本發(fā)明涉及一種轉印薄膜、靜電電容型輸入裝置的電極用保護膜、層疊體、層疊體的制造方法及靜電電容型輸入裝置。詳細而言，涉及一種可以將手指的接觸位置作為靜電電容的變化而檢測的靜電電容型輸入裝置、能夠使用于靜電電容型輸入裝置的轉印薄膜、電極用保護膜、層疊體及該層疊體的制造方法。更詳細而言，涉及一種賦予鹽水后的耐濕熱性和顯影性均優(yōu)異、且能夠形成靜電電容型輸入裝置的電極用保護膜的轉印薄膜、使用了該轉印薄膜的靜電電容型輸入裝置的電極用保護膜及層疊體、該層疊體的制造方法及包括該層疊體的靜電電容型輸入裝置。

背景技術：

在移動電話、汽車導航、個人計算機、售票機、銀行終端等電子設備中，近年來，有在液晶裝置等的表面配置有平板型輸入裝置的電子設備。該電子設備中，一邊參考顯示于液晶裝置的圖像顯示區(qū)域中的指令圖像，一邊用手指或觸控筆等接觸該指令圖像所顯示的部位，由此可以進行對應于指令圖像的信息的輸入。

這種輸入裝置(觸摸面板)中有電阻膜型、靜電電容型(靜電電容型輸入裝置)等。靜電電容型輸入裝置具有可以僅在一張基板上形成透光性導電膜的優(yōu)點。這種靜電電容型輸入裝置例如在電極圖案沿彼此交叉的方向延伸，且手指等接觸時，檢測電極之間的靜電電容發(fā)生變化以檢測出輸入位置。

以保護靜電電容型輸入裝置的電極圖案和收納于框部的卷繞配線(例如銅線等金屬配線)等為目的，在用手指等進行輸入的表面的相反側設置有透明樹脂層。

以往技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2006-208824號公報

專利文獻2：日本特開2014-074927號公報

專利文獻3：日本特開2003-307833號公報

技術實現(xiàn)要素：

發(fā)明要解決的技術課題

這種透明樹脂層為了將卷繞配線與其它配線進行連接而要求圖案化，以免覆蓋該卷繞配線的終端部等。作為形成透明樹脂層圖案的方法，從生產(chǎn)率的觀點考慮，要求利用光刻法。針對提高光刻法中的圖案的顯影性以形成正確的圖案的方法，本發(fā)明人進行研究的結果，得知在感光性透明樹脂層中使用酸值高的粘合劑聚合物是有效的。

然而，本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)了在感光性透明樹脂層中使用酸值高的粘合劑聚合物的情況下，賦予鹽水后的耐濕熱性變差的新的課題。具體而言，使用含有酸值高的粘合劑聚合物的感光性透明樹脂層，在靜電電容型輸入裝置的電極圖案上及在收納于框部的卷繞配線上形成透明樹脂層圖案，對該靜電電容型輸入裝置賦予鹽水之后對耐濕熱性進行試驗的結果，得知導致產(chǎn)生使用于ito(氧化銦錫，indiumtinoxide)電極圖案和金屬配線中的銅等金屬變色等問題。這種賦予鹽水后的耐濕熱性在實際應用上是重要的性能。當人用手指接觸到靜電電容型輸入裝置的輸入面時附著的汗水會滲透至靜電電容型輸入裝置內(nèi)部的保護層，之后，在濕熱環(huán)境下使用靜電電容型輸入裝置，或者因充電等而靜電電容型輸入裝置的內(nèi)部成為高溫高濕環(huán)境，因此對靜電電容型輸入裝置要求賦予鹽水后的耐熱性。

然而，能夠形成顯影性和賦予鹽水后的耐濕熱性均優(yōu)異的靜電電容型輸入裝置的電極用保護膜的轉印薄膜，至今未被公開。

另一方面，作為不同于靜電電容型輸入裝置的用途，已知使用了酸值高的粘合劑聚合物的感光性樹脂組合物。

在專利文獻1及2中記載有，用作印刷線路基板的阻焊劑等的光固化性樹脂組合物。這些文獻的記載內(nèi)容彼此類似，例如在專利文獻2中記載有含羧酸樹脂、光聚合引發(fā)劑、封閉型異氰酸酯化合物、馬來酰亞胺化合物及光固化性樹脂組合物。在專利文獻2中記載有，將酸改性環(huán)氧丙烯酸酯用作含羧酸樹脂、以及在光固化性樹脂組合物中使用聚合性化合物。并且，在專利文獻2中還記載有，具備干燥涂膜的干膜，所述干燥涂膜將光固化性樹脂組合物涂布于薄膜上并進行干燥而得到。

在專利文獻3中記載有，堿溶性丙烯酸共聚物、多官能丙烯酸酯單體、因熱而進行交聯(lián)的熱交聯(lián)性化合物及具有聚合引發(fā)劑的網(wǎng)版印刷板制版用感光性樹脂組合物。

然而，至于印刷線路基板的阻焊劑和網(wǎng)版印刷板制版，未假定人用手指接觸后在濕熱環(huán)境下使用的情況。因此，在印刷線路基板的阻焊劑用感光性樹脂組合物和網(wǎng)版印刷板制版用感光性樹脂組合物中，固化后賦予鹽水后的耐濕熱性不會成為課題。專利文獻1～3均未著眼于賦予鹽水后的耐濕熱性的課題。

并且，專利文獻1～3中也沒有記載將感光性樹脂組合物使用于靜電電容型輸入裝置的用途的啟示。印刷線路基板的阻焊劑用感光性樹脂組合物和網(wǎng)版印刷板制版用感光性樹脂組合物未企圖層疊于圖像顯示裝置的圖像顯示部分，因此，通常存在著色，或透明性降低。因此，關于將印刷線路基板的阻焊劑用感光性樹脂組合物和網(wǎng)版印刷板制版用感光性樹脂組合物引用到靜電電容型輸入裝置的用途，至今，本領域從業(yè)人員未進行研究。

在靜電電容型輸入裝置的用途中，顯影性和賦予鹽水后的耐濕熱性變得尤其重要。本發(fā)明要解決的課題是提供一種顯影性和賦予鹽水后的耐濕熱性均優(yōu)異的、能夠形成靜電電容型輸入裝置的電極用保護膜的轉印薄膜。

用于解決技術課題的手段

本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)了：使用酸值高的特定的種類的粘合劑聚合物，通過并用封閉型異氰酸酯，能夠形成賦予鹽水后的耐濕熱性和顯影性均優(yōu)異的靜電電容型輸入裝置的電極用保護膜。

作為用于解決上述課題的具體方式的本發(fā)明為如下。

[1]一種轉印薄膜，其具有：臨時支撐體；及感光性透明樹脂層，形成于臨時支撐體上，

感光性透明樹脂層包含：粘合劑聚合物，包含酸值為60mgkoh/g以上的含羧基丙烯酸類樹脂；光聚合性化合物，具有乙烯性不飽和基團；光聚合引發(fā)劑；及封閉型異氰酸酯，

所述轉印薄膜用于保護靜電電容型輸入裝置的電極。

[2]根據(jù)[1]所述的轉印薄膜，其中，優(yōu)選封閉型異氰酸酯的解離溫度為100℃～160℃。

[3]根據(jù)[1]或[2]所述的轉印薄膜，其中，優(yōu)選感光性透明樹脂層的厚度為1～20μm。

[4]根據(jù)[1]～[3]中任一項所述的轉印薄膜，其中，優(yōu)選光聚合性化合物中的至少一種含有羧基。

[5]根據(jù)[1]～[4]中任一項所述的轉印薄膜，其中，優(yōu)選封閉型異氰酸酯具有異氰脲酸酯結構。

[6]根據(jù)[1]～[5]中任一項所述的轉印薄膜，其中，優(yōu)選還具有形成于感光性透明樹脂層上的第二透明樹脂層，

第二透明樹脂層的折射率比感光性透明樹脂層的折射率高。

[7]一種靜電電容型輸入裝置的電極用保護膜，其從根據(jù)[1]～[6]中任一項所述的轉印薄膜去除臨時支撐體而成。

[8]一種層疊體，其使用[1]～[6]中任一項所述的轉印薄膜，通過在包括靜電電容型輸入裝置的電極的基板上轉印感光性透明樹脂層而形成。

[9]一種層疊體，其具有：

基板，包括靜電電容型輸入裝置的電極；及

感光性透明樹脂層，形成于基板上，

感光性透明樹脂層包含：粘合劑聚合物，包含酸值為60mgkoh/g以上的含羧基丙烯酸類樹脂；光聚合性化合物，具有乙烯性不飽和基團；光聚合引發(fā)劑；及封閉型異氰酸酯。

[10]根據(jù)[8]或[9]所述的層疊體，其中，優(yōu)選感光性透明樹脂層包含羧酸酐。

[11]根據(jù)[8]～[10]中任一項所述的層疊體，優(yōu)選靜電電容型輸入裝置的電極為透明電極圖案。

[12]一種層疊體的制造方法，其包括使用根據(jù)[1]～[6]中任一項所述的轉印薄膜，在包括靜電電容型輸入裝置的電極的基板上轉印感光性透明樹脂層的工序。

[13]根據(jù)[12]所述的層疊體的制造方法，其中，優(yōu)選基板為透明薄膜基板。

[14]根據(jù)[12]或[13]所述的層疊體的制造方法，其中，優(yōu)選還包括對轉印后的感光性透明樹脂層進行加熱處理，將含羧基丙烯酸類樹脂的至少一部分設為羧酸酐的工序。

[15]一種層疊體，其通過根據(jù)[12]～[14]中任一項所述的層疊體的制造方法制造而成。

[16]一種靜電電容型輸入裝置，其包括根據(jù)[8]～[11]及[15]中任一項所述的層疊體。

發(fā)明效果

根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種賦予鹽水后的耐濕熱性和顯影性均優(yōu)異的、能夠形成靜電電容型輸入裝置的電極用保護膜的轉印薄膜。

附圖說明

圖1a是表示本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的結構的一例的剖面概略圖。

圖1b是表示本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的結構的另一例的剖面概略圖。

圖2是表示本發(fā)明中的前面板的一例的說明圖。

圖3是表示本發(fā)明中的透明電極圖案與非圖案區(qū)域的關系的一例的說明圖。

圖4是表示形成有開口部的前面板的一例的俯視圖。

圖5是表示形成有掩模層的前面板的一例的俯視圖。

圖6是表示形成有第一透明電極圖案的前面板的一例的俯視圖。

圖7是表示形成有第一透明電極圖案及第二透明電極圖案的前面板的一例的俯視圖。

圖8是表示形成有與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的導電性要件的前面板的一例的俯視圖。

圖9是表示金屬納米線剖面的說明圖。

圖10是表示透明電極圖案的端部的錐形形狀的一例的說明圖

圖11是表示本發(fā)明的層疊體的結構的一例的剖面概略圖。

圖12是表示本發(fā)明的轉印薄膜的結構的一例的剖面概略圖。

圖13是表示本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的結構的另一例的俯視圖，表示包含被圖案曝光、未被感光性透明樹脂層覆蓋的卷繞配線的終端部(末端部分)的方式。

圖14是表示在靜電電容型輸入裝置的透明電極圖案上，通過層壓而層疊具有感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層的本發(fā)明的轉印薄膜，并通過曝光等進行固化之前的狀態(tài)的一例的概略圖。

圖15是表示感光性透明樹脂層和第二透明樹脂層被固化的所希望的圖案的一例的概略圖。

具體實施方式

以下，關于本發(fā)明的轉印薄膜、靜電電容型輸入裝置的電極用保護膜、層疊體及靜電電容型輸入裝置進行說明。以下所記載的構成要件的說明是根據(jù)本發(fā)明的代表性實施方式和具體例而完成的，但本發(fā)明并不限定于那些實施方式和具體例。另外，在本說明書中用“～”表示的數(shù)值范圍是指將記載于“～”前后的數(shù)值作為下限值及上限值而包括的范圍。

[轉印薄膜]

本發(fā)明的轉印薄膜是具有臨時支撐體和形成于臨時支撐體上的感光性透明樹脂層的轉印薄膜，感光性透明樹脂層包含粘合劑聚合物、具有乙烯性不飽和基團的光聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑及封閉型異氰酸酯，粘合劑聚合物為酸值為60mgkoh/g以上的含羧基丙烯酸類樹脂，所述轉印薄膜用于保護靜電電容型輸入裝置的電極。

根據(jù)這種結構，本發(fā)明的轉印薄膜能夠形成顯影性和賦予鹽水后的耐濕熱性均優(yōu)異的靜電電容型輸入裝置的電極用保護膜。

雖然不受任何理論的約束，但可以如下推測：即使在感光性透明樹脂層中使用酸值高的粘合劑聚合物來提高了顯影性的情況下，只要是本發(fā)明的結構，則在光(紫外線)照射及加熱后的感光性透明樹脂層的內(nèi)部，光聚合性化合物緊密地形成交聯(lián)結構，直至能夠充分地阻斷鹽水的程度。因此，能夠改善將轉印后的感光性透明樹脂層進行曝光后的賦予鹽水后的耐濕熱性。尤其，可以如下推斷：對含羧基樹脂添加封閉型異氰酸酯而進行熱交聯(lián)，由此三維交聯(lián)密度提高、以及因含羧基樹脂的羧基的無水化而進行疏水化等有助于改善賦予鹽水后的耐濕熱性。

另外，通過增加光照射量而提高感光性透明樹脂層中的光聚合性化合物的反應率，由此提高了三維交聯(lián)密度的情況下，固化后的膜的固化收縮增大，轉印后的感光性透明樹脂層與基板的密合性有可能受到損傷。根據(jù)本發(fā)明的轉印薄膜的優(yōu)選方式，無需增加光照射量便能夠形成顯影性和賦予鹽水后的耐濕熱性均優(yōu)異的靜電電容型輸入裝置的電極用保護膜，因此也容易將轉印后的感光性透明樹脂層與基板的密合性設為良好。

以下，關于本發(fā)明的轉印薄膜的優(yōu)選方式進行說明。

另外，本發(fā)明的轉印薄膜優(yōu)選是靜電電容型輸入裝置的透明絕緣層用或透明保護層用轉印薄膜。本發(fā)明的轉印薄膜能夠用作：由于感光性透明樹脂層處于未固化狀態(tài)，因此在透明電極圖案上，通過光刻方式用于形成靜電電容型輸入裝置的電極用保護膜的層疊圖案的轉印薄膜；及更優(yōu)選用于形成折射率調整層及外涂層(透明保護層)的層疊圖案的轉印薄膜。

＜臨時支撐體＞

作為使用于轉印薄膜的臨時支撐體，并無特別的限制。

(厚度)

臨時支撐體的厚度并無特別的限制，通常為5～200μm的范圍，從易處理性、通用性等方面考慮，尤其優(yōu)選為10～150μm的范圍。

(材質)

作為臨時支撐體，優(yōu)選為薄膜，更優(yōu)選為樹脂薄膜。

作為用作臨時支撐體的薄膜，能夠使用具有撓性且在加壓情況下或者在加壓及加熱的情況下不產(chǎn)生顯著的變形、收縮或拉伸的材料。作為這種臨時支撐體的例子，可以舉出聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、三乙酸纖維素薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜等，其中，尤其優(yōu)選雙軸拉伸聚對苯二甲酸乙二酯薄膜。

并且，臨時支撐體可以是透明的，也可以含有染料硅、氧化鋁溶膠、鉻鹽、鋯鹽等。

并且，通過日本特開2005-221726號公報中所記載的方法等，能夠對臨時支撐體賦予導電性。

＜感光性透明樹脂層的結構＞

感光性透明樹脂層可以是光固化性樹脂層，也可以是熱固化性且光固化性樹脂層。其中，從轉印后通過進行光固化而容易進行制膜，且制膜后通過進行熱固化而能夠賦予膜的可靠性的觀點考慮，優(yōu)選感光性透明樹脂層及后述第二透明樹脂層為熱固化性透明樹脂層且光固化性透明樹脂層。

另外，在本說明書中，為了便于說明，轉印薄膜的感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層不管固化前后設為相同的名稱。

例如，將本發(fā)明的轉印薄膜的感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層轉印到透明電極圖案上，將這些層進行光固化之后，在這些層喪失了光固化性的情況下，不管這些層是否具有熱固化性，而分別繼續(xù)稱作感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層。而且，將這些層進行光固化之后，有時也進行熱固化，該情況下，也不管這些層是否具有固化性，而分別繼續(xù)稱作感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層。

同樣，將本發(fā)明的轉印薄膜的感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層轉印到透明電極圖案上，將這些層進行熱固化之后，在這些層喪失了熱固化性的情況下，不管這些層是否具有光固化性，而分別繼續(xù)稱作感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層。

(厚度)

在本發(fā)明的轉印薄膜中，所述感光性透明樹脂層的厚度優(yōu)選為1～20μm，更優(yōu)選為2～15μm，尤其優(yōu)選為3～12μm。感光性透明樹脂層的厚度足夠厚，因此能夠改善轉印后的感光性透明樹脂層(尤其，在曝光、顯影、加熱后)的賦予鹽水后的耐濕熱性。所述感光性透明樹脂層優(yōu)選使用于靜電電容型輸入裝置的圖像顯示部分，該情況下，高透明性及高透射率化變得重要。感光性透明樹脂層的厚度足夠薄，因此不易產(chǎn)生基于感光性透明樹脂層的吸收的透射率的降低。并且，短波不易被吸收，因此也不易顯黃色。

(折射率)

在本發(fā)明的轉印薄膜中，所述感光性透明樹脂層的折射率優(yōu)選為1.50～1.53，更優(yōu)選為1.50～1.52，尤其優(yōu)選為1.51～1.52。

(組成)

本發(fā)明的轉印薄膜可以是負型材料，也可以是正型材料。

本發(fā)明的轉印薄膜優(yōu)選為負型材料。

作為控制感光性透明樹脂層的折射率的方法，并無特別的限制，能夠單獨使用所希望的折射率的透明樹脂層，或者使用添加了金屬粒子和金屬氧化物粒子等粒子的透明樹脂層，或者使用金屬鹽和高分子的復合體。

而且，在所述感光性透明樹脂層中可以使用添加劑。作為添加劑，可以舉出例如日本專利第4502784號公報的0017段落、日本特開2009-237362號公報的0060～0071段落中所記載的表面活性劑、日本專利第4502784號公報的0018段落中所記載的熱聚合抑制劑、以及日本特開2000-310706號公報的0058～0071段落中所記載的其它添加劑。

