凹陷部分由凸起條紋結(jié)構(gòu)和凹陷條紋結(jié)構(gòu)構(gòu)成。

進(jìn)一步地，所述凸起部分和凹陷部分為具有凹凸部分的網(wǎng)格結(jié)構(gòu)。

所述凸起部分和所述凹陷部分采用不同的結(jié)構(gòu)，點(diǎn)結(jié)構(gòu)或者條紋結(jié)構(gòu)或者網(wǎng)格結(jié)構(gòu)都是為了提高所述筆頭部件與書寫板接觸時(shí)的摩擦力，使得接近了真筆跡，且增加了舒適感，增強(qiáng)了人機(jī)交互。

進(jìn)一步地，所述曲面為弧面。

更進(jìn)一步地，所述弧面為半圓弧面。

進(jìn)一步地，所述接觸端為頂部為曲面且后端聯(lián)結(jié)桿狀結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)或頂部為平面或曲面且通過過渡面與后端桿狀結(jié)構(gòu)聯(lián)結(jié)的結(jié)構(gòu)。

本實(shí)用新型附加的方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本實(shí)用新型的實(shí)踐了解到。

附圖說明

本實(shí)用新型的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從下面結(jié)合附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中：

圖1傳統(tǒng)筆的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)爆炸示意圖；

圖3為圖2中A部分其中一種結(jié)構(gòu)的放大示意圖；

圖4為圖2中A部分其中一種結(jié)構(gòu)的放大示意圖；

圖5為圖2中A部分其中一種結(jié)構(gòu)的放大示意圖；

圖1中，22是線圈安裝架，23是彈簧，24是橡膠粒子，25是電感磁芯 ，26是筆芯；

圖2、3、4、5中，1為筆頭部件。

具體實(shí)施方式

下面詳細(xì)描述本實(shí)用新型的實(shí)施例，所述實(shí)施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號(hào)表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的，僅用于解釋本實(shí)用新型，而不能解釋為對(duì)本實(shí)用新型的限制。

本實(shí)用新型的實(shí)用新型構(gòu)思如下，而本申請(qǐng)的筆頭部件為具有曲面的接觸端，且接觸端包括了凸起和凹陷部分，增大了與書寫板接觸的摩擦，使得具有了真筆跡和舒適的手感，因此具有明顯的優(yōu)點(diǎn)。

下面將參照附圖來描述本實(shí)用新型的一種真筆跡智能終端電磁壓感筆筆頭部件，其中圖1傳統(tǒng)筆的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)爆炸示意圖；圖3為圖2中A部分其中一種結(jié)構(gòu)的放大示意圖；圖4為圖2中A部分其中一種結(jié)構(gòu)的放大示意圖；圖5為圖2中A部分其中一種結(jié)構(gòu)的放大示意圖；圖1中，22是線圈安裝架，23是彈簧，24是橡膠粒子，25是電感磁芯 ，26是筆芯；

如圖2所示，根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例，所述一種真筆跡智能終端電磁壓感筆筆頭部件，所述筆頭部件1包括：與書寫板接觸一端為具有曲面的接觸端，所述接觸端包括凸起部分和凹陷部分。

根據(jù)本專利背景技術(shù)中對(duì)現(xiàn)有技術(shù)所述，傳統(tǒng)筆的筆頭設(shè)計(jì)還僅僅是依靠位于筆桿外一尖端來與書寫板接觸，達(dá)到書寫的目的；而本申請(qǐng)的筆頭部件為具有曲面的接觸端，且接觸端包括了凸起和凹陷部分，增大了與書寫板接觸的摩擦，使得具有了真筆跡和舒適的手感，因此具有明顯的優(yōu)點(diǎn)。

另外，根據(jù)本實(shí)用新型公開的一種真筆跡智能終端電磁壓感筆筆頭部件還具有如下附加技術(shù)特征：

根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述筆頭部件1后端聯(lián)結(jié)推動(dòng)桿。

根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述筆頭部件1為具有彈性的結(jié)構(gòu)。

根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述凸起部分和凹陷部分由凸點(diǎn)和凹點(diǎn)結(jié)構(gòu)構(gòu)成。

根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述凸起部分和凹陷部分由凸起條紋結(jié)構(gòu)和凹陷條紋結(jié)構(gòu)構(gòu)成。

根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述凸起部分和凹陷部分為具有凹凸部分的網(wǎng)格結(jié)構(gòu)。

所述凸起部分和所述凹陷部分采用不同的結(jié)構(gòu)，點(diǎn)結(jié)構(gòu)或者條紋結(jié)構(gòu)或者網(wǎng)格結(jié)構(gòu)都是為了提高所述筆頭部件1與書寫板接觸時(shí)的摩擦力，使得接近了真筆跡，且增加了舒適感，增強(qiáng)了人機(jī)交互。

根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述曲面為弧面。

根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述弧面為半圓弧面。

根據(jù)本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，所述接觸端為頂部為曲面且后端聯(lián)結(jié)桿狀結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)或頂部為平面或曲面且通過過渡面與后端桿狀結(jié)構(gòu)聯(lián)結(jié)的結(jié)構(gòu)。

任何提及“一個(gè)實(shí)施例”、“實(shí)施例”、“示意性實(shí)施例”等意指結(jié)合該實(shí)施例描述的具體構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點(diǎn)包含于本實(shí)用新型的至少一個(gè)實(shí)施例中。在本說明書各處的該示意性表述不一定指的是相同的實(shí)施例。而且，當(dāng)結(jié)合任何實(shí)施例描述具體構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點(diǎn)時(shí)，所主張的是，結(jié)合其他的實(shí)施例實(shí)現(xiàn)這樣的構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點(diǎn)均落在本領(lǐng)域技術(shù)人員的范圍之內(nèi)。

盡管參照本實(shí)用新型的多個(gè)示意性實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式進(jìn)行了詳細(xì)的描述，但是必須理解，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以設(shè)計(jì)出多種其他的改進(jìn)和實(shí)施例，這些改進(jìn)和實(shí)施例將落在本實(shí)用新型原理的精神和范圍之內(nèi)。具體而言，在前述公開、附圖以及權(quán)利要求的范圍之內(nèi)，可以在零部件和/或者從屬組合布局的布置方面作出合理的變型和改進(jìn)，而不會(huì)脫離本實(shí)用新型的精神。除了零部件和/或布局方面的變型和改進(jìn)，其范圍由所附權(quán)利要求及其等同物限定。