本發(fā)明涉及電子設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種蓋板保護膜、蓋板組件及電子設(shè)備模組。
背景技術(shù):
現(xiàn)有的電子設(shè)備模組,如手機模組,其蓋板的功能孔(如攝像頭孔)很容易由于保護不當、而導致在運輸和制程過程中造成臟污;進而,手機模組到客戶端后,在整機組裝過程中,一般需要增加蓋板功能孔的清潔工位,以對蓋板進行清潔,從而保證手機組裝時蓋板功能孔的清潔;因此,手機組裝的制程成本較高、且產(chǎn)品時效性較差。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本發(fā)明公開了一種蓋板保護膜、蓋板組件及電子設(shè)備模組,用以保證蓋板功能孔在制程、運輸和使用過程中的保持清潔。
為達到上述目的,本發(fā)明提供以下技術(shù)方案:
一種蓋板保護膜,包括:
保護膜層;
清潔單元,位于所述保護膜層用于接觸蓋板的一側(cè),所述清潔單元可以在受壓時釋放清潔液。
上述蓋板保護膜,由于其保護膜層用于接觸蓋板的一側(cè)設(shè)有清潔單元、且該清潔單元可以在受壓時釋放清潔液,因此,將該蓋板保護膜貼附于蓋板后,可以隨時通過按壓該蓋板保護膜以使其保護膜層與蓋板之間產(chǎn)生清潔液、進而達到對蓋板表面及其功能孔的清潔效果;因此,上述蓋板保護膜可以在整機組裝之前一直貼附于蓋板上,以保證蓋板功能孔在制程、運輸和使用過程中保持清潔。
優(yōu)選地,所述保護膜層包括用于覆蓋蓋板功能孔部位的孔位區(qū)域;所述清潔單元位于所述孔位區(qū)域上;或者,所述清潔單元沿所述孔位區(qū)域的邊緣設(shè)置。
優(yōu)選地,所述清潔單元貼附于所述保護膜層上。
優(yōu)選地,所述清潔單元為內(nèi)部鎖存有清潔液的泡棉或者壓縮棉。
優(yōu)選地,所述清潔液包括酒精。
優(yōu)選地,所述清潔單元具有設(shè)定的抗壓閾值,僅當所述清潔單元受到的壓力大于所述抗壓閾值時,所述清潔單元才釋放出清潔液。
一種蓋板組件,包括蓋板;以及,上述任一技術(shù)方案中所述的蓋板保護膜,所述蓋板保護膜貼附于所述蓋板上。
一種電子設(shè)備模組,包括顯示模組和蓋板;以及,上述任一技術(shù)方案中所述的蓋板保護膜;其中,所述蓋板包括透明的顯示區(qū)域和印刷有油墨的油墨區(qū);所述顯示模組組裝于所述蓋板的顯示區(qū)域上;所述蓋板保護膜貼附于所述蓋板的油墨區(qū)上。
優(yōu)選地,所述蓋板保護膜貼附于所述蓋板印刷有油墨的一側(cè)。
優(yōu)選地,所述電子設(shè)備模組為手機模組。
附圖說明
圖1為本發(fā)明實施例提供的一種蓋板組件的部分結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明實施例提供的一種電子設(shè)備模組的部分結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本發(fā)明實施例提供的一種蓋板保護膜的截面結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖,對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。
請參考圖1~圖3。
如圖1~圖3所示,本發(fā)明實施例提供的一種蓋板保護膜1,包括:
保護膜層11,具體可以采用如pe保護膜層;
清潔單元12,該清潔單元12位于保護膜層11用于接觸蓋板2的一側(cè),具體地,該清潔單元12可以在受壓時釋放清潔液120。
上述蓋板保護膜1,由于其保護膜層11用于接觸蓋板2的一側(cè)設(shè)有清潔單元12、且該清潔單元12可以在受壓時釋放清潔液120,因此,將該蓋板保護膜1貼附于蓋板2后,可以隨時通過按壓該蓋板保護膜1以使其保護膜層11與蓋板2之間產(chǎn)生清潔液120、進而達到對蓋板2表面及其功能孔20的清潔效果;因此,上述蓋板保護膜1可以在整機組裝之前一直貼附于蓋板2上,以保證蓋板2功能孔20在制程、運輸和使用過程中保持清潔。
如圖1~圖3所示,一種具體的實施例中,蓋板保護膜1中,清潔單元12可以為內(nèi)部鎖存有清潔液120的棉類,具體如內(nèi)部鎖存有酒精等清潔液體的泡棉或者壓縮棉;上述泡棉或者壓縮棉在受壓時體積將產(chǎn)生變化并釋放出清潔液體。
如圖1~圖3所示,另一種具體的實施例中,清潔單元12也可以是鎖存有清潔液體的多細胞單元結(jié)構(gòu)體,該多細胞單元結(jié)構(gòu)體中,細胞單元受到壓力容易出現(xiàn)破損并釋放出清潔液體。
如圖1~圖3所示,在上述兩個實施例的基礎(chǔ)上,一種具體的實施例中,清潔單元12可以貼附于保護膜層11上。