以上，以本發(fā)明的轉印薄膜為負型材料的情況為中心進行了說明，但本發(fā)明的轉印薄膜也可以是正型材料。

-粘合劑聚合物-

本發(fā)明的轉印薄膜在感光性透明樹脂層中包含粘合劑聚合物，粘合劑聚合物包含酸值為60mgkoh/g以上的含羧基丙烯酸類樹脂(以下，有時稱作“特定酸值丙烯酸類樹脂”)。

另外，感光性透明樹脂層也可以包含除了特定酸值丙烯酸類樹脂以外的其它粘合劑聚合物。作為其它粘合劑聚合物，不受特別的限制而能夠使用任意的聚合物成分，但從作為靜電電容型輸入裝置的透明保護膜而使用的觀點考慮，優(yōu)選為表面硬度及耐熱性高的粘合劑聚合物，更優(yōu)選為堿溶性樹脂。作為堿溶性樹脂，能夠舉出公知的感光性硅氧烷樹脂材料等。

在本發(fā)明的轉印薄膜中，從提高將感光性透明樹脂層和第二透明樹脂層進行轉印前后的層間密合性的觀點考慮，優(yōu)選在感光性透明樹脂層的形成中使用的有機溶劑類樹脂組合物中所包含的粘合劑聚合物含有特定酸值丙烯酸類樹脂，且該粘合劑聚合物和在后述第二透明樹脂層的形成中使用的水性樹脂組合物中所包含的具有酸基的樹脂或粘合劑聚合物均含有丙烯酸類樹脂。對感光性透明樹脂層的粘合劑聚合物的優(yōu)選范圍具體地進行說明。

作為包含特定酸值丙烯酸類樹脂的粘合劑聚合物(稱作粘合劑、聚合物)，只要不違背本發(fā)明的主旨就無特別的限制，能夠從公知的粘合劑聚合物中適當?shù)剡M行選擇。例如能夠使用日本特開2011-95716號公報的0025段落中所記載的聚合物中酸值為60mgkoh/g以上的含羧基丙烯酸類樹脂即粘合劑聚合物、日本特開2010-237589號公報的0033～0052段落中所記載的聚合物中酸值為60mgkoh/g以上的含羧基丙烯酸類樹脂即粘合劑聚合物。

特定酸值丙烯酸類樹脂的酸值優(yōu)選為60～200mgkoh/g，更優(yōu)選為70～150mgkoh/g，尤其優(yōu)選為80～110mgkoh/g。

特定酸值丙烯酸類樹脂的酸值使用的是通過以下文獻等中記載的計算方法而算出的理論酸值的值。日本特開2004-149806號公報＜0063＞、日本特開2012-211228號公報＜0070＞。

并且，感光性透明樹脂層可以包含聚合物乳膠作為粘合劑聚合物。在此，所說的聚合物乳膠是不溶于水的聚合物粒子分散于水中的乳膠。關于聚合物乳膠，例如記載于室井宗一著“高分子乳膠的化學”(高分子刊行會發(fā)行(1973年))。

作為能夠使用的聚合物粒子，優(yōu)選丙烯酸類、乙酸乙烯酯類、橡膠類(例如苯乙烯-丁二烯類、氯丁二烯類)、烯烴類、聚酯類、聚氨酯類、聚苯乙烯類等的聚合物、以及由它們的共聚物構成的聚合物粒子。

優(yōu)選使構成聚合物粒子的聚合物鏈彼此之間的鍵合力增強。作為增強聚合物鏈彼此之間的鍵合力的方法，可以舉出利用基于氫鍵的相互作用的方法和生成共價鍵的方法。作為賦予氫鍵力的方法，優(yōu)選在聚合物鏈上將具有極性基團的單體進行共聚或者接枝聚合而導入。

作為粘合劑聚合物具有的極性基團，可以舉出羧基(丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、富馬酸、馬來酸、巴豆酸、部分酯化馬來酸等中所含有)、伯氨基、仲氨基及叔氨基、銨鹽基、磺酸基(苯乙烯磺酸)等，特定酸值丙烯酸類樹脂至少具有羧基。

具有這些極性基團的單體的共聚比的優(yōu)選范圍相對于聚合物100質量％為5～50質量％，更優(yōu)選為5～40質量％，進一步優(yōu)選在20～30質量％的范圍內(nèi)。在特定酸值丙烯酸類樹脂中，具有羧基的單體的共聚比的優(yōu)選范圍相對于聚合物100質量％為5～50質量％，更優(yōu)選為5～40質量％，進一步優(yōu)選在20～30質量％的范圍內(nèi)。另一方面，作為生成共價鍵的方法，可以舉出使環(huán)氧化合物、封閉型異氰酸酯、異氰酸酯、乙烯基砜化合物、醛化合物、羥甲基化合物、羧酸酐等與羥基、羧基、伯氨基、仲氨基、乙酰乙?；?、磺酸基等進行反應的方法。

聚合物的重均分子量優(yōu)選為1萬以上，進一步優(yōu)選為2萬～10萬。

能夠使用于本發(fā)明中的聚合物乳膠可以通過乳化聚合而得到，也可以是通過乳化而得到。關于這些聚合物乳膠的制備方法，例如記載于“乳液/乳膠手冊”(乳液/乳膠手冊編輯委員會編輯，taiseishaltd.發(fā)行(1975年))。

作為能夠使用于本發(fā)明的聚合物乳膠，能夠舉出例如丙烯酸烷基酯共聚物銨(商品名稱：jurymerat-210nihonjunyakuco.,ltd.制造)、丙烯酸烷基酯共聚物銨(商品名稱：jurymeret-410nihonjunyakuco.,ltd.制造)、丙烯酸烷基酯共聚物銨(商品名稱：jurymerat-510nihonjunyakuco.,ltd.制造)、聚丙烯酸(商品名稱：jurymerac-10lnihonjunyakuco.,ltd.制造)進行氨中和并乳化的物質。

-光聚合性化合物-

本發(fā)明的轉印薄膜的感光性透明樹脂層包含具有乙烯性不飽和基團的光聚合性化合物。具有乙烯性不飽和基團的光聚合性化合物只要具有至少一個乙烯性不飽和基團作為光聚合性基團即可，在具有乙烯性不飽和基團的基礎上，還可以具有環(huán)氧基等。作為感光性透明樹脂層的光聚合性化合物，更優(yōu)選包含具有(甲基)丙烯?；幕衔铩?/p>

使用于轉印薄膜中的光聚合性化合物，可以單獨僅使用一種，也可以組合兩種以上而使用，從改善將轉印后的感光性透明樹脂層進行曝光后的賦予鹽水后的耐濕熱性的觀點考慮，優(yōu)選組合兩種以上而使用。使用于本發(fā)明的轉印薄膜中的光聚合性化合物，從改善將轉印后的感光性透明樹脂層進行曝光后的賦予鹽水后的耐濕熱性的觀點考慮，優(yōu)選將3官能以上的光聚合性化合物和2官能的光聚合性化合物進行組合而使用。2官能的光聚合性化合物相對于所有的光聚合性化合物優(yōu)選以10～90質量％的范圍而使用，更優(yōu)選以20～85質量％的范圍而使用，尤其優(yōu)選以30～80質量％的范圍而使用。3官能以上的光聚合性化合物相對于所有的光聚合性化合物優(yōu)選以10～90質量％的范圍而使用，更優(yōu)選以15～80質量％的范圍而使用，尤其優(yōu)選以20～70質量％的范圍而使用。作為所述光聚合性化合物，轉印薄膜優(yōu)選至少包含具有兩個乙烯性不飽和基團的化合物及具有至少三個乙烯性不飽和基團的化合物，更優(yōu)選至少包含具有兩個(甲基)丙烯酰基的化合物及具有至少三個(甲基)丙烯?；幕衔?。

并且，從粘合劑聚合物的羧基和具有乙烯性不飽和基團的光聚合性化合物的羧基形成羧酸酐，以進一步提高賦予鹽水后的耐濕熱性的觀點考慮，本發(fā)明的轉印薄膜優(yōu)選含有具有乙烯性不飽和基團的光聚合性化合物中的至少一種羧基。

作為具有含有羧基的乙烯性不飽和基團的光聚合性化合物，并無特別的限定，而能夠使用市售的化合物。例如能夠優(yōu)選使用aronixto-2349(toagoseico.,ltd.制造)、aronixm-520(toagoseico.,ltd.制造)、aronixm-510(toagoseico.,ltd.制造)等。具有含有羧基的乙烯性不飽和基團的光聚合性化合物相對于所有的光聚合性化合物優(yōu)選以1～50質量％的范圍而使用，更優(yōu)選以1～30質量％的范圍而使用，尤其優(yōu)選以5～15質量％的范圍而使用。

作為所述光聚合性化合物，優(yōu)選包含氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物的混合量相對于所有的光聚合性化合物優(yōu)選為10質量％以上，更優(yōu)選為20質量％以上。氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物優(yōu)選(甲基)丙烯酰基的數(shù)量為3官能以上，更優(yōu)選為4官能以上。

具有2官能的乙烯性不飽和基團的光聚合性化合物，只要是在分子內(nèi)具有兩個乙烯性不飽和基團的化合物，則無特別的限定，而能夠使用市售的(甲基)丙烯酸酯化合物。例如能夠優(yōu)選使用三環(huán)癸烷二甲醇二丙烯酸酯(a-dcpshin-nakamurachemicalco.,ltd.制造)、三環(huán)癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯(dcpshin-nakamurachemicalco.,ltd.制造)、1,9-壬二醇二丙烯酸酯(a-nod-nshin-nakamurachemicalco.,ltd.制造)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(a-hd-nshin-nakamurachemicalco.,ltd.制造)等。

具有3官能以上的乙烯性不飽和基團的光聚合性化合物只要是在分子內(nèi)具有三個以上乙烯性不飽和基團的化合物，則無特別的限定，例如能夠使用二季戊四醇(三/四/五/六)丙烯酸酯、季戊四醇(三/四)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四丙烯酸酯、異氰脲酸丙烯酸酯等骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物，優(yōu)選(甲基)丙烯酸酯之間的跨距長度長的化合物。具體而言，優(yōu)選能夠使用所述二季戊四醇(三/四/五/六)丙烯酸酯、季戊四醇(三/四)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四丙烯酸酯、異氰脲酸丙烯酸酯等骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物的己內(nèi)酯改性化合物(nipponkayakuco.,ltd.制造的kayaraddpca，shin-nakamurachemicalco.,ltd.制造的a-9300-1cl等)、環(huán)氧烷改性化合物(nipponkayakuco.,ltd.制造的kayaradrp-1040、shin-nakamurachemicalco.,ltd.制造的atm-35e、a-9300、daicel-allnexltd.制造的ebecryl135等)等。并且，優(yōu)選使用3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯。作為3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯，能夠優(yōu)選使用8ux-015a(taiseifinechemicalco,.ltd.制造)、ua-32p(shin-nakamurachemicalco.,ltd.制造)、ua-1100h(shin-nakamurachemicalco.,ltd.制造)等。

使用于轉印薄膜中的光聚合性化合物的平均分子量優(yōu)選為200～3000，更優(yōu)選為250～2600，尤其優(yōu)選為280～2200。

-光聚合引發(fā)劑-

所述感光性透明樹脂層包含所述光聚合性化合物及所述光聚合引發(fā)劑，由此能夠容易形成感光性透明樹脂層的圖案。

作為感光性透明樹脂層可包含的光聚合引發(fā)劑，能夠使用日本特開2011-95716號公報的0031～0042段落中所記載的光聚合引發(fā)劑。例如除了1,2-辛二酮,1-[4-苯硫基)-,2-(o-苯甲酰肟)](商品名稱：irgacureoxe-01，basf公司制造)以外，能夠優(yōu)選使用乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲?；?-9h-咔唑-3-基]-,1-(o-乙酰肟)(商品名稱：irgacureoxe-02,basf公司制造)、2-(二甲氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎啉基)苯基]-1-丁酮(商品名稱：irgacure379eg，basf公司制造)、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎啉代丙烷-1-酮(商品名稱：irgacure907，basf公司制造)、2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙?；?-芐基]苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮(商品名稱：irgacure127、basf公司制造)、2-芐基-2-二甲氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-丁酮-1(商品名稱：irgacure369，basf公司制造)、2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮(商品名稱：irgacure1173，basf公司制造)、1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮(商品名稱：irgacure184，basf公司制造)、2,2-二甲氧基-1,2-二苯乙烷-1-酮(商品名稱：irgacure651，basf公司制造)、肟酯類光聚合引發(fā)劑(商品名稱：lunar6、dkshjapank.k.制造)等。

在所述感光性透明樹脂層中，相對于所述感光性透明樹脂層，所述光聚合引發(fā)劑優(yōu)選包含1質量％以上，更優(yōu)選包含2質量％以上。在所述感光性透明樹脂層中，相對于所述感光性透明樹脂層，所述光聚合引發(fā)劑優(yōu)選包含10質量％以下，從改善本發(fā)明的層疊體的圖案形成性、基板密合性的觀點考慮，更優(yōu)選包含5質量％以下。

-封閉型異氰酸酯-

本發(fā)明的轉印薄膜的感光性透明樹脂層具有封閉型異氰酸酯。封閉型異氰酸酯是指“具有用阻斷劑來保護(遮罩)異氰酸酯的異氰酸酯基的結構的化合物”。

在本發(fā)明的轉印薄膜中，封閉型異氰酸酯的解離溫度優(yōu)選為100℃～160℃，尤其優(yōu)選為130～150℃。

本說明書中的封閉型異氰酸酯的解離溫度是指由“差示掃描量熱儀(seikoinstrumentsinc.制造，dsc6200)通過dsc(differentialscanningcalorimetry)分析而測定的情況下，伴隨封閉型異氰酸酯的脫保護反應的吸熱峰的溫度”。

作為解離溫度為100℃～160℃的阻斷劑，可以舉出吡唑類化合物(3,5-二甲基吡唑、3-甲基吡唑、4-溴-3,5-二甲基吡唑、4-硝基-3,5-二甲基吡唑等)、活性亞甲基類化合物(丙二酸二酯(丙二酸二甲酯、丙二酸二乙酯、丙二酸二正丁酯、丙二酸二-2-乙基己基)等)、三唑類化合物(1,2,4-三唑等)、肟類化合物(甲醛肟、乙醛肟、乙酰肟、甲基乙基酮肟、環(huán)己酮肟)等。其中，從保存穩(wěn)定性的觀點考慮，優(yōu)選肟類、吡唑類化合物，尤其優(yōu)選肟類化合物。

在本發(fā)明的轉印薄膜中，從膜的韌性及基材密合力的觀點考慮，優(yōu)選封閉型異氰酸酯具有異氰脲酸酯結構。

在具有異氰脲酸酯結構的封閉型異氰酸酯中，肟類化合物a比不具有肟結構的化合物b更容易將解離溫度設為優(yōu)選范圍，從容易提高顯影性的觀點考慮是優(yōu)選的。

封閉型異氰酸酯的被封閉的異氰酸酯基在每一個分子的個數(shù)優(yōu)選為1～10，更優(yōu)選為2～6，尤其優(yōu)選為3～4。

作為使用于本發(fā)明的轉印薄膜中的封閉型異氰酸酯的具體例，能夠舉出以下化合物。但使用于本發(fā)明中的封閉型異氰酸酯并不限定于以下具體例。

[化學式1]

作為使用于本發(fā)明的轉印薄膜中的封閉型異氰酸酯，能夠舉出市售的封閉型異氰酸酯。例如能夠舉出異佛爾酮二異氰酸酯的甲基乙基酮肟嵌段化物即takenate(注冊商標)b870n(mitsuichemicals,inc.制造)、六亞甲基二異氰酸酯類封閉型異氰酸酯化合物即duranate(注冊商標)mf-k60b(asahikaseicorporation.制造)等。

使用于轉印薄膜中的封閉型異氰酸酯的分子量優(yōu)選為200～3000，更優(yōu)選為250～2600，尤其優(yōu)選為280～2200。

-金屬氧化物粒子-

所述感光性透明樹脂層以調節(jié)折射率和透光性為目的，可以包含或不包含粒子(優(yōu)選金屬氧化物粒子)。為了將所述感光性透明樹脂層的折射率控制在上述范圍內(nèi)，根據(jù)所使用的聚合物和聚合性化合物的種類，能夠以任意的比例包含金屬氧化物粒子。在所述感光性透明樹脂層中，相對于所述感光性透明樹脂層，所述金屬氧化物粒子的含量優(yōu)選為0～35質量％，更優(yōu)選為0～10質量％，尤其優(yōu)選不包含金屬氧化物粒子。

金屬氧化物粒子的透明性高且具有透光性，因此可得到高折射率且透明性優(yōu)異的正型感光性透明樹脂組合物。

所述金屬氧化物粒子優(yōu)選為折射率比由從感光性透明樹脂層中去除該粒子的材料構成的組合物的折射率高的粒子。

另外，所述金屬氧化物粒子的金屬中也包含b、si、ge、as、sb、te等半金屬。

作為透光性且折射率較高的金屬氧化物粒子，優(yōu)選為包含be、mg、ca、sr、ba、sc、y、la、ce、gd、tb、dy、yb、lu、ti、zr、hf、nb、mo、w、zn、b、al、si、ge、sn、pb、sb、bi、te等原子的氧化物粒子，更優(yōu)選氧化鈦、鈦復合氧化物、氧化鋅、氧化鋯、銦/錫氧化物及銻/錫氧化物，進一步優(yōu)選氧化鈦、鈦復合氧化物及氧化鋯，尤其優(yōu)選氧化鈦及氧化鋯，最優(yōu)選二氧化鈦。作為二氧化鈦，尤其優(yōu)選折射率較高的金紅石型。這些金屬氧化物粒子為了賦予分散穩(wěn)定性而能夠用有機材料對表面進行處理。

從感光性透明樹脂層的透明性的觀點考慮，所述金屬氧化物粒子的平均一次粒徑優(yōu)選為1～200nm，尤其優(yōu)選為3～80nm。在此，粒子的平均一次粒徑是指通過電子顯微鏡來測定任意200個粒子的粒徑且其測定結果的算術平均。并且粒子的形狀為非球形的情況下，將最長邊設為粒徑。

