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一種內(nèi)存顆粒走線方法與流程

文檔序號(hào):40646956發(fā)布日期:2025-01-10 18:53閱讀:5來源:國(guó)知局
一種內(nèi)存顆粒走線方法與流程

本發(fā)明涉及內(nèi)存顆粒芯片,具體來說是一種內(nèi)存顆粒走線方法。


背景技術(shù):

1、內(nèi)存顆粒芯片,作為動(dòng)態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(dram)的通用形式,已在眾多領(lǐng)域發(fā)揮著關(guān)鍵作用,包括個(gè)人電腦、服務(wù)器、通信設(shè)備和嵌入式系統(tǒng)。ddr內(nèi)存顆粒,即雙倍數(shù)據(jù)速率內(nèi)存,以其高速同步傳輸能力而聞名。隨著技術(shù)的進(jìn)步,ddr內(nèi)存已經(jīng)發(fā)展到了第五代,其數(shù)據(jù)傳輸速率顯著提升,ddr5的單根數(shù)據(jù)線傳輸速率可達(dá)到6.4gbps,地址線速率為3.2gbps。

2、然而,隨著速率的增加,信號(hào)完整性問題,如信號(hào)損耗、反射和串?dāng)_,變得更加突出。為了確保內(nèi)存顆粒的穩(wěn)定運(yùn)行,必須對(duì)走線設(shè)計(jì)進(jìn)行精心的信號(hào)完整性優(yōu)化。

3、參見圖1,內(nèi)存顆粒的地址控制線采用1對(duì)多的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),即一個(gè)控制器的地址控制線連接多個(gè)負(fù)載。這種結(jié)構(gòu)在分支點(diǎn)容易產(chǎn)生阻抗不連續(xù),導(dǎo)致信號(hào)反射,尤其是在第一個(gè)內(nèi)存顆粒分支處。為了減少這種反射,提高信號(hào)完整性,必須對(duì)地址控制線的走線進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì),從而增強(qiáng)系統(tǒng)的穩(wěn)定性。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種內(nèi)存顆粒走線方法,用以減少信號(hào)反射,對(duì)地址控制線的走線進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì),從而增強(qiáng)系統(tǒng)的穩(wěn)定性。

2、為了實(shí)現(xiàn)上述目的,設(shè)計(jì)一種內(nèi)存顆粒走線方法,所述方法步驟如下:s1.?內(nèi)存控制器走線出發(fā)位置施加過孔,并設(shè)置過孔的殘樁長(zhǎng)度l,建立過孔的殘樁長(zhǎng)度l和對(duì)應(yīng)諧振頻率的信號(hào)波長(zhǎng)λ的相互關(guān)系,使其滿足l=1/4*λ,即1/4波長(zhǎng)等于殘樁長(zhǎng)度時(shí),正弦波在經(jīng)過殘樁時(shí)能量會(huì)因?yàn)橄辔徊?80度抵消掉,形成低通濾波的效果;s2.?計(jì)算內(nèi)存顆粒分支的走線長(zhǎng)度ls,以確保滿足殘樁效應(yīng)濾掉的正弦波波長(zhǎng)大于等于4*ls,即l≥ls;s3.計(jì)算過孔的殘樁長(zhǎng)度l最大值,滿足l≤c/(√ε*8*datarate),其中c為光速,ε為pcb介質(zhì)的節(jié)點(diǎn)常數(shù),datarate為信號(hào)的傳輸數(shù)據(jù)速率;s4.?控制過孔殘樁長(zhǎng)度l范圍在ls≤l≤c/(√ε*8*datarate)。

3、本發(fā)明提供的內(nèi)存顆粒走線方法,還有其他技術(shù)特征,其中所述過孔是連接兩個(gè)不同走線層的電氣結(jié)構(gòu)。

4、本發(fā)明提供的內(nèi)存顆粒走線方法,還有其他技術(shù)特征,其中所述步驟s2具體如下:通過確認(rèn)4*ls倍波長(zhǎng)對(duì)應(yīng)的正弦波頻率及以下頻率,使得該走線長(zhǎng)度?ls對(duì)應(yīng)的信號(hào)接近直流電壓,從而減少反射或反射幅度極小,確保濾掉的正弦波波長(zhǎng)滿足大于等于4*ls,以消除或減輕信號(hào)反射,進(jìn)而提高信號(hào)完整性并增強(qiáng)系統(tǒng)穩(wěn)定性。

