本發(fā)明涉及評(píng)價(jià)方法、搜索方法以及搜索系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

1、一般，在制造系統(tǒng)中，與制造相關(guān)的數(shù)據(jù)非常重要，有價(jià)值。并且，伴隨數(shù)據(jù)分析的工具以及算法的進(jìn)步，為了減少我們的作業(yè)負(fù)擔(dān)而始終謀求精煉且簡(jiǎn)單的方法，這對(duì)于競(jìng)爭(zhēng)激烈的商業(yè)環(huán)境中的積極的成長(zhǎng)是重要的。

2、隨著收集許多信息，數(shù)據(jù)的量存在急速擴(kuò)大的可能性。由此，在分析中需要愈發(fā)多的資源以及時(shí)間，工藝開(kāi)發(fā)有停滯的傾向。

3、這樣的狀況也適用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。例如，為了評(píng)價(jià)蝕刻試驗(yàn)的成果，需要利用了顯微鏡圖像的龐大的分析。

4、過(guò)去以來(lái)，提出顯微鏡圖像的分析方法。例如，專(zhuān)利文獻(xiàn)1公開(kāi)了一種尺寸測(cè)量裝置，縮短尺寸測(cè)量所需的時(shí)間，并且將操作人員引起的誤差排除。專(zhuān)利文獻(xiàn)1中的尺寸測(cè)量裝置使用遍及截面圖像整體來(lái)提取加工構(gòu)造與背景之間的邊界線及/或異種材料間的界面的邊界線的第1圖像識(shí)別模型、輸出用于按構(gòu)成重復(fù)圖案的每個(gè)單位圖案來(lái)區(qū)分從第1圖像識(shí)別模型得到的遍及截面圖像整體的邊界線的信息的第2圖像識(shí)別模型，來(lái)求取按每個(gè)單位圖案預(yù)先定義的多個(gè)特征點(diǎn)的坐標(biāo)，測(cè)量被定義為多個(gè)特征點(diǎn)當(dāng)中的給定的2點(diǎn)間的距離的尺寸。

5、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

6、專(zhuān)利文獻(xiàn)

7、專(zhuān)利文獻(xiàn)1：國(guó)際公開(kāi)第2020/121564

8、在專(zhuān)利文獻(xiàn)1中，在顯微鏡圖像中提取用于評(píng)價(jià)重復(fù)圖案的尺寸的多個(gè)特征點(diǎn)，但關(guān)于圖案的形狀自身的評(píng)價(jià)方法，還留有改善的余地。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、因此，在本發(fā)明中，目的在于，提供用于評(píng)價(jià)截面圖像中出現(xiàn)的形狀的技術(shù)。

2、為了解決上述的課題，代表性的本發(fā)明的評(píng)價(jià)方法之一評(píng)價(jià)目標(biāo)形狀與電子顯微鏡圖像的截面形狀之差，所述評(píng)價(jià)方法的特征在于，具有：第一步驟，測(cè)定所述截面形狀的特征性的尺寸；第二步驟，在所述第一步驟后，作成從所述尺寸得到的所述截面形狀中的所述目標(biāo)形狀的模板；和第三步驟，通過(guò)歸一化的指標(biāo)來(lái)比較所述模板與所述截面形狀的差異。

3、發(fā)明的效果

4、根據(jù)本發(fā)明，能評(píng)價(jià)截面圖像中出現(xiàn)的形狀。

5、上述以外的課題、結(jié)構(gòu)以及效果通過(guò)用于進(jìn)行以下的實(shí)施的方式中的說(shuō)明而得以明確。

技術(shù)特征：

1.一種評(píng)價(jià)方法，評(píng)價(jià)目標(biāo)形狀與電子顯微鏡圖像的截面形狀之差，

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的評(píng)價(jià)方法，其中，

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的評(píng)價(jià)方法，其中，

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的評(píng)價(jià)方法，其中，

5.一種搜索方法，使用機(jī)器學(xué)習(xí)來(lái)搜索用于等離子蝕刻裝置的處理結(jié)果成為目標(biāo)形狀的蝕刻條件，

6.一種搜索系統(tǒng)，使用機(jī)器學(xué)習(xí)來(lái)搜索用于等離子蝕刻裝置的處理結(jié)果成為目標(biāo)形狀的蝕刻條件，

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供評(píng)價(jià)方法、搜索方法以及搜索系統(tǒng)。目的在于，提供用于評(píng)價(jià)截面圖像中出現(xiàn)的形狀的技術(shù)。代表性的本發(fā)明的評(píng)價(jià)方法之一評(píng)價(jià)目標(biāo)形狀與電子顯微鏡圖像的截面形狀之差，評(píng)價(jià)方法的特征在于，具有：第一步驟，測(cè)定所述截面形狀的特征性的尺寸；第二步驟，在所述第一步驟后，作成從所述尺寸得到的所述截面形狀中的所述目標(biāo)形狀的模板；和第三步驟，通過(guò)歸一化的指標(biāo)來(lái)比較所述模板與所述截面形狀的差異。

技術(shù)研發(fā)人員：伊薩克·奧布賴恩特,松田航平,土橋高志,杰克·D·奧戈?duì)柭?斯蒂芬·布萊克
受保護(hù)的技術(shù)使用者：株式會(huì)社日立高新技術(shù)
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/2