并且，金屬氧化物粒子可以單獨使用一種，也能夠并用兩種以上。

在本發(fā)明的轉印薄膜中，從將折射率控制為所述感光性透明樹脂層的折射率范圍的觀點考慮，感光性透明樹脂層具有zro2粒子、nb2o5粒子及tio2粒子中的至少一種，更優(yōu)選為zro2粒子及nb2o5粒子，進一步優(yōu)選包含zro2粒子。

＜第二透明樹脂層的結構＞

本發(fā)明的轉印薄膜優(yōu)選在所述感光性透明樹脂層上具有第二透明樹脂層，更優(yōu)選具有與所述感光性透明樹脂層相鄰配置的第二透明樹脂層。

第二透明樹脂層可以是熱固化性樹脂層，可以是光固化性樹脂層，也可以是熱固化性且光固化性樹脂層。其中，從轉印后通過進行熱固化而能夠賦予膜的可靠性的觀點考慮，優(yōu)選第二透明樹脂層至少是熱固化性透明樹脂層。并且，從轉印后通過進行光固化而容易制膜，且制膜后通過進行熱固化而能夠賦予膜的可靠性的觀點考慮，更優(yōu)選第二透明樹脂層是熱固化性透明樹脂層且光固化性透明樹脂層。

(折射率)

本發(fā)明的轉印薄膜優(yōu)選在感光性透明樹脂層上具有第二透明樹脂層，更優(yōu)選所述第二透明樹脂層的折射率比所述感光性透明樹脂層的折射率高。

將透明電極圖案(優(yōu)選ito)與所述第二透明樹脂層的折射率差、以及所述第二透明樹脂層與所述感光性透明樹脂層的折射率差設為較小，由此光反射降低而不易看見透明電極圖案，能夠改善透明電極圖案可見性。

并且，在層疊感光性透明樹脂層之后，即使不使該感光性透明樹脂層固化而層疊第二透明樹脂層，層分級也變得良好。因此，能夠以上述機理來改善透明電極圖案可見性。并且，從轉印薄膜，將折射率調整層(即感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層)轉印到透明電極圖案上之后，通過光刻而能夠以所希望的圖案進行顯影。另外，若感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層的層分級良好，則容易獲得基于上述機理的折射率調整的充分的效果，并容易充分地改善透明電極圖案可見性。

所述第二透明樹脂層的折射率優(yōu)選為1.60以上。

另一方面，所述第二透明樹脂層的折射率需要通過透明電極的折射率而進行調整，作為值的上限值并無特別的限制，優(yōu)選為2.1以下，更優(yōu)選為1.78以下，也可以是1.74以下。

尤其，如in及zn的氧化物(izo)的情況，在透明電極的折射率超過2.0的情況下，第二透明樹脂層的折射率優(yōu)選為1.7以上且1.85以下。

(厚度)

在本發(fā)明的轉印薄膜中，所述第二透明樹脂層的膜厚優(yōu)選為500nm以下，更優(yōu)選為110nm以下。所述第二透明樹脂層的膜厚優(yōu)選為20nm以上。所述第二透明樹脂層的膜厚尤其優(yōu)選為55～100nm，更尤其優(yōu)選為60～100nm，進一步更尤其優(yōu)選為70～100nm。

(組成)

本發(fā)明的轉印薄膜可以是負型材料，也可以是正型材料。

在本發(fā)明的轉印薄膜為負型材料的情況下，在第二透明樹脂層中優(yōu)選包含金屬氧化物粒子、粘合劑樹脂(尤其堿溶性樹脂)、光聚合性化合物、聚合引發(fā)劑。進而，使用添加劑等，但并不限定于此。

在本發(fā)明的轉印薄膜中，第二透明樹脂層優(yōu)選包含聚合物粘合劑、光聚合性化合物及光聚合引發(fā)劑。

作為控制第二透明樹脂層的折射率的方法并無特別的限制，能夠單獨使用所希望的折射率的透明樹脂層，或者使用添加了金屬粒子或金屬氧化物粒子等粒子的透明樹脂層，或者使用金屬鹽與高分子的復合體。

而且，所述第二透明樹脂層中可以使用添加劑。作為所述添加劑，可以舉出例如日本專利第4502784號公報的0017段落、日本特開2009-237362號公報的0060～0071段落中所記載的表面活性劑、日本專利第4502784號公報的0018段落中所記載的熱聚合抑制劑、及日本特開2000-310706號公報的0058～0071段落中所記載的其它添加劑。

以上，以本發(fā)明的轉印薄膜為負型材料的情況為中心進行了說明，但本發(fā)明的轉印薄膜也可以是正型材料。在本發(fā)明的轉印薄膜為正型材料的情況下，在所述第二透明樹脂層中可以使用例如日本特開2005-221726號公報中所記載的材料等，但并不限定于此。

-具有酸基的單體的銨鹽或具有酸基的樹脂的銨鹽-

第二透明樹脂層優(yōu)選包含具有酸基的單體的銨鹽或具有酸基的樹脂的銨鹽。

作為具有酸基的單體的銨鹽或具有酸基的樹脂的銨鹽，并無特別的限制。

第二透明樹脂層的所述具有酸基的單體的銨鹽或具有酸基的樹脂的銨鹽，優(yōu)選為具有酸基的丙烯酸單體或丙烯酸類樹脂的銨鹽。

優(yōu)選包括如下工序：使具有酸基的單體或具有酸基的樹脂溶解于氨水溶液中，制備包含所述酸基的至少一部分已進行銨鹽化的單體或樹脂的水性樹脂組合物。

--具有酸基的樹脂--

作為具有酸基的單體或具有酸基的樹脂，優(yōu)選為具有酸基的樹脂，更優(yōu)選為具有單價酸基(羧基等)的樹脂。第二透明樹脂層的粘合劑聚合物尤其優(yōu)選為具有羧基的粘合劑聚合物。

作為使用于在第二透明樹脂層中且對水性溶劑(優(yōu)選為水或碳原子數(shù)為1至3的低級醇和水的混合溶劑)具有溶解性的樹脂，只要不違背本發(fā)明的主旨就無特別的限制，能夠從公知的樹脂中適當?shù)剡M行選擇。

使用于第二透明樹脂層中的具有酸基的樹脂優(yōu)選為堿溶性樹脂。堿溶性樹脂是線狀有機高分子聚合物，能夠從分子(優(yōu)選將丙烯酸類共聚物、苯乙烯類共聚物作為主鏈的分子)中具有至少一個促進堿溶性的基(即，酸基：例如羧基、磷酸基、磺酸基等)的堿溶性樹脂中適當?shù)剡M行選擇。其中，進一步優(yōu)選為可溶解于有機溶劑且可以通過弱堿水溶液進行顯影的堿溶性樹脂。作為酸基，優(yōu)選為羧基。

在堿溶性樹脂的制造中，能夠適用例如基于公知的自由基聚合法的方法。利用自由基聚合法來制造堿溶性樹脂時的溫度、壓力、自由基引發(fā)劑的種類及其量、溶劑的種類等聚合條件，對于本領域從業(yè)人員來講是可以容易設定的，也能夠確定實驗性條件。

作為上述線狀有機高分子聚合物，優(yōu)選在側鏈上具有羧酸的聚合物。例如，如日本特開昭59-44615號、日本特公昭54-34327號、日本特公昭58-12577號、日本特公昭54-25957號、日本特開昭59-53836號、日本特開昭59-71048號、日本特開昭46-2121號公報和日本特公昭56-40824號公報的各公報中所記載那樣的聚(甲基)丙烯酸、甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、苯乙烯/馬來酸等馬來酸共聚物、部分酯化馬來酸共聚物等、以及羧烷基纖維素及羧烷基淀粉等在側鏈上具有羧酸的酸性纖維素衍生物、對具有羥基的聚合物加成酸酐的聚合物等，而且，也可以優(yōu)選舉出在側鏈上具有(甲基)丙烯?；确磻怨倌軋F的高分子聚合物。

這些聚合物中，尤其優(yōu)選包括芐基(甲基)丙烯酸酯/(甲基)丙烯酸共聚物和芐基(甲基)丙烯酸酯/(甲基)丙烯酸/其它單體的多元共聚物。

此外，也可以舉出2-羥基乙基甲基丙烯酸酯共聚的聚合物等作為有用的聚合物。該聚合物能夠以任意的量進行混合而使用。

除了上述聚合物以外，可以舉出在日本特開平7-140654號公報中所記載的、2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯/聚苯乙烯大分子單體/芐基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羥基-3-苯氧基丙基丙烯酸酯/聚甲基丙烯酸甲酯大分子單體/芐基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羥基乙基甲基丙烯酸酯/聚苯乙烯大分子單體/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羥基乙基甲基丙烯酸酯/聚苯乙烯大分子單體/芐基甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酸共聚物等。

關于堿溶性樹脂的具體的構成單元，尤其優(yōu)選(甲基)丙烯酸與可以與其共聚的其它單體的共聚物。

作為可以與(甲基)丙烯酸共聚的其它單體，可以舉出烷基(甲基)丙烯酸酯、芳基(甲基)丙烯酸酯、乙烯基化合物等。在此，烷基及芳基的氫原子可以被取代基取代。

作為烷基(甲基)丙烯酸酯及芳基(甲基)丙烯酸酯的具體例，能夠舉出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、苯基(甲基)丙烯酸酯、芐基丙烯酸酯、丙烯酸甲苯酯、丙烯酸萘酯、丙烯酸環(huán)己基酯等。

并且，作為乙烯基化合物，能夠舉出例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、n-乙烯基吡咯烷酮、甲基丙烯酸四氫糠酯、聚苯乙烯大分子單體、聚甲基丙烯酸甲酯大分子單體、ch2＝cr¹r²、ch2＝c(r¹)(coor³)〔在此，r¹表示氫原子或碳原子數(shù)為1～5的烷基，r²表示碳原子數(shù)為6～10的芳香族烴環(huán)，r³表示碳原子數(shù)為1～8的烷基或碳原子數(shù)為6～12的芳烷基。〕等。

這些可以共聚的其它單體能夠單獨使用一種，或者組合兩種以上而使用。優(yōu)選的可以共聚的其它單體是選自ch2＝cr¹r²、ch2＝c(r¹)(coor³)、苯基(甲基)丙烯酸酯、芐基(甲基)丙烯酸酯及苯乙烯的至少一種，尤其優(yōu)選為ch2＝cr¹r²和/或ch2＝c(r¹)(coor³)。

此外，可以舉出如下樹脂：使具有反應性官能團的(甲基)丙烯酸化合物、肉桂酸等和具有與該反應性官能團可以反應的取代基的線狀高分子進行反應，從而將乙烯性不飽和雙鍵導入到該線狀高分子中。作為反應性官能團，能夠例示羥基、羧基、氨基等，作為與該反應性官能團可以反應的取代基，能夠舉出異氰酸酯基、醛基、環(huán)氧基等。

其中，作為具有酸基的樹脂，優(yōu)選為具有酸基的丙烯酸類樹脂。另外，在本說明書中，在丙烯酸類樹脂中包含甲基丙烯酸類樹脂和丙烯酸類樹脂這兩種，同樣，在(甲基)丙烯酸中可以包含甲基丙烯酸和丙烯酸。

--具有酸基的單體--

作為具有酸基的單體，能夠優(yōu)選使用(甲基)丙烯酸、其衍生物等丙烯酸單體和以下單體。

可以舉出例如3～4官能的自由基聚合性單體(在季戊四醇三丙烯酸酯及季戊四醇四丙烯酸酯[peta]骨架中導入羧酸基的單體(酸值＝80～120mg-koh/g))、5～6官能的自由基聚合性單體(在二季戊四醇五丙烯酸酯及二季戊四醇六丙烯酸酯[dpha]骨架中導入羧酸基的單體(酸值＝25～70mg-koh/g))等。未記載具體的名稱，但根據(jù)需要，可以使用2官能的堿溶性自由基聚合性單體。

此外，也能夠優(yōu)選使用在日本特開2004-239942號公報的＜0025＞～＜0030＞中所記載的具有酸基的單體，該公報的內(nèi)容可以引用于本發(fā)明中。

其中，更優(yōu)選使用(甲基)丙烯酸和其衍生物等丙烯酸單體。另外，在本說明書中，丙烯酸單體包含甲基丙烯酸單體和丙烯酸單體這兩種。

-其它粘合劑聚合物-

作為使用于第二透明樹脂層中的不具有酸基的其它粘合劑聚合物并無特別的限制，能夠使用在有機溶劑類樹脂組合物中使用的粘合劑聚合物，所述有機溶劑類樹脂組合物在所述感光性透明樹脂層的形成中被使用。

-聚合性化合物-

從通過進行固化而提高膜的強度等的觀點考慮，優(yōu)選所述第二透明樹脂層包含所述光聚合性化合物或熱聚合性化合物等聚合性化合物。更優(yōu)選包含除了具有所述酸基的單體以外的其它光聚合性化合物。

作為使用于第二透明樹脂層中的聚合性化合物，能夠使用日本專利第4098550號的0023～0024段落中所記載的聚合性化合物。其中，能夠優(yōu)選使用季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇環(huán)氧乙烷(eo)加成物的四丙烯酸酯。這些聚合性化合物可以單獨使用，也可以組合多個進行使用。在使用季戊四醇四丙烯酸酯和季戊四醇三丙烯酸酯的混合物的情況下，季戊四醇三丙烯酸酯的比率以質量比計優(yōu)選為0～80％，更優(yōu)選為10～60％。

作為使用于第二透明樹脂層中的光聚合性化合物，具體而言，能夠舉出由下述結構式1表示的水溶性聚合性化合物、季戊四醇四丙烯酸酯混合物(nk酯a-tmmt，shin-nakamurachemicalco.,ltd.制造，作為雜質而含有三丙烯酸酯約10％)、季戊四醇四丙烯酸酯和三丙烯酸酯的混合物(nk酯a-tmm3lm-n，shin-nakamurachemicalco.,ltd.制造，三丙烯酸酯37％)、季戊四醇四丙烯酸酯和三丙烯酸酯的混合物(nk酯a-tmm-3l，shin-nakamurachemicalco.,ltd.制造，三丙烯酸酯55％)、季戊四醇四丙烯酸酯和三丙烯酸酯的混合物(nk酯a-tmm3，shin-nakamurachemicalco.,ltd.制造，三丙烯酸酯57％)、季戊四醇環(huán)氧乙烷(eo)加成物的四丙烯酸酯(kayaradrp-1040，nipponkayakuco.,ltd.制造)等。

作為使用于第二透明樹脂層中的光聚合性化合物，其中，從改善轉印薄膜的皺縮網(wǎng)紋的觀點考慮，能夠優(yōu)選使用由下述結構式1表示的水溶性聚合性化合物、季戊四醇四丙烯酸酯混合物(nk酯a-tmmt，shin-nakamurachemicalco.,ltd.制造)、季戊四醇四丙烯酸酯和三丙烯酸酯的混合物(nk酯a-tmm3lm-n，shin-nakamurachemicalco.,ltd.制造，三丙烯酸酯37％)、季戊四醇四丙烯酸酯和三丙烯酸酯的混合物(nk酯a-tmm-3l，shin-nakamurachemicalco.,ltd.制造，三丙烯酸酯55％)。

[化學式2]

作為使用于其它第二透明樹脂層中的光聚合性化合物，作為對水或碳原子數(shù)為1至3的低級醇和水的混合溶劑具有溶解性的聚合性化合物，能夠使用具有羥基的單體、在分子內(nèi)具有環(huán)氧乙烷和聚環(huán)氧丙烷及磷酸基的單體。

-光聚合引發(fā)劑-

作為使用于所述第二透明樹脂層中且對水或碳原子數(shù)為1至3的低級醇和水的混合溶劑具有溶解性的光聚合引發(fā)劑，能夠使用irgacure2959、下述結構式2的引發(fā)劑。

[化學式3]

-金屬氧化物粒子-

所述第二透明樹脂層以調節(jié)折射率和透光性為目的，可以包含或不包含粒子(優(yōu)選金屬氧化物粒子)，但從將所述第二透明樹脂層的折射率控制為上述范圍的觀點考慮，優(yōu)選包含金屬氧化物粒子。在所述第二透明樹脂層中，根據(jù)所使用的聚合物和聚合性化合物的種類，能夠以任意的比例包含金屬氧化物粒子，在所述第二透明樹脂層中，相對于所述第二透明樹脂層，所述金屬氧化物粒子優(yōu)選包含40～95質量％，更優(yōu)選包含55～95質量％，從改善轉印薄膜的裂縫的觀點考慮，尤其優(yōu)選包含62～90質量％，從進一步改善轉印薄膜的裂縫且改善本發(fā)明的透明層疊體的基板密合性的觀點考慮，更尤其優(yōu)選包含62～75質量％，進一步更尤其優(yōu)選包含62～70質量％。

所述金屬氧化物粒子優(yōu)選為折射率比由從第二透明樹脂層中去除該粒子的材料構成的組合物的折射率高的金屬氧化物粒子。具體而言，在本發(fā)明的轉印薄膜中，第二透明樹脂層更優(yōu)選含有具有400～750nm波長的光中的折射率為1.50以上的粒子，進一步優(yōu)選含有折射率為1.55以上的粒子，尤其優(yōu)選含有折射率為1.70以上的粒子，最優(yōu)選含有1.90以上的粒子。

在此，具有400～750nm波長的光中的折射率為1.50以上是指，具有上述范圍的波長的光中的平均折射率為1.50以上，并不要求具有上述范圍波長的所有光中的折射率為1.50以上。并且，平均折射率是對具有上述范圍波長的各光的折射率的測定值的總和除以測定點的個數(shù)的值。

并且，所述金屬氧化物粒子可以單獨使用一種，也能夠并用兩種以上。

在本發(fā)明的轉印薄膜中，從將折射率控制在所述第二透明樹脂層的折射率的范圍的觀點考慮，第二透明樹脂層優(yōu)選具有zro2粒子、nb2o5粒子及tio2粒子中的至少一種，更優(yōu)選為zro2粒子及nb2o5粒子，進一步優(yōu)選包含zro2粒子。

＜熱塑性樹脂層＞

本發(fā)明的轉印薄膜也能夠在所述臨時支撐體與所述感光性透明樹脂層之間設置熱塑性樹脂層。若使用具有所述熱塑性樹脂層的轉印材料來轉印感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層而形成層疊體，則在進行轉印而形成的各要件中不易產(chǎn)生氣泡，在圖像顯示裝置中不易產(chǎn)生圖像不均等，能夠獲得優(yōu)異的顯示特性。