5、本發(fā)明提供的內(nèi)存顆粒走線方法,還有其他技術(shù)特征,其中所述步驟s3具體如下:過孔的殘樁長(zhǎng)度l越大,則對(duì)應(yīng)的濾波頻率越低,即信號(hào)的帶寬也越小,信號(hào)的帶寬接近于0.5/rt,rt為信號(hào)的上升時(shí)間,帶寬小了就會(huì)導(dǎo)致上升時(shí)間變大,會(huì)影響地址控制信號(hào)的時(shí)序,地址控制線的上升時(shí)間需要小于等于1/4*ui,?ui為信號(hào)切換的的最小時(shí)間間隔,ui=1/datarate,其中datarate為信號(hào)的傳輸數(shù)據(jù)速率,單位為bps,系統(tǒng)穩(wěn)定工作的最小帶寬為2*datarate,?得出對(duì)應(yīng)的最小帶寬波長(zhǎng)為:?λ=c/(√ε*2*datarate),其中c為光速,ε為pcb介質(zhì)的節(jié)點(diǎn)常數(shù),根據(jù)步驟s1得出l≤c/(√ε*8*datarate)。

6、本發(fā)明同現(xiàn)有技術(shù)相比,其優(yōu)點(diǎn)在于:

7、通過采用過孔殘樁產(chǎn)生的低通濾波效果,可以有效降低信號(hào)在內(nèi)存顆粒地址控制走線的分支點(diǎn)處的帶寬,從而減少信號(hào)反射,增強(qiáng)信號(hào)的完整性。通過精確設(shè)計(jì)殘樁的長(zhǎng)度,我們可以確定一個(gè)長(zhǎng)度范圍,在這個(gè)范圍內(nèi),既能有效降低反射,又能滿足系統(tǒng)穩(wěn)定運(yùn)行所需的最小帶寬要求。此外,這種設(shè)計(jì)方法在實(shí)際操作中也具有較高的可行性。



技術(shù)特征:

1.一種內(nèi)存顆粒走線方法,其特征在于所述方法步驟如下:

2.如權(quán)利要求1所述的一種內(nèi)存顆粒走線方法,其特征在于所述過孔是連接兩個(gè)不同走線層的電氣結(jié)構(gòu)。

3.如權(quán)利要求1所述的一種內(nèi)存顆粒走線方法,其特征在于所述步驟s2具體如下:通過確認(rèn)4*ls倍波長(zhǎng)對(duì)應(yīng)的正弦波頻率及以下頻率,使得該走線長(zhǎng)度?ls對(duì)應(yīng)的信號(hào)接近直流電壓,從而減少反射或反射幅度極小,確保濾掉的正弦波波長(zhǎng)滿足大于等于4*ls,以消除或減輕信號(hào)反射,進(jìn)而提高信號(hào)完整性并增強(qiáng)系統(tǒng)穩(wěn)定性。

4.如權(quán)利要求1所述的一種內(nèi)存顆粒走線方法,其特征在于所述步驟s3具體如下:過孔的殘樁長(zhǎng)度l越大,則對(duì)應(yīng)的濾波頻率越低,即信號(hào)的帶寬也越小,信號(hào)的帶寬接近于0.5/rt,rt為信號(hào)的上升時(shí)間,帶寬小了就會(huì)導(dǎo)致上升時(shí)間變大,會(huì)影響地址控制信號(hào)的時(shí)序,地址控制線的上升時(shí)間需要小于等于1/4*ui,?ui為信號(hào)切換的的最小時(shí)間間隔,ui=1/datarate,其中datarate為信號(hào)的傳輸數(shù)據(jù)速率,單位為bps,系統(tǒng)穩(wěn)定工作的最小帶寬為2*datarate,?得出對(duì)應(yīng)的最小帶寬波長(zhǎng)為:?λ=c/(√ε*2*datarate),其中c為光速,ε為pcb介質(zhì)的節(jié)點(diǎn)常數(shù),根據(jù)步驟s1得出l≤c/(√ε*8*datarate)。


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及內(nèi)存顆粒芯片技術(shù)領(lǐng)域,具體來說是一種內(nèi)存顆粒走線方法,方法如下:S1內(nèi)存控制器走線出發(fā)位置施加過孔,并設(shè)置過孔的殘樁長(zhǎng)度L,建立過孔的殘樁長(zhǎng)度L和對(duì)應(yīng)諧振頻率的信號(hào)波長(zhǎng)λ的相互關(guān)系,使其滿足L=1/4*λ,即1/4波長(zhǎng)等于殘樁長(zhǎng)度時(shí),正弦波在經(jīng)過殘樁時(shí)能量會(huì)因?yàn)橄辔徊?80度抵消掉,形成低通濾波的效果;S2計(jì)算內(nèi)存顆粒分支的走線長(zhǎng)度Ls,以確保滿足殘樁效應(yīng)濾掉的正弦波波長(zhǎng)大于等于4*Ls,即L≥Ls;S3計(jì)算過孔的殘樁長(zhǎng)度L最大值;S4控制過孔殘樁長(zhǎng)度L范圍。本發(fā)明優(yōu)點(diǎn)在于:降低信號(hào)在內(nèi)存顆粒地址控制走線的分支點(diǎn)處的帶寬,從而減少信號(hào)反射,增強(qiáng)信號(hào)的完整性。

技術(shù)研發(fā)人員:羊楊
受保護(hù)的技術(shù)使用者:恒為科技(上海)股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/9
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