如圖1~圖3所示,進一步地,清潔單元12可以呈薄層結(jié)構(gòu)、且沿保護膜層11延展;進而,該清潔單元12即可以與蓋板2充分接觸、又可以避免導致保護膜層11與蓋板2之間的間隙過大而無法實現(xiàn)貼附;可選地,清潔單元12的厚度可以為0.2mm-2mm。
如圖1和圖2所示,在上述各實施例的基礎(chǔ)上,一種具體的實施例中,蓋板保護膜1的保護膜層11可以包括用于覆蓋蓋板2功能孔20部位的孔位區(qū)域,即保護膜層11貼附于蓋板2上后、與蓋板2的功能孔20部位相對應(yīng)的區(qū)域。
如圖1和圖2所示,進一步地,蓋板保護膜1中,清潔單元12可以位于保護膜層11的孔位區(qū)域上;或者,清潔單元12也可以為沿孔位區(qū)域的邊緣設(shè)置;
將清潔單元12設(shè)置于保護膜層11孔位區(qū)域上或者沿孔位區(qū)域的邊緣設(shè)置,可以保證清潔單元12釋放的清潔液120能夠充分作用于蓋板2的功能孔20內(nèi)、已保證對蓋板2功能孔20的清潔效果。
當然,清潔單元12也可以位于保護膜層11的其它區(qū)域上;但優(yōu)選為位于保護膜層11的非邊緣區(qū)域,以避免清潔單元12影響到保護膜層11與蓋板2貼附的可靠性,并且還可以避免清潔液120揮發(fā)出去。
如圖1~圖3所示,在上述各實施例的基礎(chǔ)上,一種具體的實施例中,清潔單元12可以具有設(shè)定的抗壓閾值,即僅當清潔單元12受到的壓力大于其抗壓閾值時,該清潔單元12才會釋放出清潔液120。
通過設(shè)定抗壓閾值,可以避免清潔單元12在微弱的壓力下釋放出清潔液120,從而可以避免導致整機組裝前清潔液120流失過多,或者由于清潔液120流失而產(chǎn)生污染。
具體地,例如,如圖3所示,當清潔單元12為泡棉一類液體吸附型的結(jié)構(gòu)體時,可以選取形變抗力較大的棉類結(jié)構(gòu)體,進而,僅當受到的壓力f大于該結(jié)構(gòu)體的形變抗力時,該結(jié)構(gòu)體才會產(chǎn)生形變,進而才會釋放出清潔液120。
如圖1所示,本發(fā)明實施例還提供了一種蓋板組件,該蓋板組件包括蓋板2,以及上述任一實施例中的蓋板保護膜1,其中,蓋板保護膜1貼附于蓋板2上。
具體地,該蓋板組件可以是蓋板2用于形成電子設(shè)備模組之前的一種產(chǎn)品形態(tài),當進行電子設(shè)備模組組裝時,則可以將該蓋板組件的蓋板保護膜1撕下,以得到潔凈的蓋板2。進一步地,如圖3所示,在將該蓋板組件的蓋板保護膜1撕下之前,可以通過按壓蓋板保護膜1以在蓋板2與保護膜層11之間產(chǎn)生清潔液120,以實現(xiàn)蓋板2的自清潔效果;并且,將蓋板保護膜1從蓋板2上撕下后可以通過清潔單元12擦拭蓋板2功能孔20,以保證蓋板2功能孔20的清潔效果。
本發(fā)明實施例還提供了一種電子設(shè)備模組,如圖2所示,該電子設(shè)備模組包括顯示模組3和蓋板2,以及上述任一實施例中的蓋板保護膜1。
如圖2所示,一種具體的實施例中,顯示模組3包括顯示屏和背光模組;蓋板2包括透明的顯示區(qū)域a和印刷有油墨的油墨區(qū)b;顯示模組貼附于蓋板2的顯示區(qū)域a上;而蓋板保護膜1貼附于蓋板2的油墨區(qū)b上。
具體地,該電子設(shè)備模組是電子設(shè)備整機組裝之前的一種產(chǎn)品形態(tài),當該電子設(shè)備模組用于整機組裝時,則可以將電子設(shè)備模組的蓋板保護膜1撕下,然后再將電子設(shè)備模組與殼體等結(jié)構(gòu)之間組裝起來。進一步地,如圖3所示,在將該電子設(shè)備模組的蓋板保護膜1撕下之前,可以按壓蓋板保護膜1以在蓋板2與保護膜層11之間產(chǎn)生清潔液120,并且,將蓋板保護膜1從蓋板2上撕下后可以通過清潔單元12擦拭蓋板2功能孔20,以保證蓋板2功能孔20的清潔效果。
如圖2所示,在上述實施例的基礎(chǔ)上,一種具體的實施例中,本發(fā)明實施例的電子設(shè)備模組中,蓋板保護膜1貼附于蓋板2印刷有油墨的一側(cè),即蓋板2與顯示模組3組裝的一側(cè);從而,該蓋板保護膜1可以保護蓋板2的油墨層、以避免蓋板2的油墨層在制程、運輸和使用過程中受損。
具體地,本發(fā)明實施例的電子設(shè)備模組可以為手機模組或者平板電腦模組。
本發(fā)明實施例提供的蓋板保護膜,可以使蓋板在制程、運輸和使用過程中保持清潔,從而可以省去組裝線上用于對其進行清潔的清潔工位以及清潔工序,進而可以有效降低制程成本、提高產(chǎn)品的時效性。
顯然,本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明實施例進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣,倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi),則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。