所述熱塑性樹脂層優(yōu)選為堿溶性樹脂層。熱塑性樹脂層優(yōu)選發(fā)揮作為緩沖材料的作用，以便能夠吸收基底表面的凹凸(也包括由已形成的圖像等產(chǎn)生的凹凸等。)，并具有根據(jù)對象表面的凹凸而可以變形的性質。

熱塑性樹脂層優(yōu)選將日本特開平5-72724號公報中所記載的有機高分子物質作為成分而包含的方式，尤其優(yōu)選包含至少一種選自基于維卡(vicat)法(具體而言，根據(jù)美國材料試驗法astmd1235的聚合物軟化點測定法)的軟化點約為80℃以下的有機高分子物質的方式。

具體而言，可以舉出聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴、乙烯和乙酸乙烯酯或其皂化物等乙烯共聚物、乙烯和丙烯酸酯或其皂化物的共聚物、聚氯乙烯或氯乙烯和乙酸乙烯酯或其皂化物等氯乙烯共聚物、聚偏二氯乙烯、偏二氯乙烯共聚物、聚苯乙烯、苯乙烯和(甲基)丙烯酸酯或其皂化物等苯乙烯類共聚物、聚乙烯基甲苯、乙烯基甲苯和(甲基)丙烯酸酯或其皂化物等乙烯基甲苯共聚物、聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸丁酯和乙酸乙烯酯等(甲基)丙烯酸酯共聚物、乙酸乙烯酯共聚物尼龍、共聚尼龍、n-烷氧基甲基化尼龍、n-二甲氨基化尼龍等聚酰胺樹脂等有機高分子。

熱塑性樹脂層的層厚優(yōu)選為3～30μm。在熱塑性樹脂層的層厚小于3μm的情況下，層壓時的追隨性不充分，有時無法完全吸收基底表面的凹凸。并且，在層厚超過30μm的情況下，對熱塑性樹脂層形成于臨時支撐體時的干燥(除去溶劑)施加負荷，或者在熱塑性樹脂層的顯影中需要較長時間，有時使工藝適性變差。作為所述熱塑性樹脂層的層厚，進一步優(yōu)選為4～25μm，尤其優(yōu)選為5～20μm。

熱塑性樹脂層能夠通過涂布包含熱塑性有機高分子的制備液等而形成，并能夠使用溶劑來制備進行涂布等時所使用的制備液。作為溶劑，只要可以溶解構成熱塑性樹脂層的高分子成分就無特別的限制，可以舉出例如甲乙酮、環(huán)己酮、丙二醇單甲醚乙酸酯、正丙醇及2-丙醇等。

(熱塑性樹脂層及光固化性樹脂層的粘度)

所述熱塑性樹脂層的在100℃下測定的粘度在1000～10000pa·sec的區(qū)域，光固化性樹脂層的在100℃下測定的粘度優(yōu)選在2000～50000pa·sec的區(qū)域。

＜中間層＞

本發(fā)明的轉印薄膜也能夠在所述熱塑性樹脂層與所述感光性透明樹脂層之間設置中間層。作為中間層，在日本特開平5-72724號公報中作為“分離層”而記載。

＜保護膜＞

本發(fā)明的轉印薄膜優(yōu)選在所述第二透明樹脂層的表面還設置保護膜(以下，也稱作“保護剝離層”。)等。

作為所述保護膜，能夠適當?shù)厥褂迷谌毡咎亻_2006-259138號公報的0083～0087及0093段落中記載的保護膜。

圖12中示出本發(fā)明的轉印薄膜的優(yōu)選結構的一例。圖12是臨時支撐體26、感光性透明樹脂層7、第二透明樹脂層12及保護剝離層(保護膜)29依次彼此相鄰而層疊的本發(fā)明的轉印薄膜30的概略圖。

＜轉印薄膜的制造方法＞

轉印薄膜的制造方法并無特別的限制而能夠使用公知的方法。

在臨時支撐體上，除了感光性透明樹脂層以外，還制造具有第二透明樹脂層的轉印薄膜的情況下，這種轉印薄膜的制造方法優(yōu)選具有：在臨時支撐體上形成感光性透明樹脂層的工序；及在所述感光性透明樹脂層上直接形成第二透明樹脂層的工序。形成所述感光性透明樹脂層的工序優(yōu)選為將有機溶劑類樹脂組合物涂布于所述臨時支撐體上的工序。形成所述第二透明樹脂層的工序優(yōu)選為涂布包含具有酸基的單體的銨鹽或具有酸基的樹脂的銨鹽的水性樹脂組合物的工序。通過設為這種結構，層分級變得良好。而且，在高溫高濕下，即使在經(jīng)過時間的情況下，也可以抑制由使用水性樹脂組合物而形成的透明樹脂層的吸濕而引起的問題。

在通過有機溶劑類樹脂組合物而得到的感光性透明樹脂層上，涂布包含具有酸基的單體的銨鹽或具有酸基的樹脂的銨鹽的水性樹脂組合物，由此，即使不使感光性透明樹脂層固化而形成第二透明樹脂層，也不會產(chǎn)生層混合，層分級變得良好。

在干燥使用包含具有酸基的單體的銨鹽或具有酸基的樹脂的銨鹽的水性樹脂組合物而得到的涂布膜時，從具有酸基的單體的銨鹽或具有酸基的樹脂的銨鹽，沸點低于水的氨在干燥工序中容易揮發(fā)。因此生成(再生)酸基而能夠作為具有酸基的單體或者具有酸基的樹脂存在于第二透明樹脂層中。由此，在高溫高濕下，在經(jīng)過時間而使其吸濕的情況下，構成第二透明樹脂層的具有酸基的單體或具有酸基的樹脂均不會溶解于水，因此也能夠抑制轉印薄膜吸濕時的問題。

(在臨時支撐體上形成感光性透明樹脂層的工序)

轉印薄膜的制造方法具有在臨時支撐體上形成感光性透明樹脂層的工序，形成所述感光性透明樹脂層的工序優(yōu)選為將有機溶劑類樹脂組合物涂布于所述臨時支撐體上的工序。

-有機溶劑類樹脂組合物-

有機溶劑類樹脂組合物是指能夠溶解于有機溶劑中的樹脂組合物。

作為有機溶劑，能夠使用通常的有機溶劑。作為有機溶劑的例子，能夠舉出甲乙酮、丙二醇單甲基醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、環(huán)己酮、甲基異丁基酮、乳酸乙酯、乳酸甲酯、己內(nèi)酰胺等。

在轉印薄膜的制造方法中，在感光性透明樹脂層的形成中所使用的有機溶劑類樹脂組合物優(yōu)選包含粘合劑聚合物、光聚合性化合物及光聚合引發(fā)劑。

(形成第二透明樹脂層的工序)

在轉印薄膜的制造方法中，具有在感光性透明樹脂層上直接形成第二透明樹脂層的工序，形成所述第二透明樹脂層的工序優(yōu)選為涂布包含具有酸基的單體的銨鹽或具有酸基的樹脂的銨鹽的水性樹脂組合物的工序。

-水性樹脂組合物-

水性樹脂組合物是指能夠溶解于水性溶劑的樹脂組合物。

作為水性溶劑，優(yōu)選為水或者碳原子數(shù)為1至3的低級醇與水的混合溶劑。在轉印薄膜的制造方法的優(yōu)選方式中，在第二透明樹脂層的形成中使用的水性樹脂組合物的溶劑優(yōu)選包含水及碳原子數(shù)為1～3的醇，更優(yōu)選包含水/碳原子數(shù)為1～3的含醇率以質量比計為58/42～100/0的水或混合溶劑。

水/碳原子數(shù)1～3的含醇率以質量比計尤其優(yōu)選為59/41～100/0的范圍，從改善本發(fā)明的層疊體的著色的觀點考慮，更尤其優(yōu)選60/40～97/3，從改善本發(fā)明的層疊體的基板密合性的觀點考慮，進一步更尤其優(yōu)選為62/38～95/5，最優(yōu)選為62/38～85/15。

優(yōu)選水、水及甲醇的混合溶劑、水及乙醇的混合溶劑，從干燥及涂布性的觀點考慮，優(yōu)選水及甲醇的混合溶劑。

尤其，在形成第二透明樹脂層時，在使用水及甲醇的混合溶劑的情況下，水/甲醇的質量比(質量％比率)優(yōu)選為58/42～100/0，更優(yōu)選為59/41～100/0的范圍，尤其優(yōu)選為60/40～97/3，更尤其優(yōu)選為62/38～95/5，進一步更尤其優(yōu)選為62/38～85/15。與該水/碳原子數(shù)1～3的含醇率以質量比計為58/42的范圍相比，若甲醇變得更多，則感光性透明樹脂層進行溶解或白濁化，因此不優(yōu)選。

通過控制為上述范圍，不存在與第二透明樹脂層的層混合，而能夠實現(xiàn)涂布和迅速的干燥。

水性樹脂組合物在25℃下的ph(powerofhydrogen)優(yōu)選為7.0～12.0，更優(yōu)選為7.0～10.0，尤其優(yōu)選為7.0～8.5。例如，對酸基使用過量的氨，并添加具有酸基的單體或具有酸基的樹脂，從而在上述優(yōu)選范圍內(nèi)能夠調整水性樹脂組合物的ph。

并且，在轉印薄膜的制造方法中，在第二透明樹脂層的形成中使用的水性樹脂組合物優(yōu)選為熱固化性及光固化性中的至少一種。在感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層為這種固化性透明樹脂層的情況下，根據(jù)轉印薄膜的制造方法，在層疊感光性透明樹脂層之后，即使不使其固化而層疊第二透明樹脂層，層分級也變得良好。由此，能夠進一步改善透明電極圖案可見性。并且，根據(jù)該結構，從所得到的轉印薄膜(轉印材料，優(yōu)選轉印薄膜)，將折射率調整層(即感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層)轉印到透明電極圖案上之后，通過光刻而能夠以所希望的圖案進行顯影。

在轉印薄膜的制造方法中，在第二透明樹脂層的形成中所使用的水性樹脂組合物，優(yōu)選含有具有酸基的單體的銨鹽或具有酸基的樹脂的銨鹽，并包含粘合劑聚合物、光聚合性化合物或熱聚合性化合物、光聚合性化合物或熱聚合引發(fā)劑。只有具有酸基的樹脂的銨鹽可以是粘合劑聚合物，除了具有酸基的樹脂的銨鹽以外，還可以并用其它粘合劑聚合物。具有酸基的單體的銨鹽可以是光聚合性化合物或熱聚合性化合物，除了具有酸基的單體的銨鹽以外，還可以并用光聚合性化合物或熱聚合性化合物。

＜氨的揮發(fā)＞

而且，轉印薄膜的制造方法優(yōu)選包括如下工序：從具有酸基的單體的銨鹽或具有酸基的樹脂的銨鹽，通過使氨揮發(fā)而生成酸基。生成酸基的該工序優(yōu)選為加熱被涂布的所述水性樹脂組合物的工序。

以下，示出加熱被涂布的所述水性樹脂組合物的工序的詳細的條件的優(yōu)選范圍。

作為加熱及干燥方法，能夠通過在具備加熱裝置的爐內(nèi)通過的方法或者送風而實施。加熱及干燥條件只要根據(jù)所使用的有機溶劑等適當?shù)卦O定即可，可以舉出加熱到40～150℃溫度的方法等。這些條件中，尤其優(yōu)選以50～120℃的溫度進行加熱，進一步優(yōu)選加熱到60～100℃的溫度。作為加熱及干燥后的組合物，優(yōu)選設為含水率為5質量％以下，更優(yōu)選設為3質量％以下，進一步優(yōu)選設為1質量％以下。

＜其它工序＞

也可以包括如下工序：在所述臨時支撐體上形成所述感光性透明樹脂層之前，還形成熱塑性樹脂層。

在形成所述熱塑性樹脂層的工序之后，優(yōu)選包括在所述熱塑性樹脂層與所述感光性透明樹脂層之間形成中間層的工序。在形成具有中間層的感光性材料的情況下，在臨時支撐體上涂布將熱塑性有機高分子和添加劑進行溶解的溶解液(熱塑性樹脂層用涂布液)，并使其干燥而設置熱塑性樹脂層之后，在該熱塑性樹脂層上涂布通過在不溶解熱塑性樹脂層的溶劑中添加樹脂或添加劑而制備的制備液(中間層用涂布液)，并使其干燥而層疊中間層，在該中間層上，進而，涂布使用不溶解中間層的溶劑而制備的感光性透明樹脂層用涂布液，并使其干燥而層疊感光性透明樹脂層，由此能夠適宜地制作。

其它透明樹脂層的制造方法能夠采用在日本特開2006-259138號公報的0094～0098段落中所記載的感光性轉印材料的制作方法。

[靜電電容型輸入裝置的電極用保護膜]

本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的電極用保護膜是從本發(fā)明的轉印薄膜去除臨時支撐體的電極用保護膜。

在本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的電極用保護膜中，在靜電電容型輸入裝置的用途中尤其重要的賦予鹽水后的耐濕熱性和顯影性均優(yōu)異。

后述本發(fā)明的層疊體具有本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的電極用保護膜。

[層疊體]

本發(fā)明的層疊體的第1方式為一種層疊體，其使用本發(fā)明的轉印薄膜，在包括靜電電容型輸入裝置的電極的基板上轉印所述轉印薄膜的所述感光性透明樹脂層而形成。

本發(fā)明的層疊體的第2方式為一種層疊體，其具有：

基板，包括靜電電容型輸入裝置的電極；及

感光性透明樹脂層，形成于基板上，

感光性透明樹脂層包含粘合劑聚合物、具有乙烯性不飽和基團的光聚合性化合物、光聚合引發(fā)劑及封閉型異氰酸酯，

粘合劑聚合物是酸值為60mgkoh/g以上的含羧基丙烯酸類樹脂。

本發(fā)明的層疊體的第3方式為一種層疊體，其通過后述本發(fā)明的層疊體的制造方法制造而成。

由于具有這些結構，因此本發(fā)明的層疊體的賦予鹽水后的耐濕熱性和顯影性均優(yōu)異。

靜電電容型輸入裝置的電極可以是透明電極圖案，也可以是卷繞配線。在本發(fā)明的層疊體中，靜電電容型輸入裝置的電極優(yōu)選為電極圖案，更優(yōu)選為透明電極圖案。

本發(fā)明的層疊體具有包括靜電電容型輸入裝置的電極的基板和形成于該基板上的感光性透明樹脂層，優(yōu)選至少具有基板、透明電極圖案及感光性透明樹脂層，更優(yōu)選具有基板和透明電極圖案、與該透明電極圖案相鄰配置的第二透明樹脂層、與該第二透明樹脂層相鄰配置的感光性透明樹脂層。

本發(fā)明的層疊體具有基板和透明電極圖案、與該透明電極圖案相鄰配置的第二透明樹脂層、與該第二透明樹脂層相鄰配置的感光性透明樹脂層，尤其優(yōu)選所述第二透明樹脂層的折射率比所述感光性透明樹脂層的折射率高，更尤其優(yōu)選所述第二透明樹脂層的折射率為1.6以上。通過設為這種結構，能夠解決可看見透明電極圖案的問題，圖案形成性變得良好。

＜層疊體的結構＞

在本發(fā)明的層疊體中，從進一步改善透明電極圖案的可見性的觀點考慮，優(yōu)選在所述透明電極圖案的形成有所述第二透明樹脂層的一側的相反側，還具有折射率為1.6～1.78且膜厚為55～110nm的透明膜。另外，在本說明書中，在無特別說明而記載為“透明膜”的情況下，是指上述“折射率為1.6～1.78且膜厚為55～110nm的透明膜”。

在本發(fā)明的層疊體中，在透明膜的形成有所述透明電極圖案的一側的相反側，優(yōu)選還具有透明基板。

圖11中示出本發(fā)明的層疊體的結構的一例。

圖11中，面內(nèi)具有依次層疊有透明基板1、折射率為1.6～1.78且膜厚為55～110nm的透明膜11，面內(nèi)還具有透明電極圖案4、第二透明樹脂層12及感光性透明樹脂層7的區(qū)域21。并且，圖11中示出所述層疊體除了上述區(qū)域以外，還包括依次層疊有透明基板1及包含具有不同的折射率的至少兩種透明薄膜的多層膜11的區(qū)域(在圖11的結構中，依次層疊有第二透明樹脂層12和感光性透明樹脂層7的區(qū)域22(即，未形成有透明電極圖案的非圖案區(qū)域22))。

換言之，所述帶透明電極圖案的基板在面內(nèi)方向包括區(qū)域21，該區(qū)域21依次層疊有透明基板1、包含具有不同的折射率的至少兩種透明薄膜的多層膜11、透明電極圖案4、第二透明樹脂層12及感光性透明樹脂層7。

面內(nèi)方向是指相對于與層疊體的透明基板平行的面大致平行的方向。從而，面內(nèi)包含依次層疊有透明電極圖案4、第二透明樹脂層12及感光性透明樹脂層7的區(qū)域是指，在依次層疊有透明電極圖案4、第二透明樹脂層12及感光性性透明樹脂層7的區(qū)域的、與層疊體的透明基板平行的面上的正投影存在于與層疊體的透明基板平行的面內(nèi)。

在此，將本發(fā)明的層疊體使用于后述靜電電容型輸入裝置的情況下，有時透明電極圖案在行方向和列方向大致正交的兩個方向上分別作為第一透明電極圖案及第二透明電極圖案而被設置(例如參考圖3)。例如在圖3的結構中，本發(fā)明的層疊體中的透明電極圖案可以是第二透明電極圖案4，也可以是第一透明電極圖案3的焊盤部分3a。換言之，在以下本發(fā)明的層疊體的說明中，有時以“4”為代表而表示透明電極圖案的符號，但本發(fā)明的層疊體中的透明電極圖案并不限定于使用為本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置中的第二透明電極圖案4，例如也可以作為第一透明電極圖案3的焊盤部分3a而使用。

本發(fā)明的層疊體優(yōu)選包括未形成有所述透明電極圖案的非圖案區(qū)域。在本說明書中，非圖案區(qū)域是指未形成有透明電極圖案4的區(qū)域。

圖11中示出本發(fā)明的層疊體包含非圖案區(qū)域22的方式。

本發(fā)明的層疊體優(yōu)選在未形成有所述透明電極圖案的非圖案區(qū)域22的至少一部分，在面內(nèi)包含依次層疊有所述透明基板、所述透明膜及所述第二透明樹脂層的區(qū)域。

本發(fā)明的層疊體優(yōu)選在依次層疊有所述透明基板、所述透明膜及所述第二透明樹脂層的區(qū)域中，所述透明膜及所述第二透明樹脂層彼此相鄰。

然而，在所述非圖案區(qū)域22的其它區(qū)域，只要不違背本發(fā)明的主旨，就可以將其它部件配置于任意的位置上，例如在將本發(fā)明的層疊體使用于后述靜電電容型輸入裝置的情況下，能夠層疊圖1a中的掩模層2、絕緣層5及導電性要件6等。

在本發(fā)明的層疊體中，優(yōu)選所述透明基板及透明膜彼此相鄰。

圖11中示出在所述透明基板1上相鄰地層疊有所述透明膜11的方式。

然而，只要不違背本發(fā)明的主旨，也可以在所述透明基板及所述透明膜之間層疊有第三透明膜。例如優(yōu)選在所述透明基板及所述透明膜之間也包含折射率為1.5～1.52的第三透明膜(圖11中未圖示)。

在本發(fā)明的層疊體中，所述透明膜的厚度優(yōu)選為55～110nm，更優(yōu)選為60～110nm，尤其優(yōu)選為70～90nm。

在此，所述透明膜可以是單層結構，也可以是兩層以上的層疊結構。在所述透明膜為兩層以上的層疊結構的情況下，所述透明膜的膜厚是指總層的合計膜厚。

在本發(fā)明的層疊體中，優(yōu)選所述透明膜及所述透明電極圖案彼此相鄰。

圖11中示出在所述透明膜11的一部分區(qū)域上相鄰層疊有所述透明電極圖案4的方式。

如圖11所示，所述透明電極圖案4的端部的形狀并無特別的限制，可以具有錐形形狀，例如可以具有所述透明基板側的一面比所述透明基板的相反側的一面更寬的錐形形狀。

在此，所述透明電極圖案的端部呈錐形形狀時的透明電極圖案的端部的角度(以下也稱作錐角)優(yōu)選為30°以下，更優(yōu)選為0.1～15°，尤其優(yōu)選為0.5～5°。

在本說明書中的錐角的測定方法中，拍攝所述透明電極圖案端部的顯微鏡照片，使其顯微鏡照片的錐形部分近似于三角形，通過直接測定而能夠求出錐角。

圖10中示出透明電極圖案的端部呈錐形形狀的情況的一例。圖10中的近似于錐形部分的三角形的底面為800nm，高度(與底面大致平行的上底部分的膜厚)為40nm，此時的錐角α約為3°。近似于錐形部分的三角形的底面優(yōu)選為10～3000nm，更優(yōu)選為100～1500nm，尤其優(yōu)選為300～1000nm。

另外，近似于錐形部分的三角形的高度的優(yōu)選范圍與透明電極圖案的膜厚的優(yōu)選范圍相同。

本發(fā)明的層疊體優(yōu)選包含所述透明電極圖案及所述透明樹脂層彼此相鄰的區(qū)域。

圖11中示出如下方式：在依次層疊有所述透明電極圖案、所述第二透明樹脂層及感光性透明樹脂層的區(qū)域21中，所述透明電極圖案、所述第二透明樹脂層及感光性透明樹脂層彼此相鄰。

并且，在本發(fā)明的層疊體中，優(yōu)選通過所述透明膜及所述第二透明樹脂層而連續(xù)地直接或經(jīng)由其它層而包覆所述透明電極圖案及未形成有所述透明電極圖案的非圖案區(qū)域22這兩者。

在此，“連續(xù)”是指所述透明膜及所述第二透明樹脂層不是圖案膜，而是連續(xù)膜。即，從不易看見透明電極圖案的觀點考慮，優(yōu)選所述透明膜及所述第二透明樹脂層不具有開口部。

并且，所述透明電極圖案及所述非圖案區(qū)域22通過所述透明膜及所述第二透明樹脂層而直接被包覆，這比經(jīng)由其它層而被包覆更優(yōu)選。作為經(jīng)由其它層而被包覆的情況的“其它層”，能夠舉出后述本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置中所包含的絕緣層5，或者如后述本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置那樣在包括兩層以上的透明電極圖案的情況下，能夠舉出第二層的透明電極圖案等。

圖11中示出層疊有所述第二透明樹脂層12的方式。所述第二透明樹脂層12橫跨所述透明膜11上未層疊有透明電極圖案4的區(qū)域和層疊有透明電極圖案4的區(qū)域上而層疊。即，所述第二透明樹脂層12與所述透明膜11相鄰，而且，所述第二透明樹脂層12也與透明電極圖案4相鄰。

并且，在透明電極圖案4的端部呈錐形形狀的情況下，優(yōu)選沿錐形形狀(以與錐角相同的傾斜度)層疊有所述第二透明樹脂層12。

在圖11中示出在所述第二透明樹脂層12的、與形成有所述透明電極圖案的表面相反側的表面上層疊有感光性透明樹脂層7的方式。

＜層疊體的材料＞

(基板)

在本發(fā)明的層疊體中，所述基板優(yōu)選為玻璃基板或薄膜基板。并且，基板優(yōu)選為透明基版。在本發(fā)明的層疊體的制造方法中，基板更優(yōu)選為透明薄膜基板。

所述基板的折射率為1.5～1.52。

所述基板可以由玻璃基板等透光性基板構成，能夠使用以corningincorporated的gorilla玻璃為代表的強化玻璃等。并且，作為所述透明基板，能夠優(yōu)選使用在日本特開2010-86684號公報、日本特開2010-152809號公報及日本特開2010-257492號公報中使用的材料。

在將薄膜基板用作所述基板的情況下，更優(yōu)選使用無光學應變的薄膜基板、透明度較高的薄膜基板，作為具體的原材料，能夠舉出聚對苯二甲酸乙二酯(pet)、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯(pc)、三乙酰纖維素(tac)或環(huán)烯烴聚合物(cop)。

(透明電極圖案)

所述透明電極圖案的折射率優(yōu)選為1.75～2.1。

所述透明電極圖案的材料并無特別的限制，能夠使用公知的材料。例如能夠用ito(氧化銦錫，indiumtinoxide)、izo(氧化銦鋅，indiumzincoxide)等透光性導電性金屬氧化膜來制作。作為這種金屬膜，可以舉出ito膜；al、zn、cu、fe、ni、cr、mo等金屬膜；sio2等金屬氧化膜等。此時，各要件的膜厚能夠設為10～200nm。并且通過燒成將非晶形ito膜設為多晶ito膜，從而也能夠降低電阻。并且，所述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4及后述導電性要件6能夠利用具有使用了所述導電性纖維的光固化性樹脂層的感光性薄膜來制造。此外，在通過ito等形成第一導電性圖案等的情況下，能夠參考日本專利第4506785號公報的0014～0016段落等。其中，所述透明電極圖案優(yōu)選為ito膜。

在本發(fā)明的層疊體中，尤其優(yōu)選所述透明電極圖案為折射率為1.75～2.1的ito膜。

(感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層)

本發(fā)明的層疊體中所包含的感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層的優(yōu)選范圍，與本發(fā)明的轉印薄膜中的所述感光性透明樹脂層及所述第二透明樹脂層的優(yōu)選范圍相同。

其中，從成為賦予鹽水后的耐濕熱性和顯影性均優(yōu)異的靜電電容型輸入裝置的電極用保護膜的觀點考慮，在本發(fā)明的層疊體中，感光性透明樹脂層優(yōu)選包含羧酸酐。對感光性透明樹脂層的含羧基樹脂添加封閉型異氰酸酯而進行熱交聯(lián)，由此可推斷提高三維交聯(lián)密度、以及因含羧基樹脂的羧基的無水化而進行疏水化等，有助于改善賦予鹽水后的耐濕熱性。

使感光性透明樹脂層含有羧酸酐的方法，并無特別的限制，優(yōu)選如下方法：將轉印后的感光性透明樹脂層進行加熱處理，從而將含羧基丙烯酸類樹脂的至少一部分設為羧酸酐。并且，在具有乙烯性不飽和基團的光聚合性化合物中的至少一種含有羧基的情況下，含羧基丙烯酸類樹脂和具有含有羧基的乙烯性不飽和基團的光聚合性化合物可以形成羧酸酐，也可以由具有含有羧基的乙烯性不飽和基團的光聚合性化合物彼此來形成羧酸酐。

(透明膜)

在本發(fā)明的層疊體中，所述透明膜的折射率優(yōu)選為1.60～1.78，更優(yōu)選為1.65～1.74。在此，所述透明膜可以是單層結構，也可以是兩層以上的層疊結構。在所述透明膜為兩層以上的層疊結構的情況下，所述透明膜的折射率是指總層的折射率。

只要滿足這種折射率的范圍，所述透明膜的材料不受特別的限制。

所述透明膜的材料的優(yōu)選范圍和折射率等物理性質的優(yōu)選范圍，與所述第二透明樹脂層的其優(yōu)選范圍相同。

在本發(fā)明的層疊體中，從光學均質性的觀點考慮，優(yōu)選所述透明膜和所述第二透明樹脂層由相同的材料構成。

在本發(fā)明的層疊體中，所述透明膜優(yōu)選為透明樹脂膜。

作為使用于透明樹脂膜中的金屬氧化物粒子、樹脂(粘合劑)、其它添加劑，只要不違背本發(fā)明的主旨，就無特別的限制，能夠優(yōu)選使用在本發(fā)明的轉印薄膜中的所述第二透明樹脂層中所使用的樹脂及其它添加劑。

在本發(fā)明的層疊體中，所述透明膜也可以是無機膜。作為使用于無機膜中的材料，能夠優(yōu)選使用使用于本發(fā)明的轉印薄膜中的所述第二透明樹脂層中的材料。

(第三透明膜)

從接近于所述透明基板的折射率且改善透明電極圖案的可見性的觀點考慮，所述第三透明膜的折射率優(yōu)選為1.50～1.55，更優(yōu)選為1.50～1.52。

＜層疊體的制造方法＞

本發(fā)明的層疊體的制造方法包括以下工序：使用本發(fā)明的轉印薄膜，在包括靜電電容型輸入裝置的電極的基板上轉印轉印薄膜的感光性透明樹脂層。

層疊體的制造方法優(yōu)選包括以下工序：在透明電極圖案上，依次層疊本發(fā)明的轉印薄膜的所述第二透明樹脂層及所述感光性透明樹脂層。

根據(jù)這種結構，能夠一并轉印層疊體的第二透明樹脂層及所述感光性透明樹脂層，并且，能夠容易且以高生產(chǎn)率制造不存在可看見透明電極圖案的問題的層疊體。

另外，所述第二透明樹脂層直接或經(jīng)由其它層而被制膜于所述透明電極圖案上，在所述非圖案區(qū)域中被制膜于所述透明膜上。

(透明基板的表面處理)

并且，為了提高后述轉印工序中的基于層壓的各層的密合性，能夠預先對透明基板(前面板)的非接觸面實施表面處理。作為所述表面處理，優(yōu)選實施使用了硅烷化合物的表面處理(硅烷偶聯(lián)處理)。作為硅烷偶聯(lián)劑，優(yōu)選為具有與感光性樹脂相互作用的官能團的硅烷偶聯(lián)劑。例如將硅烷偶聯(lián)液((n-β-氨基乙基-γ-氨基丙基三甲氧基硅烷)0.3質量％水溶液，商品名稱：kbm603、shin-etsuchemicalco.,ltd.制造)，通過噴淋而噴附20秒鐘，進行純水噴淋清洗。之后，通過加熱而使其反應?？梢允褂眉訜岵?，通過層壓機的基板預熱也能夠促進反應。

(透明電極圖案的制膜)

所述透明電極圖案能夠利用后述本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的說明中的第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4及其它導電性要件6的形成方法等，在透明基板上或者在所述透明膜上進行制膜，優(yōu)選使用感光性薄膜的方法。

(感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層的制膜)

形成所述感光性透明樹脂層及所述第二透明樹脂層的方法，可以舉出具有如下工序的方法：保護膜去除工序，從本發(fā)明的轉印薄膜去除所述保護膜；轉印工序，將去除了所述保護膜的本發(fā)明的轉印薄膜的所述感光性透明樹脂層及所述第二透明樹脂層轉印到透明電極圖案上；曝光工序，將轉印到透明電極圖案上的感光性透明樹脂層及所述第二透明樹脂層進行曝光；及顯影工序，將被曝光的感光性透明樹脂層及所述第二透明樹脂層進行顯影。

-轉印工序-

所述轉印工序優(yōu)選為將去除了所述保護膜的本發(fā)明的轉印薄膜的所述感光性透明樹脂層及所述第二透明樹脂層轉印到透明電極圖案上的工序。

此時，優(yōu)選包括如下工序的方法：將本發(fā)明的轉印薄膜的所述感光性透明樹脂層及所述第二透明樹脂層層壓于透明電極圖案之后，去除基材(臨時支撐體)。

所述感光性透明樹脂層及所述第二透明樹脂層對臨時支撐體表面的轉印(貼合)，是通過將所述感光性透明樹脂層及所述第二透明樹脂層重疊于透明電極圖案表面并進行加壓、加熱而進行的。貼合時能夠使用層壓機、真空層壓機及可進一步提高生產(chǎn)率的自動切割層壓機等公知的裝置。

-曝光工序、顯影工序、及其它工序-

作為所述曝光工序、顯影工序及其它工序的例子，將日本特開2006-23696號公報的0035～0051段落中記載的方法也能夠適當?shù)厥褂糜诒景l(fā)明中。

所述曝光工序為將轉印到透明電極圖案上的所述感光性透明樹脂層及所述第二透明樹脂層進行曝光的工序。

具體而言，可以舉出如下方法：在形成于所述透明電極圖案上的所述感光性透明樹脂層及所述第二透明樹脂層的上方配置規(guī)定的掩模，之后，經(jīng)由該掩模及臨時支撐體，從掩模上方，對所述感光性透明樹脂層及所述第二透明樹脂層進行曝光。

在此，作為所述曝光的光源，只要是能夠照射可以固化所述感光性透明樹脂層及所述第二透明樹脂層的波長區(qū)域的光(例如365nm、405nm等)的光源，則能夠適當?shù)剡x定而使用。具體而言，可以舉出超高壓汞燈、高壓汞燈、金屬鹵化物燈等。作為曝光量，通常為5～200mj/cm²左右，優(yōu)選為10～100mj/cm²左右。

所述顯影工序是將被曝光的光固化性樹脂層進行顯影的工序。

在本發(fā)明中，所述顯影工序是通過顯影液將被圖案曝光的所述感光性透明樹脂層及所述第二透明樹脂層進行圖案顯影的狹義含義的顯影工序。

所述顯影能夠使用顯影液來進行。作為所述顯影液并無特別的限制，能夠使用在日本特開平5-72724號公報中記載的顯影液等公知的顯影液。另外，顯影液優(yōu)選為進行光固化性樹脂層溶解類型的顯影行為的顯影液，例如優(yōu)選以0.05～5mol/l的濃度含有pka(powerofka；ka為酸解離常數(shù))＝7～13的化合物的顯影液。另一方面，所述感光性透明樹脂層及所述第二透明樹脂層本身不形成圖案的情況下的顯影液優(yōu)選為進行不溶解所述非堿性顯影型著色組合物層的類型的顯影行為的顯影液，例如優(yōu)選以0.05～5mol/l的濃度含有pka＝7～13的化合物的顯影液。在顯影液中還可以少量添加具有與水的混和性的有機溶劑。作為具有與水的混和性的有機溶劑，可以舉出甲醇、乙醇、2-丙醇、1-丙醇、丁醇、二丙酮醇、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單正丁基醚、苯甲醇、丙酮、甲乙酮、環(huán)己酮、ε-己內(nèi)酯、γ-丁內(nèi)酯、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、六甲基膦酰胺、乳酸乙酯、乳酸甲酯、ε-己內(nèi)酰胺、n-甲基吡咯烷酮等。有機溶劑的濃度優(yōu)選為0.1質量％～30質量％。

并且，所述顯影液中還能夠添加公知的表面活性劑。表面活性劑的濃度優(yōu)選為0.01質量％～10質量％。

作為所述顯影方式，可以是旋覆浸沒式顯影、噴淋顯影、噴淋&旋涂顯影、浸漬顯影等中的任一種。在此，若對所述噴淋顯影進行說明，則通過噴淋對曝光后的所述感光性透明樹脂層及所述第二透明樹脂層噴附顯影液而能夠去除未固化部分。另外，在設置有熱塑性樹脂層或中間層的情況下，優(yōu)選在顯影之前通過噴淋等噴附光固化性樹脂層的溶解性較低的堿性溶液，去除熱塑性樹脂層、中間層等。并且，優(yōu)選在顯影之后，通過噴淋而噴附清洗劑等，一邊用刷子等進行擦拭，一邊去除顯影殘渣。顯影液的液體溫度優(yōu)選為20℃～40℃，并且顯影液的ph優(yōu)選為8～13。

所述層疊體的制造方法可以具有后曝光工序等其它工序。

另外，可以在剝離基材(臨時支撐體)之后進行圖案化曝光或整面曝光，也可以在剝離臨時支撐體之前進行曝光，之后，剝離臨時支撐體。可以是經(jīng)由掩模的曝光，也可以是使用激光等的數(shù)字曝光。

-加熱工序-

從可提高賦予鹽水后的耐濕熱性的觀點考慮，本發(fā)明的層疊體的制造方法優(yōu)選包括以下工序：對轉印后的感光性透明樹脂層進行加熱處理，從而將含羧基丙烯酸類樹脂的至少一部分設為羧酸酐。對轉印后的感光性透明樹脂層的加熱處理優(yōu)選在曝光、顯影后進行，即優(yōu)選為曝光、顯影后的后烘干工序。在所述感光性透明樹脂層及所述第二透明樹脂層為熱固化性樹脂層的情況下，尤其優(yōu)選進行后烘干工序。并且，從調整ito等透明電極的電阻值的觀點考慮，也優(yōu)選進行后烘干工序。

對轉印后的感光性透明樹脂層進行加熱處理，從而將含羧基丙烯酸類樹脂的至少一部分設為羧酸酐的工序中的加熱溫度，在將薄膜基板用作基板的情況下，優(yōu)選為100～160℃，更優(yōu)選為140～150℃。

(透明膜的制膜)

本發(fā)明的層疊體在所述透明電極圖案的形成有所述第二透明樹脂層的一側的相反側還具有折射率為1.6～1.78且膜厚為55～110nm的透明膜的情況下，所述透明膜在所述透明電極圖案上直接或經(jīng)由所述第三透明膜等其它層而進行制膜。

作為所述透明膜的制膜方法并無特別的限制，但優(yōu)選通過轉印或濺射而進行制膜。

其中，在本發(fā)明的層疊體中，優(yōu)選所述透明膜通過將形成于臨時支撐體上的透明固化性樹脂膜轉印到所述透明基板上而被制膜，更優(yōu)選在轉印之后進行固化而被制膜。作為轉印及固化的方法，能夠舉出如下方法：使用后述本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的說明中的感光性薄膜，以與層疊體的制造方法中的轉印所述感光性透明樹脂層及所述第二透明樹脂層的方法相同的方式進行轉印、曝光、顯影及其它工序。該情況下，優(yōu)選通過使所述金屬氧化物粒子分散于感光性薄膜中的光固化性樹脂層，將所述透明膜的折射率調整為上述范圍內(nèi)。

另一方面，在所述透明膜為無機膜的情況下，優(yōu)選通過濺射而形成。即，在本發(fā)明的層疊體中，所述透明膜也優(yōu)選通過濺射而形成。

作為濺射方法，能夠優(yōu)選使用在日本特開2010-86684號公報、日本特開2010-152809號公報及日本特開2010-257492號公報中使用的方法。

(第三透明膜的制膜)

所述第三透明膜的制膜方法與在透明基板上制作折射率為1.6～1.78且膜厚為55～110nm的透明膜的方法相同。

層疊體的制造方法優(yōu)選包括將感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層同時進行固化的工序，更優(yōu)選包括同時進行圖案固化的工序。本發(fā)明的轉印薄膜優(yōu)選在層疊了感光性透明樹脂層之后，層疊第二透明樹脂層，而無需使感光性透明樹脂層固化。從如此得到的本發(fā)明的轉印薄膜被轉印的感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層能夠同時進行固化。由此，從本發(fā)明的轉印薄膜將感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層轉印到透明電極圖案上之后，通過光刻能夠以所希望的圖案進行顯影。

層疊體的制造方法更優(yōu)選在將感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層同時進行固化的工序之后，包括將感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層的未固化部分(在光固化的情況下，僅為未曝光部分，或者僅為曝光部分)進行顯影而去除的工序。

[靜電電容型輸入裝置]

本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置包含本發(fā)明的層疊體。

本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置優(yōu)選從本發(fā)明的轉印薄膜將第二透明樹脂層和與所述第二透明樹脂層相鄰配置的感光性透明樹脂層轉印到靜電電容型輸入裝置的透明電極圖案上而被制作。

本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置優(yōu)選將從本發(fā)明的轉印薄膜進行轉印的感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層同時進行固化，更優(yōu)選將感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層同時進行圖案固化。另外，在同時固化感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層時，優(yōu)選從本發(fā)明的轉印薄膜不剝離保護膜。

本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置更優(yōu)選將從本發(fā)明的轉印薄膜印象轉印且進行圖案固化的感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層的未固化部分進行顯影而去除。另外，在將感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層進行固化之后，在進行顯影之前，優(yōu)選從本發(fā)明的轉印薄膜剝離保護膜。本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置在卷繞配線的終端部需要與形成于聚酰亞胺薄膜上的柔性配線連接，因此該終端部優(yōu)選未被感光性透明樹脂層(及第二透明樹脂層)包覆。

圖13中示出該方式。圖13中示出包含透明電極圖案的卷繞配線(其它導電性要件6)和卷繞配線的終端部31的以下結構的靜電電容型輸入裝置。

卷繞配線的終端部31上的感光性透明樹脂層(及第二透明樹脂層)成為未固化部(未曝光部)，因此通過顯影而被去除，露出卷繞配線的終端部31。

圖14及圖15中示出具體的曝光、顯影的方式。圖14表示將具有感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層的轉印薄膜30通過層壓而層疊于靜電電容型輸入裝置的透明電極圖案上的狀態(tài)，且通過曝光等進行固化之前的狀態(tài)。在利用光刻的情況下，即，通過曝光進行固化的情況下，通過使用掩模的圖案曝光及未曝光部的顯影而能夠得到圖15所示形狀的感光性透明樹脂層與第二透明樹脂層的固化部(曝光部)33。具體而言，在圖15中，作為感光性透明樹脂層與第二透明樹脂層的未固化部而與卷繞配線的終端部對應的開口部34、以及在靜電電容型輸入裝置的框部輪廓的外側突出的感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層的端部被去除。如此，形成用于避免包覆卷繞配線的終端部(引出配線部)的感光性透明樹脂層及第二透明樹脂層的固化部(所希望的圖案)。

由此，能夠將在聚酰亞胺薄膜上被制作的柔性配線直接連接于卷繞配線的終端部31，可以將傳感器的信號發(fā)送到電路。

本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置優(yōu)選具有層疊體，該層疊體具有透明電極圖案、與該透明電極圖案相鄰配置的第二透明樹脂層、與該第二透明樹脂層相鄰配置的感光性透明樹脂層，所述第二透明樹脂層的折射率比所述感光性透明樹脂層的折射率高且所述第二透明樹脂層的折射率為1.6以上。

以下，對本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的優(yōu)選方式的詳細內(nèi)容進行說明。

本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置具有前面板(相當于本發(fā)明的層疊體中的所述透明基板)和在所述前面板的非接觸面?zhèn)戎辽倬哂邢率鲆?3)～(5)、(7)及(8)，優(yōu)選具有本發(fā)明的層疊體。

(3)多個第一透明電極圖案，由多個焊盤部分經(jīng)由連接部分在第一方向上延伸形成；

(4)多個第二電極圖案，與所述第一透明電極圖案電絕緣，并包括在與所述第一方向交叉的方向上延伸形成的多個焊盤部分；

(5)絕緣層，將所述第一透明電極圖案與所述第二電極圖案進行電絕緣；

(7)第二透明樹脂層，以包覆所述要件(3)～(5)的全部或一部分的方式形成；

(8)感光性透明樹脂層，以包覆所述要件(7)的方式相鄰地形成。

在此，所述(7)第二透明樹脂層相當于本發(fā)明的層疊體中的所述第二透明樹脂層。并且，所述(8)感光性透明樹脂層相當于本發(fā)明的層疊體中的所述感光性透明樹脂層。另外，所述感光性透明樹脂層優(yōu)選為通常公知的靜電電容型輸入裝置中的所謂的透明保護層。

在本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置中，所述(4)第二電極圖案可以是透明電極圖案，也可以不是透明電極圖案，但優(yōu)選為透明電極圖案。

本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置還可以具有(6)導電性要件，其與所述第一透明電極圖案及所述第二透明電極圖案中的至少一方電連接、且與所述第一透明電極圖案及所述第二電極圖案不同。

在此，在所述(4)第二電極圖案不是透明電極圖案且不具有所述(6)其它導電性要件的情況下，所述(3)第一透明電極圖案相當于本發(fā)明的層疊體中的透明電極圖案。

在所述(4)第二電極圖案為透明電極圖案且不具有所述(6)其它導電性要件的情況下，所述(3)第一透明電極圖案及所述(4)第二電極圖案中的至少一個相當于本發(fā)明的層疊體中的透明電極圖案。

在所述(4)第二電極圖案不是透明電極圖案且具有所述(6)其它導電性要件的情況下，所述(3)第一透明電極圖案及所述(6)其它導電性要件中的至少一個相當于本發(fā)明的層疊體中的透明電極圖案。

在所述(4)第二電極圖案為透明電極圖案且具有所述(6)其它導電性要件的情況下，所述(3)第一透明電極圖案、所述(4)第二電極圖案及所述(6)其它導電性要件中的至少一個相當于本發(fā)明的層疊體中的透明電極圖案。

本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置優(yōu)選在所述(3)第一透明電極圖案與所述前面板之間、所述(4)第二電極圖案與所述前面板之間、或者所述(6)其它導電性要件與所述前面板之間還具有(2)透明膜。在此，從進一步改善透明電極圖案的可見性的觀點考慮，優(yōu)選所述(2)透明膜相當于本發(fā)明的層疊體中的折射率為1.6～1.78且膜厚為55～110nm的透明膜。

本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置根據(jù)需要優(yōu)選還具有掩模層和/或裝飾層(1)。為了避免從接觸側可看見透明電極圖案的卷繞配線，或者為了進行裝飾，所述掩模層作為黑色框緣而被設置于用手指或觸控筆等所觸碰區(qū)域的周圍。所述裝飾層為了作為框緣而進行裝飾被設置于用手指或觸控筆等所觸碰區(qū)域的周圍，例如優(yōu)選設置白色裝飾層。

所述(1)掩模層和/或裝飾層優(yōu)選存在于所述(2)透明膜與所述前面板之間、所述(3)第一透明電極圖案與所述前面板之間、所述(4)第二透明電極圖案與所述前面板之間、或者所述(6)其它導電性要件與所述前面板之間。所述(1)掩模層及/或裝飾層更優(yōu)選與所述前面板相鄰設置。

本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置即使在包含這種各種部件的情況下，也通過包含與透明電極圖案相鄰配置的所述第二透明樹脂層和與所述第二透明樹脂層相鄰配置的所述感光性透明樹脂層，能夠使透明電極圖案不明顯，并能夠改善透明電極圖案的可見性的問題。另外，如上所述，通過設為使用所述折射率為1.6～1.78且膜厚為55～110nm的透明膜和所述第二透明樹脂層來夾持透明電極圖案的結構，能夠進一步改善透明電極圖案的可見性的問題。

＜靜電電容型輸入裝置的結構＞

首先，關于本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的優(yōu)選結構，配合構成裝置的各部件的制造方法進行說明。圖1a是表示本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的優(yōu)選結構的剖視圖。圖1a中示出靜電電容型輸入裝置10由透明基板(前面板)1、掩模層2、折射率為1.6～1.78且膜厚為55～110nm的透明膜11、第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4、絕緣層5、導電性要件6、第二透明樹脂層12及感光性透明樹脂層7構成的方式。

并且，表示后述圖3中的x-y剖面的圖1b也同樣是表示本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的優(yōu)選結構的剖視圖。圖1b中示出靜電電容型輸入裝置10由透明基板(前面板)1、折射率為1.6～1.78且膜厚為55～110nm的透明膜11、第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4、第二透明樹脂層12及感光性透明樹脂層7構成的方式。

透明基板(前面板)1能夠使用作為本發(fā)明的層疊體中的透明電極圖案的材料而舉例的材料。并且，在圖1a中，將前面板1的設置有各要件的一側稱作非接觸面?zhèn)?。在本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置10中，通過用手指等接觸于前面板1的接觸面(與非接觸面相反的面)等而進行輸入。

并且，在前面板1的非接觸面上設置有掩模層2。掩模層2為在觸摸面板前面板的非接觸面?zhèn)刃纬傻娘@示區(qū)域周圍的框緣狀圖案，是為了避免看見卷繞配線等而形成的。

如圖2所示，在靜電電容型輸入裝置10中，以包覆前面板1的一部分區(qū)域(圖2中為輸入面以外的區(qū)域)的方式設置有掩模層2。另外，在前面板1上，如圖2所示在局部能夠設置開口部8。在開口部8能夠設置按壓式機械開關。

在前面板1的非接觸面上形成有：多個第一透明電極圖案3，由多個焊盤部分經(jīng)由連接部分在第一方向上延伸形成；多個第二透明電極圖案4，與第一透明電極圖案3電絕緣，并包括在與第一方向交叉的方向上延伸形成的多個焊盤部分；絕緣層5，將第一透明電極圖案3和第二透明電極圖案4進行電絕緣。所述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4及后述導電性要件6能夠使用作為本發(fā)明的層疊體中的透明電極圖案的材料而舉例的材料，優(yōu)選為ito膜。

并且，第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4中的至少一方能夠橫跨前面板1的非接觸面及掩模層2的與前面板1相反側的一面這兩個區(qū)域而設置。圖1a中示出第二透明電極圖案橫跨前面板1的非接觸面及掩模層2的與前面板1相反側的一面這兩個區(qū)域而設置的圖。

如此，在橫跨需要一定厚度的掩模層和前面板的非接觸面而層壓感光性薄膜的情況下，通過使用具有后述特定的層結構的感光性薄膜，即使不使用真空層壓機等昂貴的設備，也可以以簡單的工序進行在掩模部分邊界不產(chǎn)生氣泡的層壓。

利用圖3對第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4進行說明。圖3是表示本發(fā)明中的第一透明電極圖案及第二透明電極圖案的一例的說明圖。如圖3所示，第一透明電極圖案3是通過焊盤部分3a經(jīng)由連接部分3b在第一方向c上延伸而形成的。并且，第二透明電極圖案4通過絕緣層5而與第一透明電極圖案3電絕緣，由在與第一方向交叉的方向(圖3中的第二方向d)上延伸形成的多個焊盤部分構成。在此，在形成第一透明電極圖案3的情況下，可以將所述焊盤部分3a和連接部分3b制作成一體，也可以僅制作連接部分3b，并將焊盤部分3a和第二透明電極圖案4制作(圖案化)成一體。在將焊盤部分3a和第二透明電極圖案4制作(圖案化)成一體的情況下，如圖3所示，以連接部分3b的一部分與焊盤部分3a的一部分被連結且第一透明電極圖案3與第二透明電極圖案4通過絕緣層5被電絕緣的方式形成各層。

并且，圖3中的未形成有第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4、后述導電性要件6的區(qū)域，相當于本發(fā)明的層疊體中的非圖案區(qū)域22。

在圖1a中，在掩模層2的與前面板1相反側的一面?zhèn)仍O置有導電性要件6。導電性要件6與第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4中的至少一方電連接，且為與第一透明電極圖案3及第二透明電極圖案4不同的要件。

圖1a中示出導電性要件6連接于第二透明電極圖案4的圖。

并且，在圖1a中，以包覆各構成要件整體的方式設置有感光性透明樹脂層7。感光性透明樹脂層7也可以以僅包覆各構成要件的一部分的方式構成。絕緣層5和感光性透明樹脂層7可以是相同的材料，也可以是不同的材料。作為構成絕緣層5的材料，能夠優(yōu)選使用作為本發(fā)明的層疊體中的第一透明樹脂層或第二透明樹脂層的材料而例舉的材料。

＜靜電電容型輸入裝置的制造方法＞

作為在制造本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置的過程中形成的方式例，能夠舉出圖4～圖8的方式。圖4是表示形成有開口部8的由強化玻璃構成的透明的前面板1的一例的俯視圖。圖5是表示形成有掩模層2的前面板的一例的俯視圖。圖6是表示形成有第一透明電極圖案3的前面板的一例的俯視圖。圖7是表示形成有第一透明電極圖案3和第二透明電極圖案4的前面板的一例的俯視圖。圖8是表示形成有與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案不同的導電性要件6的前面板的一例的俯視圖。這些是表示將以下說明進行具體化的例子的圖，本發(fā)明的范圍并不會被這些附圖限定地解釋。

在靜電電容型輸入裝置的制造方法中，在形成所述第二透明樹脂層12及所述感光性透明樹脂層7的情況下，能夠使用本發(fā)明的轉印薄膜，通過在任意地形成有各要件的所述前面板1的表面轉印所述第二透明樹脂層及所述感光性透明樹脂層而能夠形成。

在靜電電容型輸入裝置的制造方法中，掩模層2、第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4、絕緣層5及導電性要件6中的至少一個要件，優(yōu)選使用依次具有臨時支撐體和光固化性樹脂層的所述感光性薄膜而形成。

若使用本發(fā)明的轉印薄膜或所述感光性薄膜來形成所述各要件，則在具有開口部的基板(前面板)上也不會從開口部分泄漏抗蝕劑成分。尤其在需要將遮光圖案形成至前面板的邊界線正上方為止的掩模層上，抗蝕劑成分不會從玻璃端部溢出(泄漏)，因此可抑制污染前面板背面?zhèn)?。因此能夠以簡單的工序制造薄層化及輕量化的觸摸面板。

在使用所述感光性薄膜來形成使用所述掩模層、絕緣層、導電性光固化性樹脂層時的第一透明電極圖案、第二透明電極圖案及導電性要件等永磁材料的情況下，將感光性薄膜層壓于基材之后，根據(jù)需要，也可以以圖案樣式進行曝光，在負型材料的情況下，將非曝光部分進行顯影處理而去除，在正型材料的情況下，將曝光部分進行顯影處理而去除，由此能夠獲得圖案?？梢苑謩e用不同的顯影液將熱塑性樹脂層和光固化性樹脂層進行顯影，也可以用相同的顯影液進行去除。根據(jù)需要，可以將刷子、高壓噴射器等公知的顯影設備進行組合。在顯影之后，根據(jù)需要，也可以進行后曝光、后烘干等。

(感光性薄膜)

關于在制造本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置時優(yōu)選使用的、除了本發(fā)明的轉印薄膜以外的所述感光性薄膜進行說明。所述感光性薄膜具有臨時支撐體和光固化性樹脂層，優(yōu)選在臨時支撐體與光固化性樹脂層之間具有熱塑性樹脂層。若使用具有所述熱塑性樹脂層的感光性薄膜來形成掩模層等，則在將光固化性樹脂層進行轉印而形成的要件中不易產(chǎn)生氣泡。由此，在圖像顯示裝置中不易產(chǎn)生圖像不均等，能夠獲得優(yōu)異的顯示特性。

所述感光性薄膜可以是正型材料，也可以是負型材料。

-光固化性樹脂層以外的層、制作方法-

作為所述感光性薄膜中的所述臨時支撐體及所述熱塑性樹脂層，能夠分別使用與在本發(fā)明的轉印薄膜中所使用的相同的臨時支撐體及熱塑性樹脂層。并且，作為所述感光性薄膜的制作方法，也能夠使用與轉印薄膜的制造方法相同的方法。

-光固化性樹脂層-

所述感光性薄膜可以根據(jù)其用途對光固化性樹脂層添加添加物。即，在形成掩模層時使用所述感光性薄膜的情況下，使光固化性樹脂層中含有著色劑。并且，在所述感光性薄膜具有導電性光固化性樹脂層的情況下，所述光固化性樹脂層中含有導電性纖維等。

在所述感光性薄膜為負型材料的情況下，優(yōu)選光固化性樹脂層含有堿溶性樹脂、聚合性化合物及聚合引發(fā)劑或聚合引發(fā)體系。還可以使用導電性纖維、著色劑及其它添加劑等，但并不限定于此。

--堿溶性樹脂、聚合性化合物、所述聚合引發(fā)劑或聚合引發(fā)體系--

作為所述感光性薄膜中所包含的堿溶性樹脂、聚合性化合物、所述聚合引發(fā)劑或聚合引發(fā)體系，能夠使用與本發(fā)明的轉印薄膜中所使用的相同的堿溶性樹脂、聚合性化合物或聚合引發(fā)劑或聚合引發(fā)體系。

--導電性纖維(用作導電性光固化性樹脂層的情況)--

將層疊有所述導電性光固化性樹脂層的所述感光性薄膜，在形成透明電極圖案或其它導電性要件時進行使用的情況下，能夠將以下導電性纖維等使用于光固化性樹脂層中。

作為導電性纖維的結構并無特別的限制，根據(jù)目的，能夠適當?shù)剡M行選擇，優(yōu)選實心結構及中空結構中的任意結構。

在此，有時將實心結構的纖維稱作“線”，將中空結構的纖維稱作“管”。并且，有時將平均短軸長度為1nm～1,000nm且平均長軸長度為1μm～100μm的導電性纖維稱作“納米線”。

并且，有時將平均短軸長度為1nm～1,000nm、平均長軸長度為0.1μm～1,000μm且具有中空結構的導電性纖維稱作“納米管”。

作為所述導電性纖維的材料，只要具有導電性就無特別的限制，根據(jù)目的，能夠適當?shù)剡M行選擇，優(yōu)選金屬及碳中的至少任一種，其中，所述導電性纖維尤其優(yōu)選金屬納米線、金屬納米管及碳納米管中的至少任一種。

作為所述金屬納米線的材料并無特別的限制，例如優(yōu)選選自包括長周期表(theinternationalunionofpureandappliedchemistry(iupac)1991)的第4周期、第5周期及第6周期的組的至少一種金屬，更優(yōu)選選自第2族～第14族的至少一種金屬，進一步優(yōu)選選自包括第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、第13族及第14族的組的至少一種金屬，尤其優(yōu)選作為主要成分而包含。

作為所述金屬可以舉出例如銅、銀、金、鉑金、鈀、鎳、錫、鈷、銠、銥、鐵、釕、鋨、錳、鉬、鎢、鈮、鉭、鈦、鉍、銻、鉛及它們的合金等。其中，從導電性優(yōu)異的方面考慮，優(yōu)選主要含有銀，或者優(yōu)選含有銀和銀以外金屬的合金。

“主要含有銀”是指在金屬納米線中含有銀50質量％以上，優(yōu)選含有90質量％以上。

作為以與銀的合金而使用的金屬，可以舉出鉑金、鋨、鈀及銥等。這些可以單獨使用一種，也可以并用兩種以上。

所述金屬納米線的形狀并無特別的限制，根據(jù)目的，能夠適當?shù)剡M行選擇，例如能夠采用圓柱狀、長方體狀、剖面呈多邊形的柱狀等任意的形狀。但在需要高透明性的用途中，優(yōu)選為圓柱狀、剖面的多邊形的角呈圓角的剖面形狀。

在基材上涂布金屬納米線水分散液，并通過透射電子顯微鏡(transmissionelectronmicroscope；tem)來觀察剖面，從而能夠檢查所述金屬納米線的剖面形狀。

所述金屬納米線的剖面的角是指，將剖面的各個邊進行延長，與從相鄰的邊下垂的垂線相交的點的周邊部。并且，“剖面的各個邊”是指連結這些相鄰的角和角的直線。該情況下，將相對于所述“剖面的各個邊”的合計長度的所述“剖面的外周長度”的比率設為銳度。例如，如圖9所示的金屬納米線剖面中，銳度能夠由用實線表示的剖面的外周長度與用虛線表示的五邊形的外周長度的比例來表示。該銳度為75％以下的剖面形狀定義為圓角的剖面形狀。所述銳度優(yōu)選為60％以下，更優(yōu)選為50％以下。若所述銳度超過75％，則因殘留黃色等而會導致透明性變差。可以推測這是因為角部局部存在電子，且等離子吸收增加。并且，圖案的邊緣部的線性降低，會導致產(chǎn)生振動。所述銳度的下限優(yōu)選為30％，更優(yōu)選為40％。

作為所述金屬納米線的平均短軸長度(有時稱作“平均短軸直徑”、“平均直徑”)，優(yōu)選為150nm以下，更優(yōu)選為1nm～40nm，進一步優(yōu)選為10nm～40nm，尤其優(yōu)選為15nm～35nm。

若所述平均短軸長度小于1nm，則抗氧化性變差，有可能耐久性變差，若超過150nm，則產(chǎn)生由金屬納米線引起的散射，無法獲得充分的透明性。

利用透射電子顯微鏡(tem；jeolltd.制造，jem-2000fx)觀察300個金屬納米線，由其平均值求出所述金屬納米線的平均短軸長度。

另外，關于所述金屬納米線的短軸為在非圓形情況下的短軸長度，將最長的作為短軸長度。

作為所述金屬納米線的平均長軸長度(有時稱作“平均直徑”)，優(yōu)選為1μm～40μm，更優(yōu)選為3μm～35μm，進一步優(yōu)選為5μm～30μm。

若所述平均長軸長度小于1μm，則不易形成稠密的網(wǎng)絡，有時無法獲得充分的導電性，若超過40μm，則因金屬納米線過長而制造時纏結，有時在制造過程中會生成凝聚物。

例如使用透射電子顯微鏡(tem；jeolltd.制造，jem-2000fx)觀察300個金屬納米線，由其平均值求出所述金屬納米線的平均長軸長度。另外，在所述金屬納米線彎曲的情況下，將其考慮為呈弧形的圓，將由其半徑及曲率算出的值作為長軸長度。

從涂布液的穩(wěn)定性、涂布時的干燥、形成圖案時的顯影時間等工藝適性的觀點考慮，導電性光固化性樹脂層的層厚優(yōu)選為0.1～20μm，更優(yōu)選為0.5～18μm，進一步優(yōu)選為1～15μm。

從導電性和涂布液的穩(wěn)定性的觀點考慮，相對于所述導電性光固化性樹脂層的總固體成分，所述導電性纖維的含量優(yōu)選為0.01～50質量％，進一步優(yōu)選為0.05～30質量％，尤其優(yōu)選為0.1～20質量％。

--著色劑(用作掩模層的情況)--

并且，在將所述感光性薄膜用作掩模層的情況下，能夠將著色劑使用于光固化性樹脂層中。作為本發(fā)明中所使用的著色劑，能夠適宜地使用公知的著色劑(有機顏料、無機顏料、染料等)。另外，在本發(fā)明中，除了黑色著色劑以外，還能夠使用紅色、藍色、綠色等顏料的混合物等。

將所述光固化性樹脂層用作黑色掩模層的情況下，從光學濃度的觀點考慮，優(yōu)選含有黑色著色劑。作為黑色著色劑，可以舉出例如炭黑、鈦黑、氧化鐵、氧化鈦、黑鉛等，其中，優(yōu)選炭黑。

將所述光固化性樹脂層用作白色掩模層的情況下，能夠使用日本特開2005-7765公報的0015或0114段落中所記載的白色顏料。為了用作其它顏色的掩模層，也可以混合日本專利第4546276號公報的0183～0185段落等中所記載的顏料或染料而使用。具體而言，能夠適宜地使用日本特開2005-17716號公報的0038～0054段落中所記載的顏料及染料、日本特開2004-361447號公報的0068～0072段落中所記載的顏料、日本特開2005-17521號公報的0080～0088段落中所記載的著色劑等。

所述著色劑(優(yōu)選為顏料，更優(yōu)選為炭黑)優(yōu)選作為分散液而使用。該分散液通過將預先混合所述著色劑和顏料分散劑而得到的組合物添加到后述有機溶劑(或媒介物)中使其分散而能夠制備。所述媒介物是指涂料處于液體狀態(tài)時使顏料分散的介質部分，包含呈液態(tài)且與所述顏料結合而形成涂膜的成分(粘合劑)和將其進行溶解稀釋的成分(有機溶劑)。

使所述顏料分散時所使用的分散機并無特別的限制，可以舉出例如在朝倉邦造著、“顏料辭典”、第一版、朝倉書店、2000年、438項中記載的捏合機、輥磨機、磨碎機、超級研磨機、溶解器、均質混合器、砂磨機及珠磨機等公知的分散機。

另外，通過該文獻310頁所記載的機械磨碎，可以利用摩擦力進行微粉碎。

從分散穩(wěn)定性的觀點考慮，所述著色劑優(yōu)選為數(shù)均粒徑為0.001μm～0.1μm的著色劑，進一步優(yōu)選為0.01μm～0.08μm的著色劑。另外，在此所謂“粒徑”是指將粒子的電子顯微鏡照片圖像設為相同面積的圓時的直徑，并且“數(shù)均粒徑”是指求出多個粒子的所述粒徑，其中，任意選擇的100個粒徑的平均值。

從與其它層的厚度差的觀點考慮，包含著色劑的光固化性樹脂層的層厚優(yōu)選為0.5～10μm，進一步優(yōu)選為0.8～5μm，尤其優(yōu)選為1～3μm。所述著色感光性樹脂組合物的固體成分中的著色劑的含有率并無特別的限制，但從充分地縮短顯影時間的觀點考慮，優(yōu)選為15～70質量％，更優(yōu)選為20～60質量％，進一步優(yōu)選為25～50質量％。

在本說明書中所說的總固體成分是指從著色感光性樹脂組合物中去除溶劑等的不揮發(fā)成分的總質量。

另外，在使用所述感光性薄膜而形成絕緣層的情況下，從維持絕緣性的觀點考慮，光固化性樹脂層的層厚優(yōu)選為0.1～5μm，進一步優(yōu)選為0.3～3μm，尤其優(yōu)選為0.5～2μm。

--其它添加劑--

而且，上述光固化性樹脂層也可以使用其它添加劑。作為所述添加劑，能夠使用與本發(fā)明的轉印薄膜中所使用的相同的添加劑。

并且，作為通過涂布而制造所述感光性薄膜時的溶劑，能夠使用與本發(fā)明的轉印薄膜中所使用的相同的溶劑。

以上，以所述感光性薄膜為負型材料的情況為中心進行了說明，但所述感光性薄膜也可以是正型材料。在所述感光性薄膜為正型材料的情況下，光固化性樹脂層中可以使用例如在日本特開2005-221726號公報中所記載的材料等，但并不限定于此。

(基于感光性薄膜的掩模層、絕緣層的形成)

使用所述感光性薄膜，將光固化性樹脂層轉印到前面板1等，從而能夠形成所述掩模層2及絕緣層5。例如在形成黑色掩模層2的情況下，能夠使用具有黑色光固化性樹脂層作為所述光固化性樹脂層的所述感光性薄膜，通過將所述黑色光固化性樹脂層轉印到所述前面板1的表面而形成。在形成絕緣層5的情況下，能夠使用具有絕緣性光固化性樹脂層作為所述光固化性樹脂層的所述感光性薄膜，通過將所述光固化性樹脂層轉印到形成有第一透明電極圖案的所述前面板1的表面而形成。

而且，在形成需要遮光性的掩模層2時，使用具有在光固化性樹脂層與臨時支撐體之間具有熱塑性樹脂層的特定的層結構的所述感光性薄膜，從而防止在感光性薄膜層壓時產(chǎn)生氣泡，并能夠形成無漏光的高品質的掩模層2等。

(基于感光性薄膜的第一透明電極圖案及第二透明電極圖案、其它導電性要件的形成)

所述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4及其它導電性要件6能夠利用蝕刻處理或具有導電性光固化性樹脂層的所述感光性薄膜，或者將感光性薄膜作為剝離材料進行使用而形成。

-蝕刻處理-

在通過蝕刻處理而形成所述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4及其它導電性要件6的情況下，首先，在形成有掩模層2等的前面板1的非接觸面上，通過濺射而形成ito等透明電極層。接著，在所述透明電極層上，使用具有蝕刻用光固化性樹脂層作為所述光固化性樹脂層的所述感光性薄膜，通過曝光/顯影而形成蝕刻圖案。之后，對透明電極層進行蝕刻而將透明電極圖案化，并去除蝕刻圖案，由此能夠形成第一透明電極圖案3等。

在將所述感光性薄膜用作蝕刻抗蝕劑(蝕刻圖案)的情況下，也能夠以與所述方法相同的方式獲得抗蝕劑圖案。至于所述蝕刻，通過在日本特開2010-152155公報的0048～0054段落等中所記載的公知的方法而能夠適用蝕刻、抗蝕劑剝離。

例如，作為蝕刻方法可以舉出通常進行的、浸漬于蝕刻液中的濕式蝕刻法。至于濕式蝕刻中所使用的蝕刻液，配合蝕刻對象而適當?shù)剡x擇酸性類型的蝕刻液或堿性類型的蝕刻液即可。作為酸性類型的蝕刻液，可以例示出鹽酸、硫酸、氟酸、磷酸等單獨酸性成分的水溶液，酸性成分和三氯化鐵、氟化銨、高錳酸鉀等鹽的混合水溶液等。酸性成分可以使用組合多個酸性成分的酸性成分。并且，作為堿性類型的蝕刻液，可以例示出氫氧化鈉、氫氧化鉀、氨、有機胺、四甲基氫氧化銨之類的有機胺的鹽等單獨堿性成分的水溶液，堿性成分和高錳酸鉀等鹽的混合水溶液等。堿性成分可以使用組合多種堿性成分的堿性成分。

蝕刻液的溫度并無特別限定，但優(yōu)選45℃以下。在本發(fā)明中作為蝕刻掩模(蝕刻圖案)而使用的樹脂圖案是通過使用上述光固化性樹脂層而形成的，因此對這種溫度區(qū)域中的酸性及堿性的蝕刻液發(fā)揮尤其優(yōu)異的耐性。從而，防止在蝕刻工序中樹脂圖案被剝離，不存在樹脂圖案的部分被選擇性地蝕刻。

在所述蝕刻之后，為了防止生產(chǎn)線的污染，根據(jù)需要，也可以進行清洗工序/干燥工序。關于清洗工序，例如在常溫下通過純水經(jīng)10～300秒鐘清洗臨時支撐體，關于干燥工序，使用鼓風來適當?shù)卣{整鼓風壓(0.1～5kg/cm²左右)而進行即可。

作為樹脂圖案的剝離方法并無特別限定，例如可以舉出在30～80℃，優(yōu)選在50～80℃下將臨時支撐體經(jīng)5～30分鐘浸漬于攪拌中的剝離液的方法。在本發(fā)明中，作為蝕刻掩模而使用的樹脂圖案，如上所述，在45℃以下顯示出優(yōu)異的耐化學性，若藥液溫度成為50℃以上，則顯示出通過堿性剝離液而溶脹的性質。根據(jù)這種性質，若使用50～80℃的剝離液進行剝離工序，則具有工序時間縮短且樹脂圖案的剝離殘渣減少的優(yōu)點。即，通過在所述蝕刻工序與剝離工序之間設置藥液溫度差，在本發(fā)明中作為蝕刻掩模而使用的樹脂圖案在蝕刻工序中發(fā)揮良好的耐化學性，并且，在剝離工序中顯示出良好的剝離性。如此，能夠均滿足耐化學性和剝離性這兩種相反的特性。

作為剝離液，可以舉出例如將氫氧化鈉、氫氧化鉀等無機堿性成分、叔胺、季銨鹽等有機堿性成分溶解于水、二甲基亞砜、n-甲基吡咯烷酮或它們的混合溶液中的剝離液。也可以使用所述剝離液，并通過噴霧法、噴淋法、旋覆浸沒式法等進行剝離。

-具有導電性光固化性樹脂層的感光性薄膜-

使用具有導電性光固化性樹脂層的所述感光性薄膜而形成所述第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4及其它導電性要件6的情況下，能夠通過將所述導電性光固化性樹脂層轉印到所述前面板1的表面而形成。

若使用具有所述導電性光固化性樹脂層的感光性薄膜來形成所述第一透明電極圖案3等，則在具有開口部的基板(前面板)上，也不會從開口部分泄漏抗蝕劑成分，且不會污染基板背面?zhèn)龋軌蛞院唵蔚墓ば蛑圃炀哂斜?輕量化的優(yōu)點的觸摸面板。

而且，在形成第一透明電極圖案3等時，使用具有在導電性光固化性樹脂層與臨時支撐體之間具有熱塑性樹脂層的特定的層結構的所述感光性薄膜，由此防止在感光性薄膜層壓時產(chǎn)生氣泡，并能夠形成導電性優(yōu)異且電阻小的第一透明電極圖案3、第二透明電極圖案4及其它導電性要件6。

-感光性薄膜作為剝離材料的使用-

并且，也能夠將所述感光性薄膜用作剝離材料而形成第一透明電極層、第二透明電極層及其它導電性部件。

該情況下，在使用所述感光性薄膜而進行圖案化之后，且在臨時支撐體整面形成透明導電層之后，對所堆積的每一個透明導電層進行所述光固化性樹脂層的溶解和去除，從而能夠獲得所希望的透明導電層圖案(剝離法)。

＜圖像顯示裝置＞

本發(fā)明的靜電電容型輸入裝置及將該靜電電容型輸入裝置作為構成要件而具備的圖像顯示裝置，能夠適用“最新觸摸面板或技術”(2009年7月6日發(fā)行，technotimesco.,ltd.)、三谷雄二監(jiān)修、“觸摸面板的技術和開發(fā)”、cmc出版(2004，12)、fpdinternational2009forumt-11講座教材、cypresssemiconductorcorporation應用筆記an2292等中所公開的結構。

實施例

以下，例舉實施例對本發(fā)明進行進一步具體的說明。以下實施例中示出的材料、使用量、比例、處理內(nèi)容、處理順序等，只要不脫離本發(fā)明的主旨就能夠適當?shù)剡M行變更。從而，本發(fā)明的范圍并不限定于以下所示的具體例。另外，若無特別說明，“份”、“％”為質量基準。

[實施例1～13及比較例1～5]

[1.涂布液的制備]

＜感光性透明樹脂層用涂布液的制備＞

以成為以下表1所示的組成的方式，制備出作為感光性透明樹脂層用涂布液的材料a-1～a-10。

[化學式4]

[化學式5]

[化學式6]

[化學式7]

＜解離溫度的測定＞

各實施例中所使用的封閉型異氰酸酯的解離溫度，在由差示掃描量熱儀(seikoinstrumentsinc.制造，dsc6200)通過dsc分析而測定的情況下，設為伴隨封閉型異氰酸酯的脫保護反應的吸熱峰的溫度。將所得到的結果記載于下述表4中。

＜第二透明樹脂層用的涂布液的制備＞

接著，以成為如下表2的組成的方式，制備出作為第二透明樹脂層用涂布液的材料b-1～b-2。

[表2]

[2.轉印薄膜的制作]

作為臨時支撐體，準備了膜厚為16μm的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜。該臨時支撐體上，以干燥后的感光性透明樹脂層的膜厚成為表4中所記載的膜厚的方式，一邊調整涂布量，一邊從狹縫狀噴嘴吐出感光性透明樹脂層用材料a-1～a-10中的任一種，從而形成了感光性透明樹脂層。接著，在120℃的干燥區(qū)使溶劑揮發(fā)之后，以干燥后的膜厚成為0.1μm的膜厚的方式，一邊調整涂布量，一邊從狹縫狀噴嘴吐出材料b-1及b-2中的任一種。之后，使其干燥而形成了第二透明樹脂層。

[3.在層疊體制作中使用的透明電極圖案薄膜的制作]

＜透明膜的形成＞

準備了膜厚為38μm且折射率為1.53的環(huán)烯烴樹脂薄膜。使用高頻振蕩器，對該環(huán)烯烴樹脂薄膜進行了表面改性。使用直徑為1.2mm的金屬線電極，在電極長度240mm、工作電極間隔1.5mm、輸出電壓100％、功率250w、處理時間3秒鐘的條件下，通過進行電暈放電處理處理而進行表面改性。將所得到的薄膜設為透明薄膜基板。

接著，在透明薄膜基板上，從狹縫狀噴嘴吐出下述表3中所示的材料-c的材料而進行了涂布。之后，對其進行紫外線照射(累計光量300mj/cm²)，并以約110℃進行了干燥。由此，形成了折射率為1.60、膜厚為80nm的透明膜。

[表3]

另外，說明書中的“wt％”與“質量％”的含義相同。

式(3)

[化學式8]

＜透明電極圖案的形成＞

將形成有透明膜的基板導入到真空腔室內(nèi)，使用sno2含有率為10質量％的ito靶(銦:錫＝95:5(摩爾比))進行dc磁控濺射(條件：透明薄膜基板的溫度為150℃、氬氣壓力為0.13pa、氧氣壓力為0.01pa)，從而形成了ito薄膜。該ito薄膜的厚度為40nm、折射率為1.82、表面電阻為80ω/□(ω毎平方面積)。由此，得到形成有透明電極層的基板。

(蝕刻用感光性薄膜e1的制備)

作為臨時支撐體，準備了厚度為75μm的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜。在該臨時支撐體上，使用狹縫狀噴嘴來涂布以下述配方h1構成的熱塑性樹脂層用涂布液并使其干燥，從而形成了熱塑性樹脂層。

接著，在該熱塑性樹脂層上，涂布由下述配方p1構成的中間層用涂布液并使其干燥，從而形成了中間層(阻氧膜)。

接著，在該中間層上，涂布由下述配方e1構成的蝕刻用光固化性樹脂層用涂布液并使其干燥，從而形成了蝕刻用光固化性樹脂層。

如此，在臨時支撐體上得到包括干燥膜厚為15.1μm的熱塑性樹脂層、干燥膜厚為1.6μm的中間層、及膜厚為2.0μm的蝕刻用光固化性樹脂層的層疊體。而且，在蝕刻用光固化性樹脂層上壓接了保護膜(厚度為12μm的聚丙烯薄膜)。如此制作出臨時支撐體、熱塑性樹脂層、中間層及蝕刻用光固化性樹脂層成為一體的蝕刻用感光性薄膜e1。

-蝕刻用光固化性樹脂層用涂布液：配方e1-

·甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/甲基丙烯酸共聚物

(共聚物組成(質量％)：31/40/29、重均分子量60000、酸值163mgkoh/g)：16質量份

·單體1(商品名稱：bpe-500、shin-nakamurachemicalco.,ltd.制造)：5.6質量份

·六亞甲基二異氰酸酯的四氧化乙烯單甲基丙烯酸酯0.5摩爾加成物：7質量份

·作為分子中具有一個聚合性基團的化合物的環(huán)己烷二甲醇單丙烯酸酯：2.8質量份

·2-氯-n-丁基吖啶酮：0.42質量份

·2,2-雙(鄰氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基聯(lián)咪唑：2.17質量份

·孔雀綠草酸鹽：0.02質量份

·無色結晶紫：0.26質量份

·吩噻嗪：0.013質量份

·表面活性劑(商品名稱：megafacf-780f、diccorporation制造)：0.03質量份

·甲乙酮：40質量份

·1-甲氧基-2-丙醇：20質量份

另外，蝕刻用光固化性樹脂層用涂布液e1的去除溶劑后的100℃的粘度為2500pa·sec。

-熱塑性樹脂層用涂布液：配方h1-

·甲醇：11.1質量份

·丙二醇單甲醚乙酸酯：6.36質量份

·甲乙酮：52.4質量份

·甲基丙烯酸甲酯/2-乙基己基丙烯酸酯/甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物(共聚合組成比(摩爾比)＝55/11.7/4.5/28.8，分子量＝10萬，glasstransitiontemperature(玻璃化轉變溫度)(tg)≈70℃)：5.83質量份

·苯乙烯/丙烯酸共聚物(共聚合組成比(摩爾比)＝63/37，重均分子量＝1萬，tg≈100℃)：13.6質量份

·單體1(商品名稱：bpe-500，shin-nakamurachemicalco.,ltd.制造)：9.1質量份

·氟類聚合物：0.54質量份

上述氟類聚合物為c6f13ch2ch2ococh＝ch240份、h(och(ch3)ch2)7ococh＝ch255份及h(ochch2)7ococh＝ch25份的共聚物，重均分子量為3萬，甲乙酮30質量％的溶液(商品名稱：megafacf780f，diccorporation制造)

-中間層用涂布液：配方p1-

·聚乙烯醇：32.2質量份

(商品名稱：pva205，kurarayco.,ltd制造，皂化度＝88％，聚合度550)

·聚乙烯吡咯烷酮：14.9質量份

(商品名稱：k-30、ispjapanltd.制造)

·蒸餾水：524質量份

·甲醇：429質量份

(透明電極圖案的形成)

將形成有透明電極層的基板進行了清洗。將去除保護膜的蝕刻用感光性薄膜e1，以蝕刻光用固化性樹脂層與透明電極層對置的方式進行了層壓。層壓條件設為基板溫度：130℃、橡膠輥溫度：120℃、線壓：100n/cm、輸送速度：2.2m/分鐘。接著，從蝕刻用感光性薄膜e1剝離了臨時支撐體。之后，以與蝕刻用光固化性樹脂層之間的距離成為200μm的方式設置曝光掩模，以曝光量50mj/cm²(i射線)進行了圖案曝光。該曝光掩模由石英構成，具有所希望的透明電極圖案。

其次，對已進行曝光的基板，使用三乙醇胺類顯影液(用純水將含有三乙醇胺30質量％的商品名稱：t-pd2(fujifilmcorporation制造)稀釋為10倍的溶液)，在25℃下進行了100秒鐘的顯影處理。接著，使用含有表面活性劑的清洗液(用純水將商品名稱：t-sd3(fujifilmcorporation制造)稀釋為10倍的溶液)，在33℃下進行了20秒鐘的處理。之后，一邊用旋轉刷進行擦拭，一邊從超高壓清洗噴嘴噴射超純水，由此去除了殘渣。接著，進行了130℃、30分鐘的后烘干處理。如此在透明電極層上形成了蝕刻光固化性樹脂層圖案。

接著，將該基板在加入了ito蝕刻劑(鹽酸、氯化鉀水溶液、液溫30℃)的蝕刻槽中浸漬100秒鐘進行了蝕刻處理。由此，去除了透明電極層中未被蝕刻用光固化性樹脂層包覆的露出區(qū)域。如此形成了電極圖案。

其次，將該基板在加入了抗蝕劑剝離液(n-甲基-2-吡咯烷酮、一乙醇胺、表面活性劑(商品名稱：surfynol465、airproductsandchemicals,inc.制造)、液溫45℃)的抗蝕劑剝離槽中浸漬200秒鐘，進行剝離處理，從而去除了蝕刻用光固化性樹脂層。由此，得到在透明薄膜基板上形成有透明膜及透明電極圖案(靜電電容型輸入裝置的電極)的薄膜(以下，有時稱作“包括靜電電容型輸入裝置的電極的基板”)。

[4.各實施例及比較例的層疊體的制作]

在包括靜電電容型輸入裝置的電極的基板上，轉印了剝離出保護膜的各實施例及比較例的轉印薄膜。此時，以轉印薄膜的第二透明樹脂層包覆透明膜和透明電極圖案(靜電電容型輸入裝置的電極)的方式，依次轉印了第二透明樹脂層、感光性透明樹脂層及臨時支撐體。轉印條件設為透明薄膜基板溫度：40℃、橡膠輥溫度：110℃、線壓：3n/cm、輸送速度；2m/分鐘。

之后，使用具有超高壓汞燈的接近型曝光機(hitachihigh-techelectronicsengineeringco.,ltd.制造)，通過臨時支撐體對所述轉印薄膜進行了圖案曝光。此時，作為曝光掩模而使用具有外涂層形成用圖案的石英曝光掩模，將該曝光掩模與臨時支撐體之間的距離設為125μm，設為曝光量100mj/cm²(i射線)。

在剝離臨時支撐體之后，以純堿2％水溶液、32℃進行了60秒鐘的清洗處理。從超高壓清洗噴嘴對清洗處理后的透明薄膜基板噴射超純水，從而去除了殘渣。接著，噴吹空氣而去除透明薄膜基板上的水分，進行145℃、30分鐘的加熱(后烘干)處理。由此，得到在透明薄膜基板上，透明膜、透明電極圖案(靜電電容型輸入裝置的電極)、第二透明樹脂層及感光性透明樹脂層依次連續(xù)的層疊體。

[轉印薄膜的評價]

＜賦予鹽水后的耐濕熱性的評價＞

層疊有銅箔(靜電電容型輸入裝置的電極的代用)的pet薄膜(geomatecco.,ltd.制造)上，轉印了剝離出保護膜的各實施例及比較例的轉印薄膜。以與轉印到在透明薄膜基板上形成有透明膜及透明電極圖案的薄膜的方法相同的方法，轉印第二透明樹脂層及感光性透明樹脂層，實施后處理(臨時支撐體的剝離、顯影、后烘干等)而得到試樣。

在試樣的感光性透明樹脂層的膜面上，滴落5cm³的濃度為50g/l的鹽水，使其均均地擴展成50cm²。之后，在常溫下使水分揮發(fā)，在高溫高濕下(85℃、相對濕度85％)經(jīng)過了72小時。之后，擦拭鹽水而觀察試樣的表面狀態(tài)，按照以下評分進行了評價。

a或b是實際應用上所需等級，a為優(yōu)選。評價結果記載于下述表4中。

a：在銅、第二透明樹脂層表面及感光性透明樹脂層表面完全沒有變化

b：第二透明樹脂層表面或感光性透明樹脂層表面可看見一些痕跡，但銅無變化。

c：銅變色。

[層疊體的評價]

＜顯影性的評價＞

在包括靜電電容型輸入裝置的電極的基板上，轉印了各實施例的轉印薄膜。之后，使用具有超高壓汞燈的接近型曝光機(hitachihigh-techelectronicsengineeringco.,ltd.制造)，經(jīng)由臨時支撐體對所述轉印薄膜進行了圖案曝光。此時，作為曝光掩模，使用具有外涂層形成用圖案的石英曝光掩模，將該曝光掩模與臨時支撐體之間的距離設為125μm，設為曝光量100mj/cm²(i射線)。

在剝離臨時支撐體之后，以純堿2％水溶液、32℃進行了60秒鐘的清洗處理。之后，通過目測及光學顯微鏡進行了觀察。

a、b或c為實際應用上所需等級，更優(yōu)選為a或b，尤其優(yōu)選為a。將評價結果記載于下述表4中。

《評價基準》

a：通過顯微鏡在未曝光部上也無法確認殘渣。

b：通過目測在未曝光部上無法確認殘渣。

c：通過目測在未曝光部上能夠確認殘渣。

d：在未曝光部上有未顯影的部分，通過目測能夠確認較多的殘渣。

e：無法從基板剝離臨時支撐體，無法評價顯影性。

＜密合性的評價＞

對于在透明薄膜基板上依次層疊有透明膜、透明電極圖案、第二透明樹脂層及感光性透明樹脂層的層疊體，參考japaneseindustrialstandards(jis)標準(k5400)，實施了100個膜片的橫切試驗。具體而言，在層疊體的試驗面上，使用切割刀切入1mm四方的格子圖案的切痕，使透明粘接膠帶#600(3mcompany制造)強力壓接，沿180℃方向進行剝離。之后，觀察格子圖案的狀態(tài)，按照以下評分評價了密合性。優(yōu)選為a、b或c，更優(yōu)選為a或b，尤其優(yōu)選為a。將評價結果記載于下述表4中。

a：總面積的大致100％密合。

b：總面積中95％以上且小于100％密合殘留。

c：總面積中65％以上且小于95％密合殘留。

d：總面積中35％以上且小于65％密合殘留(實際應用上能夠容許)。

e：總面積中密合殘留的部分小于35％。

＜透射率的評價＞

使用在透明薄膜基板上依次層疊有透明膜、透明電極圖案、第二透明樹脂層及感光性透明樹脂層的層疊體，通過ndh4000(nippondenshokuindustriesco.,ltd.制造)測定了在japaneseindustrialstandards(jis)的jisk7361中規(guī)定的視感透射率。將結果記載于下述表4中。

＜透明電極圖案隱蔽性的評價＞

使在透明薄膜基板上依次層疊有透明膜、透明電極圖案、第二透明樹脂層及感光性透明樹脂層的層疊體，經(jīng)由透明粘接膠帶(3mcompany制造，商品名稱，oca膠帶8171cl)而與黑色pet材來粘接，對基板整體進行了遮光。

在暗室中，使用熒光燈(光源)和所制作出的基板，使光從透明薄膜基板面?zhèn)热肷?，從傾斜方向目測觀察來自透明薄膜基板表面的發(fā)射光，從而對透明電極圖案隱蔽性進行了評價。優(yōu)選為a、b或c，更優(yōu)選為a或b，尤其優(yōu)選為a。將評價結果記載于下述表4中。

《評價基準》

a：完全看不見透明電極圖案。

b：稍微看見透明電極圖案，但幾乎看不見。

c：看見透明電極圖案(不易理解)。

d：看見透明電極圖案，在實際應用上能夠容許。

e：清楚地看見透明電極圖案(容易理解)。

由上述表4可知，本發(fā)明的轉印薄膜能夠形成賦予鹽水后的耐濕熱性和顯影性均優(yōu)異的靜電電容型輸入裝置的電極用保護膜。

并且，可知在實施例3～13的第二透明樹脂層中添加了zro2粒子的結構中，第二透明樹脂層的折射率成為1.65，能夠形成透明電極圖案隱蔽性優(yōu)異的靜電電容型輸入裝置的電極用保護膜。

并且，可知在作為實施例1～4及10～13的封閉型異氰酸酯而使用化合物a，且具有乙烯性不飽和基團的光聚合性化合物中的至少一種含有羧基的結構中，能夠形成密合性優(yōu)異的靜電電容型輸入裝置的電極用保護膜。

另一方面，在感光性透明樹脂層中未使用封閉型異氰酸酯的比較例1、3及4中，賦予鹽水后的耐濕熱性差。

使用了酸值不是60mgkoh/g以上的粘合劑聚合物的比較例2及5中，顯影性均差。

并且，利用二維紅外紅外分光光度計fts60a/896(digilabinc.制造)對與透射率測定相同的樣品進行分析的結果，實施例1～13及比較例2、5的層疊體能夠確認羧酸酐的峰，相對于此，在比較例1、3、4中未確認到羧酸酐的峰。

[圖像顯示裝置(觸摸面板)的制作]

在通過日本特開2009-47936號公報的＜0097＞～＜0119＞中所記載的方法制造的液晶顯示元件上，貼合預先制造的各實施例的層疊體，進而，貼合前面玻璃板。如此通過公知的方法制作出包含具備靜電電容型輸入裝置作為構成要件的各實施例的層疊體的圖像顯示裝置。

＜靜電電容型輸入裝置及圖像顯示裝置的評價＞

在實施例1～13的包含層疊體的靜電電容型輸入裝置及圖像顯示裝置中，顯影性和賦予鹽水后的耐濕熱性均優(yōu)異。

在實施例3～13的包含層疊體的靜電電容型輸入裝置及圖像顯示裝置中，不存在可視認透明電極圖案的問題。

關于各實施例的包含層疊體的圖像顯示裝置，可得到在感光性透明樹脂層、第二透明樹脂層上也不存在氣泡等缺陷且顯示特性優(yōu)異的圖像顯示裝置。

符號說明

1-透明基板(前面板)，2-掩模層，3-透明電極圖案(第一透明電極圖案)，3a-焊盤部分，3b-連接部分，4-透明電極圖案(第二透明電極圖案)，5-絕緣層，6-其它導電性要件，7-感光性透明樹脂層(優(yōu)選具有透明保護層的功能)，8-開口部，10-靜電電容型輸入裝置，11-透明膜，12-第二透明樹脂層(可以具有透明絕緣層的功能)，13-層疊體，21-依次層疊有透明電極圖案、第二透明樹脂層及感光性透明樹脂層的區(qū)域，22-非圖案區(qū)域，α-錐角，26-臨時支撐體，27-熱塑性樹脂層，28-中間層，29-保護剝離層(保護膜)，30-轉印薄膜，31-卷繞配線的終端部，33-感光性透明樹脂層與第二透明樹脂層的固化部，34-與卷繞配線的末端部對應的開口部(感光性透明樹脂層與第二透明樹脂層的未固化部)，c-第一方向，d-第二方向。